「is =C」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

Then, second heat treatment is performed in which the temperature of the semiconductor substrate 100 is 700°C or higher and 900°C or lower.例文帳に追加

ついで、半導体基板１００に７００℃以上９００℃以下の第２の熱処理を行う。 - 特許庁

The main body 14 is attached to a heating device, and a temperature of the heating device is set at 160°C to 190°C.例文帳に追加

ダイ本体１４は加熱装置を取り付け、その加熱装置の温度を１６０℃〜１９０℃とした。 - 特許庁

By using a granulator, vitamin C is absorbed therein at the final process of its production, wherein the vitamin C is added mixed with oils and fats.例文帳に追加

この場合において、油脂類に混合したビタミンＣを飼料に展着吸収させる。 - 特許庁

Driving Duty is made 0% at the time t1 when the satisfaction of the forced return conditions from F/C is determined ((E) in the drawing 3).例文帳に追加

F/Cからの強制復帰条件の成立が判定された時点t1で駆動Dutyを0％とする（図３（Ｅ））。 - 特許庁

A temperature at freezing is set at 40°C below the freezing point, and a freezing storage temperature is set at 35°C below the freezing point.例文帳に追加

凍結の際の温度を氷点下４０度とし、冷凍保管温度を氷点下３５度とする。 - 特許庁

At this time, temperature rising speed is made 5°C/min or smaller and cooling rate is made 1.0°C/min or smaller.例文帳に追加

このとき昇温速度は５℃／ｍｉｎ、冷却速度は１．０℃／ｍｉｎ以下とする。 - 特許庁

When the lid 102 is closed after the message is uttered, the light-emitting button 104 emits light as shown in (C).例文帳に追加

声を入れて蓋１０２を閉じると、(C)のように発光ボタン１０４が発光する。 - 特許庁

The temperature of the fixing roller 4 reaches about 170°C during rotation, and the temperature of about 170°C is maintained until the rotation is finished.例文帳に追加

回転中に定着ローラ４は約１７０℃に達し、回転終了まで約１７０℃を維持する。 - 特許庁

In the case of T2≤42°C, whether or not T2 is below 38°C is then determined (S103).例文帳に追加

Ｔ２≦４２℃の場合は、次にＴ２が３８℃未満であるか否かが判断される（Ｓ１０３）。 - 特許庁

Since the cable C is stored in the storage part 12a, the cable C is prevented from being stepped on by a person.例文帳に追加

ケーブルＣが収容部１２ａに収容されるため、ケーブルＣが人に踏まれたりすることがない。 - 特許庁

N2+10%O2 mixed gas is introduced into the furnace, and the temperature is increased to 850°C at a rate of 10°C/minute.例文帳に追加

炉内にＮ_2 ＋１０％Ｏ_2 混合ガスを導入し、１０℃／分の速度で８５０℃に昇温する。 - 特許庁

A physical layer LSI 50 is connected to the ports A, B, and a physical layer LSI 51 is connected to the port C respectively.例文帳に追加

ポートAとBは物理層LSI50と、ポートCは物理層LSI51 とそれぞれ接続される。 - 特許庁

The surface conditioning agent is oxypropylenemethyl glucoside expressed by chemical formula (1), (in the formula, each of (a), (b), (c) and (d) is an integer of 0-50 and (a)+(b)+(c)+(d)≤50).例文帳に追加

（但し、ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０〜５０の整数、１≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ≦５０） - 特許庁

If a supply power of the induction heating coil is restricted, 5°C is added (Y°C).例文帳に追加

誘導加熱コイルの供給電力が制限されている場合は、５℃加算する（Ｙ℃）。 - 特許庁

The sweet potato starch wherein the range of a gelatinization peak temperature is 38-51°C, and/or the range of a starting temperature of increasing viscosity is 45-58°C.例文帳に追加

糊化ピーク温度が38〜51℃、および／または粘度上昇開始温度が45〜58℃であるサツマイモデンプン。 - 特許庁

Alternatively, in the method (1), the heat treatment is performed at a temperature between 600°C and 1,100°C (2) and in the method (1) or (2) the x is changed to 0.1≤x≤1 (3).例文帳に追加

(3) ｘが、０．１≦ｘ≦１であることを特徴とする上記(1)または(2)の方法。 - 特許庁

C is the static capacitance of a capacitor C, and ωo is an angular frequency of the output voltage.例文帳に追加

ＣはコンデンサＣの静電容量であり、ωoは出力電圧の角周波数である。 - 特許庁

The solidus temperature of the Ag brazing filler metal is ≥800°C, and its liquidus temperature is $900°C.例文帳に追加

このＡｇろう材の固相線温度は８００℃以上であり、液相線温度は、９００℃以下である。 - 特許庁

A flexible resin pipe is heated and is laid in a state of 40°C to 100°C.例文帳に追加

可撓性樹脂管を加熱し、４０°Ｃ以上１００°Ｃ以下の状態で配管施工することとした。 - 特許庁

(3) The melting point is 150 to 250°C, and the melt viscosity at a temperature of 200°C is 20 to 200 Pa s.例文帳に追加

（３）融点が１５０〜２５０℃であり、温度２６０℃における溶融粘度が２０〜２００Pa・sである。 - 特許庁

After the finish hot rolling, it is cooled to ≤700°C at the average cooling rate of ≥10°C/s, and is coiled.例文帳に追加

前記仕上げ熱間圧延の後、平均冷却速度10℃/s以上で700℃以下まで冷却して巻取る。 - 特許庁

Country C is superior to country B in terms of the technologies they use to produce item X, while Pc is lower than Pb.例文帳に追加

