「hydrofluoric acid」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

4. These types of work which handle corrosive harmful substances such as chlorine, nitric acid, caustic alkali, sulphuric acid and acetic acid and harmful substances which stimulate the skin such as hydrofluoric acid, carbolic acid, ammonia, chlorobenzene, and formalin injection-type eye washers. 例文帳に追加

４　上欄の業務のうち、塩酸、硝酸、苛性アルカリ、硫酸、さく酸等腐蝕性の有害物又はふつ化水素酸、石炭酸、アンモニア、クロルベンゼン、ホルマリン等皮ふ刺戟性の有害物を取扱うものにあつては、噴射式洗眼器を備え付けること。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

The yttria sintered compact is manufactured by dipping yttria sintered compact after being worked into the aqueous solution of the acids of one or more kinds selected from hydrochloric acid, hydrochloric acid hyper hydrate, hydrofluoric acid, nitric acid and fluoronitric acid to etch the surface of the yttria sintered compact.例文帳に追加

イットリア焼結体は、イットリア焼結体を加工した後に塩酸、塩酸過水、ふっ酸、硝酸、ふっ硝酸から選ばれる１種以上の酸水溶液に浸漬せしめ、イットリア焼結体の表面をエッチングして製造される。 - 特許庁

To provide a processing apparatus regenerating phosphoric acid in use in a tank by a circulation filtration path and an apparatus for regenerating phosphoric acid using hydrofluoric acid, in which a recovery time and an amount of recovery for recovering to the apparatus for regenerating phosphoric acid side are easy to be automated, and impurity in the phosphoric acid can be reduced and maintained constant.例文帳に追加

槽内の使用中の燐酸を、循環濾過経路部とフッ酸を用いる燐酸再生装置で再生する処理装置において、燐酸再生装置側へ回収する回収時及び回収量を自動化し易くかつ燐酸中の不純物を低減したり一定に維持可能にする。 - 特許庁

To provide a method for pickling a ferritic stainless steel sheet including a step of performing pickling with a mixed acid liquid composed of hydrofluoric acid and nitric acid after pickling with sulfuric acid, the method capable of suppressing the generation of sludge without controlling the concentration of iron ions in the mixed acid liquid, and providing satisfactory pickling performance.例文帳に追加

硫酸による酸洗の後に、フッ化水素酸と硝酸からなる混酸液で酸洗する工程を有するフェライト系ステンレス鋼板の酸洗方法として、混酸液の鉄イオン濃度を調整することなく、スラッジの発生を抑制でき、良好な酸洗性能が得られる方法を提供する。 - 特許庁

The cleaning method is carried out by preparing an oxidizing solution containing the oxidizing substance by any of a method of electrolyzing a sulfuric solution, a method of electrolyzing a sulfuric acid to which hydrofluoric acid is added or a method of mixing the sulfuric aid solution and hydrogen peroxide solution, and supplying the oxidizing solution and the hydrofluoric acid to the surface of a material to be cleaned.例文帳に追加

また、硫酸溶液を電気分解する方法、フッ酸が添加された硫酸溶液を電気分解する方法、若しくは、硫酸溶液と過酸化水素水とを混合する方法のいずれかの方法により、酸化性物質を含む酸化性溶液を生成し、前記酸化性溶液と、フッ酸と、を洗浄対象物の表面に供給すること、を特徴とする洗浄方法が提供される。 - 特許庁

This method for producing highly pure tantalum oxide by a hydrofluoric acid dissolution-solvent extraction method using tantalum-containing sludge comprises subjecting the tantalum-containing sludge to an acid treatment or an alkali treatment to enhance the grade of tantalum and subsequently subjecting the product to a dissolution process using hydrofluoric acid (HF).例文帳に追加

タンタル酸化物含有スラッジを原料とするフッ酸溶解−溶媒抽出法によるタンタル酸化物含有スラッジを酸処理またはアルカリ処理を行ってタンタル品位を高めた後、フッ化水素酸（ＨＦ）による溶解工程に供することを特徴とする高純度タンタル酸化物の製造方法。 - 特許庁

This manufacturing method comprises immersing the steel wire rod for the valve spring into the liquid of strong acids selected from nitric acid, nitric-hydrofluoric acid, or sulfuric-hydrofluoric acid, to chemically remove the surface ferrite layer of the above steel wire rods, and then subjecting it to soft annealing, pickling, wire drawing, and further quenching and tempering.例文帳に追加

