hydrofluoric acidの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 810件
Then, the silicon substrate is subjected to anodic oxidation in an electrolyte containing hydrofluoric acid in a porous area formation step, thereby a porous silicon area is selectively formed in an area surrounding the partial area and a surface thin film developing various colors is formed between the porous silicon area and the mask thin film.例文帳に追加
そして、シリコン基板は、多孔質領域形成工程において、弗酸を含有する電解液中で陽極酸化されることにより、一部領域を含む周囲領域に選択的に多孔質シリコン領域が形成され、多孔質シリコン領域とマスク薄膜との間に多彩な発色を示す表面薄膜が形成される。 - 特許庁
In a semiconductor substrate after STI formation as element isolation, a channel dope step is performed on the memory cell of a memory region before gate oxidation, and wet etching is performed for adjusting an STI step using a hydrofluoric acid containing solution in a state with a resist after a predetermined impurity is completely injected, so that a difference between the STI protruding amounts of the memory region and the logic region becomes approximately equal.例文帳に追加
素子分離としてのＳＴＩ形成後の半導体基板において、メモリ領域のメモリセル部に対するチャネルドープ工程をゲート酸化前に行い、所定の不純物注入完了後にレジスト付きの状態にてフッ酸含有の溶液によりＳＴＩ段差を調整するためウエットエッチングを行い、メモリ領域とロジック領域のＳＴＩ突き出し量の差が同程度になるようにした。 - 特許庁
To provide a separator for a battery having high separator characteristics capable of preventing ignition of the battery caused by high temperature, overcharge, or generation of dendrites, catching water causing the generation of hydrofluoric acid (HF), catching HF even if HF is generated to prevent the capacity deterioration or cycle life deterioration in a secondary battery such as a lithium secondary battery, and provide a battery having high battery characteristics using this separator.例文帳に追加
リチウム２次電池のような２次電池において、高温時、過充電時やデンドライト生成による電池の発火を防止することができ、フッ化水素酸（ＨＦ）の発生の原因となる水を捕捉し、ＨＦが発生した場合でもこれを捕捉し電池の容量劣化やサイクル劣化を防止することができる良好なセパレータ特性を有する電池用セパレータ、及びそれを用いた電池特性が良好な電池の提供。 - 特許庁
A method for manufacturing the wafer for the solar battery by making at least one surface of the semiconductor wafer porus, comprises: a first step (S1) for contacting at least the one surface of the semiconductor wafer with a lower alcohol solution; and a second step (S2) for contacting at least the one surface of the semiconductor wafer with a hydrofluoric acid including metal ions after the first step.例文帳に追加
本発明は、半導体ウェーハの少なくとも片面を多孔質化して太陽電池用ウェーハを製造する方法であって、前記半導体ウェーハの少なくとも前記片面に低級アルコール液を接触させる第１工程（Ｓ１）と、該第１工程の後に、前記半導体ウェーハの少なくとも前記片面に金属イオンを含むフッ化水素酸を接触させる第２工程（Ｓ２）と、を有することを特徴とする。 - 特許庁
For the cleaning method of washing away the film to be removed which is made of the metal oxide film sticking on the surface of an object to be washed which is made of at least one material selected from a group of aluminum, aluminum alloy, and nickel alloy; a cleaning solution is used which contains at least ammonium fluoride, hydrofluoric acid, and ethylene glycol or consists of an ammonium acetic acid solution.例文帳に追加
アルミニウムとアルミニウム合金とニッケルとニッケル合金とよりなる群より選択される少なくとも１つの材料よりなる洗浄対象物の表面に付着した金属酸化膜よりなる除去対象膜を洗浄により除去するクリーニング方法において、少なくともフッ化アンモニウムとフッ化水素酸とエチレングリコールとを含むクリーニング溶液またはフッ化アンモニウム酢酸溶液よりなるクリーニング溶液を用いる。 - 特許庁
