「fig」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

The bump connection 31 is formed e.g. like a mesh (see Fig. 31a).例文帳に追加

例えばバンプ接続部３１をメッシュ状に形成する（３１ａ参照）。 - 特許庁

Fig.6(B) shows images to be displayed in initial login.例文帳に追加

（Ｂ）には、最初のログイン時に表示される画像選択肢が示されている。 - 特許庁

The water-absorbing resin in the felt may either stay in the front batt layer 6 (Fig. 2), or it may also reach the base material or the rear batt layer 7 (Fig. 3).例文帳に追加

吸水性樹脂は、フェルト中、表バット層６中に留まっても（図２）、基材あるいは裏バット層７にまで含有してもよい（図３）。 - 特許庁

The manufacturing process of an intermediate shaft (spline telescopic shaft) 5 includes a sliding process (Fig. 4(g)).例文帳に追加

中間軸５の製造工程は、摺動工程を含む（図４（ｇ））。 - 特許庁

The display section 303 (Fig.1 (a) hatching section) has a red display.例文帳に追加

表示部３０３（図１（ａ）ハッチング部）には、赤色の表示が設けられる。 - 特許庁

Marks 1 to 4 in Fig. 1 indicate the first layer to the fourth layer, respectively.例文帳に追加

図１において符号１〜４はそれぞれ第１層〜第４層を示す。 - 特許庁

An intensity adjustment part 13 receives the intensity modulated light (Fig. (b)) outputted from the laser diode 12 and outputs intensity modulated light (Fig. (c)).例文帳に追加

強度調整部１３は、レーザダイオード１２より出力された強度変調光（図（ｂ））を入力して、強度変調光（図（ｃ））を出力する。 - 特許庁

Side walls 18 are formed to cover the side walls of the trenches 5 (Fig. 1 (C)).例文帳に追加

トレンチ５の側壁を被うサイドウォール１８を形成する（図１（Ｃ））。 - 特許庁

The mother 2 is removed from the layered body to obtain a stamper 10 (Fig. F).例文帳に追加

そして積層体からマザー２を剥離して、スタンパ１０を得る（図（Ｆ））。 - 特許庁

A control computer C stores a map indicated by a graph in Fig. 1(b).例文帳に追加

制御コンピュータＣは、図１（ｂ）にグラフで示すマップを記憶している。 - 特許庁

4) The Fourier-transformed spectrum, which is corrected, is inversely Fourier-transformed (see Fig. (e)).例文帳に追加

補正されたフーリエ変換スペクトルを逆フーリエ変換する（ｅ参照）。 - 特許庁

Values of "L flag" for respective frames are given on each axis of abscissa in Fig.例文帳に追加

図９の各横軸には各フレーム毎の「Ｌフラグ」の値を付している。 - 特許庁

Further, a bar-shaped negative electrode 4 and an insulating film 5 of a single negative electrode shown by the Fig.3, which is not an opposite electrode of the positive electrode 1, are located on a negative electrode plate shown in the Fig.2.例文帳に追加

更に、正電極（図１）を対抗電極としない単独負電極（図３の４，５）が負電極板（図２）に位置している。 - 特許庁

When the electrophoresis display device is manufactured, a conductive film 6 is formed at a substrate 1a (see Fig. 1(a)), mask layers 2 and 7 are formed (see Fig. 1(b)) and etching of the conductive film 6 is performed (see Fig. 1(c)).例文帳に追加

電気泳動表示装置の製造に際しては、基板１ａに導電性膜６を形成し（図１（ａ） 参照）、マスク層２，７を形成し（同図（ｂ） 参照）、導電性膜６のエッチングを行う（同図（ｃ） 参照）。 - 特許庁

The steel cord 11 covered with rubber is conveyed from a right side of Fig. to a left side.例文帳に追加

ゴム被覆スチールコード11は図の右方から左方へ搬送される。 - 特許庁

A source amplifier for liquid crystal devices as shown in Fig. 1 is provided.例文帳に追加

そこで、図１に示す液晶表示装置用ソースアンプを提供する。 - 特許庁

Fig.3 shows a configuration example of a transmission characteristic adjusting apparatus 11.例文帳に追加

図３は、伝送特性調整装置１１の構成例を示している。 - 特許庁

Then, a protecting film 61 is formed on the wafer W by feeding a protecting gas (S4 in Fig.8), and the wafer W is sent to an exposure process (S5 in Fig.8).例文帳に追加

その後，保護ガスを供給してウェハＷ上に保護膜６１を形成し（図８中のＳ４），露光処理に移行する（図８中のＳ５）。 - 特許庁

The contact point which is pushed when the center section (Fig. 1-5) is mounted on the key, and a protruded part (Fig. 1-10) is installed so that the contact point of the center section is not pushed when the contact point of the other direction (Fig. 1-2) is pushed.例文帳に追加

中心部分を押した際に押される接点（図１−５）を取り付け、他の方向の接点（図１−２）が押されたときには中心部分の接点を押されないように、突起部（図１−１０）を設ける。 - 特許庁

Next, as illustrated in Fig.1(h), the photoresist pattern 104 is removed.例文帳に追加

次に、図１（ｈ）に示されるように、フォトレジストパターン１０４を除去する。 - 特許庁

After log writing, data are written in a recording area 230 (Fig.(B)).例文帳に追加

ログ書込みの後、記録領域２３０にデータ書込みを行う；図１（Ｂ）。 - 特許庁

Fig. 1 shows a terminal device for setting the parameter of the communication operation.例文帳に追加

図１は通信動作のパラメータの設定を行う端末装置を示す。 - 特許庁

Consequently, the principal part of an optical module as illustrated in Fig. 2.B can be formed.例文帳に追加