弁ばね用鋼線材を、硝酸、弗硝酸あるいは弗硫酸から選択される強酸液に浸漬して前記鋼腺材の地鉄表面層を化学的切削により除去し、しかる後に軟化焼鈍、酸洗を施して伸線を行ない、さらに焼入れ焼戻しを行なうことを特徴とする弁ばね用鋼線材の製造方法。 - 特許庁

This porous coordination polymer is obtained by reacting metallic chromium or a chromium salt with trimesic acids together with an acid (excluding hydrofluoric acid) having a pKa value smaller than pKa values of the trimesic acids.例文帳に追加

金属クロムまたはクロム塩と、トリメシン酸類と、前記トリメシン酸類のｐＫａ値よりも小さいｐＫａ値を有する酸（フッ酸を除く）とを反応させることにより得られることを特徴とする多孔性配位高分子とする。 - 特許庁

When necessary, pretreatment by alkali salt immersion and sodium sulfate electrolysis, and posttreatment by immersion pickling with a nitric acid-hydrofluoric acid mixed aqueous solution are combined.例文帳に追加

必要に応じて、アルカリソルト浸漬および硫酸ナトリウム電解による前処理や、硝ふっ酸混合水溶液での浸漬酸洗の後処理を組み合わせる。 - 特許庁

As flux components for aluminum soldering, fluorinated metallic salts of 3.0 to 5.0 mass%, the metallic salts of organic acid of 10.0 to 30.0 mass% and the balance hydrofluoric acid salts of amino alcohol are mixed.例文帳に追加

アルミはんだ付け用フラックス成分として、フッ素化金属塩類３．０〜５．０質量％、有機酸の金属塩類１０．０〜３０．０質量％、アミノアルコールのフッ化水素酸塩類残部を混合する。 - 特許庁

An etchant containing a hydrofluoric acid, a polyhydric carboxylic acid, and a hydrogen peroxide solution dissolves the zirconium oxide and/or hafnium oxide without damaging other semiconductor materials, such as the silicon oxide, silicon, etc.例文帳に追加

フッ化水素酸、多価カルボン酸及び過酸化水素水を含んでなるエッチング剤では、酸化ケイ素、シリコン等の半導体材料を侵すことなく、酸化ジルコニウム及び／又は酸化ハフニウムを溶解することができる。 - 特許庁

Ozone water from an ozone water supply source 43A, and hydrofluoric acid from a fluoric acid supply source 43B are alternately supplied to the upper and lower surfaces of the wafer W.例文帳に追加

基板Ｗの上下面に対して、オゾン水供給源４３Ａからのオゾン水と、フッ酸供給源４３Ｂからのフッ酸とが交互に供給される。 - 特許庁

In a nitric acid and hydrofluoric acid-containing water solution for the pickling of titanium or a titanium alloy, a compound in which a hydrophilic group and a fluorinated unsaturated aliphatic hydrocarbon group are bonded is further added.例文帳に追加

チタンまたはチタン合金の酸洗用の硝酸およびフッ化水素酸含有水溶液であって、親水基とフルオロ化不飽和脂肪族炭化水素基とが結合した化合物が更に添加されている。 - 特許庁

The fluorine-containing liquid preferably includes at least one liquid selected from a hydrofluoric acid solution and a mixture solution of a soluble fluoride and sulfuric acid.例文帳に追加

フッ素含有液を、フッ化水素酸溶液と、可溶性フッ化物及び硫酸の混合溶液とから選択される少なくとも１種とする態様等が好ましい。 - 特許庁

A polysilicon film surface processing agent is substantially consisting of hydrofluoric acid of 0.01 to 0.5 mass% or ammonium fluoride of 0.5 to 5 mass%, nitric acid of 50.0 to 80.0 mass% and water.例文帳に追加

０．０１〜０．５質量％のフッ化水素酸又は０．５〜５質量％のフッ化アンモニウム、５０．０〜８０．０質量％の硝酸及び水とから本質的になる、ポリシリコン膜の表面処理剤。 - 特許庁

The photosensitive hydrofluoric acid etching material comprises a resin having at least two kinds of repeating units expressed by formula (1) and a photoacid generating agent which generates an acid by light.例文帳に追加

感光性フッ酸エッチング材料は、下記式（１）で表される少なくとも２種の繰り返し単位を有する樹脂と、光により酸を発生する光酸発生剤とを備える。 - 特許庁

Thereby, even in a soaking test in hydrofluoric acid, sulfuric acid or LLC, the gasket never peels off from the separator and satisfactory adhesiveness is maintained to say nothing of initial adhesiveness.例文帳に追加