In this treating method, the water solution of ammonium fluoride produced in a producing process of tantalum/niobium oxides by a hydrofluoric acid dissolution-solvent extraction method is regenerated into dilute ammonia water by slaked lime.例文帳に追加
フッ酸溶解−溶媒抽出法によるタンタル、ニオブ酸化物の製造工程で生成するフッ化アンモニウム水溶液を消石灰で希アンモニア水に再生させる方法であって、再生工程でフッ化アンモニウム水溶液中のフッ素濃度が０．５〜２ｇ／ｌになるように消石灰を添加し、下記の反応式による反応後、精密ろ過を行うことによりＮＨ_４ＯＨを再生し、得られた希アンモニア水をリサイクルに供することを特徴とするフッ化アンモニウム水溶液の処理方法。 - 特許庁
The method for producing the cerium-based abrasive comprises a step of mixing a roasted raw material of the cerium-based abrasive with hydrofluoric acid.例文帳に追加
本発明は、焙焼後のセリウム系研摩材原料とフッ化水素酸との混合処理工程を有するセリウム系研摩材の製造方法において、該セリウム系研摩材原料が含有するＳｉのモル数をＳｉ^＊、フッ化水素酸のモル数をＨＦ^＊としたとき、ＨＦ^＊／４Ｓｉ^＊が１．０以上で、該セリウム系研摩材原料とフッ化水素酸との混合処理前又は混合処理後に、（ｉ）該セリウム系研摩材原料の湿式分級処理、（ｉｉ）該セリウム系研摩材原料をスラリーとし、所定のストークス径以上の粗粒子を除去する沈降分離処理。 - 特許庁
To provide a lithium secondary battery using a positive electrode, a negative electrode and a nonaqueous solvent, having superior charge/discharge property without giving ill effect on the charge-discharge property of the lithium secondary battery even if a trace of water in the battery reacts with a dissolved substance containing fluorine to produce impurities including hydrofluoric acid when the nonaqueous electrolyte uses the dissolved substance containing fluorine.例文帳に追加
正極と、負極と、非水系溶媒を用いた非水電解質とを備えたリチウム二次電池における上記の非水電解質中にフッ素を含む溶質を用いた場合において、電池内における微量の水分がフッ素を含む溶質と反応してフッ酸等の不純物が生じたとしても、リチウム二次電池における充放電特性に悪影響を及ぼすということがなく、充放電サイクル特性に優れたリチウム二次電池が得られるようにする。 - 特許庁
This process comprises step (A) in which ammonia is added to the raw material liquid comprising hydrofluoric acid solution containing tantalum and/or niobium to precipitate tantalum hydroxide and/or niobium hydroxide and the precipitate is filtered, and step (B) in which calcium hydroxide is added to the filtrate obtained by the above filtration, generated ammonia is recovered through aeration and calcium fluoride precipitate formed is recovered by filtration.例文帳に追加
（Ａ）タンタルおよび／またはニオブを含有するフッ酸溶液からなる原料液にアンモニアを添加して水酸化タンタルおよび／または水酸化ニオブを沈殿させ、この沈殿物を濾別する工程と、（Ｂ）前記濾別により得られた濾液に水酸化カルシウムを添加して、発生したアンモニアを曝気により回収するとともに、生成したフッ化カルシウム沈殿を濾別により回収する工程とを含んでなる製造方法により、上記課題を解決する。 - 特許庁
In the method for simultaneously forming the contact holes on a gate electrode on the Si active layer and via an insulating SiO_2 film, oxide films that are left in the irregularities of the Si active layer are removed effectively, by subsequently performing sputter etching by Ar gas with a sputtering device and continuously performing sputtering deposition after performing reactive ion etching by a fluorine gas system and wet etching by a buffered hydrofluoric acid.例文帳に追加
Ｓｉ活性層上、及び絶縁ＳｉＯ_２膜を介してゲート電極上にコンタクト孔を同時に形成する方法において、フッ素ガス系による反応性イオンエッチング及びバッファードフッ酸によるウェットエッチングの後に、引き続いてスパッタ装置によりＡｒガスによるスパッタエッチング、及びスパッタ成膜を連続して行うことにより、Ｓｉ活性層の凹凸部に残留する酸化膜を効果的に除去する。 - 特許庁
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