これにより図２．Ｂのような光モジュール主要部が形成される。 - 特許庁

The battery 2 is stopped after one turn from this time of sensing-Fig. (c).例文帳に追加

電池２はこの検出時から１回転された後に停止される（ｃ）。 - 特許庁

A right side chamber 10 in Fig.1 shows the chamber in such a situation.例文帳に追加

この状態のチャンバー１０を図１の右側のチャンバーで示している。 - 特許庁

A resin layer 602 is formed on one surface of a substrate 601 (Fig. 5(A)) of single-crystal silicon cut out of an ingot (Fig. 5(B)) to obtain a flat surface 602b by cutting the surface of the resin layer 602 (Fig. 5 (C)).例文帳に追加

インゴットから切り出された単結晶シリコンの基板６０１（図５（Ａ））の一方の面に樹脂層６０２を形成し（図５（Ｂ））、この樹脂層６０２の表面を切削により平坦化し、平坦面６０２ｂを得る（図５（Ｃ））。 - 特許庁

Fig. 4 shows integrated trellis expressions for three hours of a PR12221 channel.例文帳に追加

図４は、PR12221チャネルの３時刻分のトレリス表現を統合したものである。 - 特許庁

The casing 11 can take the service position protruded to over the front bumper 1, shown in Fig. 5, and the accommodation position accommodated inside the front bumper 1, shown in Fig. 6.例文帳に追加

ケーシング１１は、前バンパ１の上方に突出した使用位置（図５）と、前バンパ１内に格納された格納位置（図６）とをとり得る。 - 特許庁

In a semiconductor-element manufacturing method, a gate insulating film 2 is formed on a silicon substrate 1 (Fig.1(a)).例文帳に追加

シリコン基板１上にゲート絶縁膜２を形成する（図１（ａ））。 - 特許庁

In Fig., a and b (hatched areas) show the class of the search result document.例文帳に追加

図３において、ａ、ｂ（斜線部）が検索結果文書のクラスである。 - 特許庁

After the spaces 41, 42 are made in the liquid-tight state by the IPA (as shown in Fig.5(b)), chemical solution is supplied to the spaces 41, 42 (as shown in Fig.5(c)).例文帳に追加

空間４１，４２がＩＰＡ液により液密状態にされた後（（ｂ）参照）、空間４１，４２に薬液が供給される（（ｃ）参照）。 - 特許庁

A control computer C1 stores a map indicated by a graph in Fig. 1(b).例文帳に追加

制御コンピュータＣ１は、図１（ｂ）にグラフで示すマップを記憶している。 - 特許庁

The channel 14 is formed in a staggered shape, having a prescribed width from the upstream side (shown on the Y1 side in Fig.) to the downstream side (shown on the Y2 side in Fig.).例文帳に追加

流路１４は上流側（図示Ｙ１側）から下流側（図示Ｙ２側）にかけて所定幅を有したジグザグ形状で形成されている。 - 特許庁

The silicon substrate is subjected to a heating treatment in a gas comprising hydrogen {Fig.(d)}.例文帳に追加

シリコン基板を水素を含有するガス中で加熱処理する〔（ｄ）図〕。 - 特許庁

As shown in Fig. (G) and Fig. (H), a row of nozzle holes 28 is formed from the rear of the plate material 20 by laser beam machining.例文帳に追加

そして、（Ｇ）図及び（Ｈ）図に示すように、板状プレート材料２０の後方からレーザー加工にて１列のノズル孔２８が形成される。 - 特許庁

The film of a photoresist 1 is made on a silicon oxide film 2 (Fig. 2 (a)).例文帳に追加

酸化シリコン膜２の上にフォトレジスト１の膜を形成する（図２（ａ））。 - 特許庁

The water-absorbing resin in the felt may either stay in the front batt layer 2 (Fig.1), or it may reach the base material or the rear batt layer 3 (Fig.2).例文帳に追加

吸水性樹脂は、フェルト中、表バット層２中に留まっても（図１）、基材あるいは裏バット層３にまで含有してもよい（図２）。 - 特許庁

The resist film, silicon nitride film N and sacrifice film G are removed (Fig.7(h)).例文帳に追加

レジスト膜、シリコン窒化膜Ｎ及び犠牲膜Ｇを除去する（図７（ｈ））。 - 特許庁

2) The group delay time ripple spectrum is Fourier-transformed by wavelengths (see Fig. (b)).例文帳に追加

該群遅延時間リップルスペクトルを波長でフーリエ変換する（ｂ参照）。 - 特許庁

Typical plots of the nitrate concentration versus time are presented in Fig. 4.例文帳に追加

硝酸 濃度対時間の典型的なプロットが図4に提示されている。 - 英語論文検索例文集

The results of investigations on three different heavy metals are shown in Fig. 9.例文帳に追加

3つの異なった重金属についての調査の結果は図9に表す。 - 英語論文検索例文集

The results of investigations on three different heavy metals are shown in Fig. 9.例文帳に追加

3つの異なった重金属についての調査の結果は，図9に表す。 - 英語論文検索例文集

Fig. 3 is a chart showing the example of the configuration of such a hysteresis loop.例文帳に追加

図３は、この様なヒステリシスループの構成例を例示するグラフである。 - 特許庁

Based thereupon, a kind of fuel is determined by referring to the map (Fig. 4).例文帳に追加

これらに基づき、マップ（図４）を参照して、燃料種を判定する。 - 特許庁

The connecting member 29 is removed from each retaining member 22, 23 (Fig. 3 (c)).例文帳に追加

連結部材２９を各保持部材２２、２３から取り外す（図３（ｃ））。 - 特許庁