これにより初期接着性、長期のフッ酸、硫酸、ＬＬＣ中での浸漬試験においてもパッキンがセパレータから剥離することはなく良好な接着性を保持する。 - 特許庁

Before the intermediate layer is formed on the titanium electrode substrate, an oxide coating film on the surface is removed by treating with hydrofluoric acid and successively etched with concentrated sulfuric acid to enhance the surface roughness.例文帳に追加

チタンの電極基板の上に中間層を形成するのに先立って、フッ酸で処理して酸化皮膜を除去し、つづいて濃硫酸でエッチングして表面粗度を高める。 - 特許庁

When etching is carried out furthermore using hydrofluoric acid of 3-6% concentration, selective etching by acid progresses because only the part of a latent image 14A is crystallized selectively and a nozzle 20 is formed as a through hole.例文帳に追加

さらに濃度３〜６％の弗酸でエッチングを行うと、潜像１４Ａの部分だけ選択的に結晶化しているので酸による選択エッチングが進行し、ノズル２０が貫通孔として形成される。 - 特許庁

The surface of the silicon boat is etched in the etching process with the mixed liquid of nitric acid and hydrofluoric acid to remove a processing distortion layer containing metal impurities and metal impurities (not mixed with an organic matter) on the processing distortion layer.例文帳に追加

エッチング工程で硝酸及びフッ酸の混合液により、シリコンボートの表面をエッチングして、金属不純物を含有する加工歪層及び加工歪層上の金属不純物（有機物と混ざっていないもの）を除去する。 - 特許庁

As the solvent 36, a solvent containing hydrofluoric acid, aqueous hydrogen peroxide and hydrochloric acid, all of which can certainly elute Cu causing the deterioration of the characteristics of the silicon wafer 10, is used.例文帳に追加

溶媒３６は、シリコンウェーハ１０の特性劣化の原因となるＣｕを確実に溶出させることが可能な、フッ化水素酸、過酸化水素水、および塩酸を含む溶媒を用いる。 - 特許庁

A plurality of third lines (an ammonia-water supply line 48, a hydrochloric-acid supply line 52, and a hydrofluoric-acid supply line 56) are branched from the second line 44.例文帳に追加

第２のライン４４から複数の第３のライン（アンモニア水供給ライン４８、塩酸供給ライン５２およびフッ酸供給ライン５６）が分岐している。 - 特許庁

Wet treatment with a solution containing hydrofluoric acid and nitric acid is applied after applying wet treatment with concentrated HF and, subsequently, the wet treatment with the concentrated HF is applied again.例文帳に追加

濃厚ＨＦによるウエット処理を行った後、フッ化水素酸および硝酸を含む水溶液によるウエット処理を行い、ついで再度、濃厚ＨＦによるウエット処理を行う。 - 特許庁

In this method, after a silicon-doped lead-zirconium-titanium oxide sintered compact is decomposed by using tetramethylammonium hydroxide, the decomposed product is changed into a solution by adding nitric acid and a small amount of hydrofluoric acid to the product.例文帳に追加

けい素添加−鉛−ジルコニウム−チタン酸化物焼結体を水酸化ヒテトラメチルアンモニウムで分解した後、硝酸と微量のふっ化水素酸を加えて溶液化することを特徴とする。 - 特許庁

The surface of a stock 1 made of titanium or a titanium alloy after hot working is subjected to primary blast treatment 10, is subjected to pickling treatment 12 with a mixed solution of hydrofluoric acid and nitric acid and is next subjected to secondary blast treatment 14.例文帳に追加

熱間加工後のチタン又はチタン合金製素材１の表面に第１のブラスト処理１０を施し、フッ酸と硝酸の混合溶液により酸洗処理１２を施し、次いで第２のブラスト処理１４を施す。 - 特許庁

To provide a technique utilizing a nitric acid waste solution, a hydrogen fluoride waste aqueous solution and a nitric-hydrofluoric acid waste solution used for etching and cleaning of electronic parts as a pickling solution for stainless steel.例文帳に追加

電子部品のエッチングや洗浄に用いられた硝酸廃液、フッ化水素水廃液、硝フッ酸廃液をステンレス鋼の酸洗液として利用する技術を提案する。 - 特許庁

By this constitution, the hydrofluoric acid generated by the decomposition of the LiPF6 reacts with the lithium borate to precipitate as a boric acid compound not giving an adverse affect to the positive electrode active material and to be removed.例文帳に追加

このような構成によれば、ＬｉＰＦ_６の分解によって生じたフッ化水素酸がこのホウ酸リチウムと反応して、正極活物質に悪影響を与えないホウ酸化合物として沈殿し、除去される。 - 特許庁

To provide a pickling bath composition for metal surfaces which is free from nitric acid and hydrofluoric acid and used for scale removal from stainless steel etc. on which scale is formed at working and heat treatment.例文帳に追加

加工及び熱処理でスケールが形成されるステンレス鋼等におけるスケール除去の為の、硝酸及びフッ酸を含有しない金属表面用酸洗浴組成物を提供する。 - 特許庁

In a cleaning method, a contaminated semiconductor substrate 11 is cleaned with a cleaning solution, containing 0.1-50 wt.% organic acid and 0.005-0.25 wt.% hydrofluoric acid having a pH value of or less.例文帳に追加

０．１重量％を越えた５０重量％以下の有機酸と０．００５〜０．２５重量％のフッ酸を含みｐＨが４以下である洗浄液１５を用いて半導体基板１１を洗浄する。 - 特許庁

Nitric acid is added in the ratio of 10 to 200 ml based on a waste solution 11 of hydrofluoric acid in which the concentration of fluorine ions is ≥3% to obtain a regenerated cleaning solution of which pH is controlled to 1.2 to 5.0.例文帳に追加

フッ素イオン濃度が３％以上のフッ酸廃液１ｌに対し硝酸を１０〜２００ｍｌの割合で添加することにより、ｐＨ値が１．２〜５．０に調整された再生洗浄液を得る。 - 特許庁

To provide a cleaning method by which silicate scale in various industrial water systems can chemically be removed with high efficiency, and the generation of poisonous gas having strong stimulability such as hydrochloric acid and hydrofluoric acid can be prevented.例文帳に追加

各種工業用水系における珪酸塩スケールを、化学的に効率よく除去し、かつ塩酸やフッ酸等の刺激性の強い有毒ガスが発生する恐れのない洗浄方法を提供する - 特許庁

The hydrofluoric acid vapor supplied into the processing chamber C1 is dissolved into the deionized water on the substrate W, and the liquid film of the deionized water changes to a fluorine acid liquid film.例文帳に追加

処理室Ｃ１内に供給されたフッ酸の蒸気は、基板Ｗ上の純水に溶け込んでいき、純水の液膜がフッ酸の液膜に変化する。 - 特許庁

To provide a polyamide laminated film for lithium ion secondary battery exterior by preventing the outstanding moldability of polyamide resin from being deteriorated and improving an acid resistance for hydrofluoric acid and resistance for electrolyte.例文帳に追加

ポリアミド樹脂が有する優れた成形性を損なうことなしに、さらに、フッ化水素酸に対する耐酸性および電解液に対する耐性が向上したリチウムイオン二次電池外装用ポリアミド積層フィルムを提供する。 - 特許庁

Such operation is performed, by controlling a rotational driving unit 20, a hydrofluoric acid supplying unit 54, and a nitrohydrofluoric acid supply unit 52 by a controller 50 of a substrate liquid-processing apparatus 1.例文帳に追加

このような動作は、基板液処理装置１の制御部５０が回転駆動部２０、フッ酸供給部５４およびフッ硝酸供給部５２を制御することにより行われる。 - 特許庁

In the manufacturing method of the chip 10 for the microchemical system, the surfaces of the glass substrates 1-3 are subjected to hydrofluoric acid treatment, and then an acid treatment is carried out, thereby forming a welding layer 36; and furthermore an alkali treatment is carried out, thereby modifying the welding layer 36.例文帳に追加

マイクロ化学システム用チップ１０は、ガラス基板１，２，３の表面にフッ酸処理を施した後、酸処理により融着層３６を形成し、さらに、アルカリ処理を施して融着層３６を改質する。 - 特許庁

Chemical supply sources (a hydrogen peroxide solution supply source 41, an aqueous ammonium supply source 46, a hydrochloric acid supply source 50, and a hydrofluoric acid supply source 54) are connected to the respective third lines.例文帳に追加

各第３のラインにはそれぞれ薬液供給源（過酸化水素水供給源４１、アンモニア水供給源４６、塩酸供給源５０およびフッ酸供給源５４）が接続されている。 - 特許庁

To provide a material which has gas permeability, gas sealing properties, refrigerant resistance, low temperature properties and the like, and simultaneously has resistance to hydrofluoric acid and sulfuric acid present in the formed water to retain stabilized sealing properties over a long period for time.例文帳に追加

ガス透過性、ガスシール性、耐冷媒性、低温性等を有し且つ生成水中に含まれるフッ酸、硫酸に対し耐性のある材料を提供し長期に渡って安定したシール性を保持することを目的としている。 - 特許庁

The metallic strip material W containing any among Fe, Ni, Ti and Cu as an essential component is immersed into the aqueous electrolyte L containing a hydrofluoric acid and sulfuric acid.例文帳に追加

弗酸と硫酸とを含有する水系電解液Ｌに、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｔｉ及びＣｕのいずれかを主成分として含有する金属帯材Ｗを浸漬する。 - 特許庁

Also, after the HSG treatment, a substrate is dipped into a washing liquid that is selected from among the group consisting of pure water, mixed solution of sulfuric and hydrogen peroxide, mixed solution of hydrochloric acid and hydrogen peroxide, and mixed solution of hydrofluoric acid and hydrogen peroxide, and then the capacitor insulation film is formed.例文帳に追加

又は、ＨＳＧ処理後、基板を、純水、硫酸過水、塩酸過水及び弗酸過水からなる群から選択された洗浄液中に浸漬して洗浄した後、容量絶縁膜を形成する。 - 特許庁

The second line 44 branches off into a plurality of third lines (a hydrogen peroxide solution supply line 42, an aqueous ammonium supply line 48, a hydrochloric acid supply line 52, and a hydrofluoric acid supply line 56).例文帳に追加

第２のライン４４から複数の第３のライン（過酸化水素水供給ライン４２、アンモニア水供給ライン４８、塩酸供給ライン５２およびフッ酸供給ライン５６）が分岐している。 - 特許庁

To remove articles stuck on the surface of a glass substrate after the glass substrate is mechanically polished, and then etched by a mixed liquid containing a hydrofluoric acid and an oxalic acid.例文帳に追加

ガラス基板を機械的に研磨し、弗酸と蓚酸とを含む混合液で研磨後のガラス基板をエッチングした後のガラス基板表面に残存する付着物を除去することを目的とする。 - 特許庁

After O_2 ashing treatment is performed to the substrate for 1 minute to remove a resist, remaining resist is removed by washing with a mixture of sulfuric acid and water and then an oxidized thin film 28 is removed by etching with 1% hydrofluoric acid aqueous solution for 2 minutes.例文帳に追加

この基板に対してＯ_２アッシング処理を１分間行ってレジストを除去した後、キャロス洗浄により残っているレジストを除去し、１％フッ酸水溶液で２分間エッチングして酸化薄膜２８を除去する。 - 特許庁

The metallic strip S containing any of Fe, In, Ti and Cu as an essential component into the aqueous electrolyte L containing a hydrofluoric acid and sulfuric acid.例文帳に追加

弗酸と硫酸とを含有する水系電解液Ｌに、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｔｉ及びＣｕのいずれかを主成分として含有する金属帯材Ｓを浸漬する。 - 特許庁

This method comprises the process for adding sulfuric acid into the wastewater containing hydrofluoric acid, the process for adjusting the temperature of the wastewater to 65-85°C, the process for keeping the wastewater within the above temperature range, and the process for adding a calcium compound into the wastewater.例文帳に追加

該方法は、 フッ酸を含有する廃水中に硫酸を添加する工程、 廃水の温度を６５〜８５℃に調整する工程、 廃水を該温度範囲内に保持する工程、及びカルシウム化合物を廃水に添加する工程を有すること。 - 特許庁

A silicon wafer is processed with a mixed acid etching solution 2 of nitric acid, hydrofluoric acid, and acetic acid, and when the mixed etching solution 2 is electrolyzed at a potential of 0.3 V to 0.7 V, nitrite ion contained in the solution is linearly and proportionally changed in concentration to an electrolyzing current.例文帳に追加

硝酸、弗酸及び酢酸からなる混酸エッチング液２でシリコンウエハを処理する場合に０．３Ｖ〜０．７Ｖの間の特定電位で電解を行うと液中の亜硝酸イオン濃度は電解電流値に比例して直線的に変化する。 - 特許庁