域外のC 国の方が生産技術に優れており、PcはPbよりも低いと仮定する。 - 経済産業省

At that time, as the composite mesophase pitch, a composite mesophase pitch of ratio H/C of an H-atom number to a C-atom number is H/C≥0.35 is used.例文帳に追加

その際，合成メソフェーズピッチとして，Ｈ原子数とＣ原子数の比Ｈ／ＣがＨ／Ｃ≧０．３５である合成メソフェーズピッチを用いる。 - 特許庁

It is preferable that the ratio [B]/[C] of the content [B] of the liquid crystalline polyester (B) to the content [C] of the non-liquid crystalline polyester (C) is larger than 1.例文帳に追加

液晶性ポリエステル（Ｂ）の含有量［Ｂ］と非液晶性ポリエステル（Ｃ）の含有量［Ｃ］の比［Ｂ］／［Ｃ］が１より大きいことが好ましい。 - 特許庁

Further, a relief circuit C_R is branched and formed from one of the base hydraulic circuit C_B connected to the priority circuit C_P, and a relief valve 7 is interposed.例文帳に追加

さらに、優先回路Ｃ_Pが接続されたベース油圧回路Ｃ_Bの一方からリリーフ回路Ｃ_Rを分岐形成し、リリーフ弁７を介装する。 - 特許庁

The alloy contains Ti, Fe and Si, and when the atomic ratio is Ti:Fe:Si=a:b:c(a+b+c=100), c≤69 is satisfied.例文帳に追加

これは、Ｔｉ、Ｆｅ及びＳｉを含有し、これらの原子比をＴｉ：Ｆｅ：Ｓｉ＝ａ：ｂ：ｃ（ａ＋ｂ＋ｃ＝１００）としたとき、ｃ≦６９である合金を含むものである。 - 特許庁

The tray 1 has a substantially square-shaped first recess 11 into which a card C is inserted and whose portion to hold the card C is shorter than the length of the card C.例文帳に追加

トレイ１は、カードＣが挿入され、カードＣを保持する部位がカードＣの長さより短い略方形の第１凹部１１を有している。 - 特許庁

The fluorinated ether is represented by formula (2): C_4F_9-bH_b-O-CF_3-cH_c. [In the formula (b+c) is 1-6].例文帳に追加

次式（２） Ｃ_4 Ｆ_9-b Ｈ_b −Ｏ−ＣＦ_3-c Ｈ_c （２）［式中、（ｂ＋ｃ）は１〜６である］で表されるフッ素化エーテル。 - 特許庁

Relaxation time t1 and t2 is set to (C/β)/t<1, (C=Cs+Cp+Cel) and t3 is set to (C/β)/t≥1.例文帳に追加

緩和時間ｔ１，ｔ２が（Ｃ／β）／ｔ＜１に設定され（Ｃ＝Ｃｓ＋Ｃｐ＋Ｃｅｌ）、緩和時間ｔ３は、（Ｃ／β）／ｔ≧１に設定される。 - 特許庁

The constant current circuit 12 turns on in a period wherein a load drive signal V_C is at high level, and turns off in a period wherein the load drive signal V_C is at low level.例文帳に追加

定電流回路１２は、負荷駆動信号Ｖ_Cがハイレベルである期間中は動作をオンし、ロウレベルである期間中は動作をオフする。 - 特許庁

The heating temperature T(°C) is controlled to 60°C≤T≤Tg when the glass transition temperature of the transparent polymer film is defined by Tg(°C).例文帳に追加

加熱温度Ｔ（℃）は、透明ポリマーフィルムのガラス転移温度をＴｇ（℃）としたとき、６０℃≦Ｔ≦Ｔｇとする。 - 特許庁

In the foaming process, temperature of the upper mold is 30-40°C and temperature of the lower mold is 70-80°C, especially 60-90°C.例文帳に追加

この発泡工程において、上型の温度を３０〜４０℃とし、下型の温度を６０〜９０℃特に７０〜８０℃程度とする。 - 特許庁

The average linear expansion coefficient at 30 to 300°C is 80 to 84(×10^-7/°C), and its strain point is ≥570°C.例文帳に追加

３０〜３００℃における平均線膨張係数が８０〜８４（×１０^−７／℃）、歪点が５７０℃以上である特徴も持つ。 - 特許庁

After the processing treatment is performed within the temperature range of 600-750°C, the steel wire rod is cooled to 550°C, preferably at a cooling rate of ≤100°C/sec.例文帳に追加

６００〜７５０℃の温度範囲における加工処理終了後、５５０℃までの冷却速度は、１００℃／ｓｅｃ．以下であることが好ましい。 - 特許庁

It is preferable that the slurry preparation process and the slurry introduction process are carried out at 0-20°C and the granulation process is carried out at >100°C to ≤270°C.例文帳に追加

スラリー調製工程及びスラリー導入工程は０〜２０℃、造粒工程は１００℃を越えかつ２７０℃以下の温度で行うのが好ましい。 - 特許庁

(4) The obtained base material is reheated to 900 to 1000°C and, after holding for ≥30 min, the steel is slowly cooled to 500°C at a rate of ≤25°C/min.例文帳に追加

（４）９００〜１０００℃の温度に再加熱し、３０分以上保持した後、５００℃までを２５℃／分以下の速度で徐冷する。 - 特許庁

The substrate (CORNING 7059) is annealed at 640°C which is higher than a strain point (593°C) for 1 hr in a gaseous oxygen stream, cooled slowly at a rate of 0.1-0.5°C/min例文帳に追加

基板（コーニング７０５９）を歪み点（５９３℃）よりも高い６４０℃で１時間アニールし、その後０．１〜０．５℃／分で徐令し、５５０℃で取り出す。 - 特許庁

The defective sector C to which the write request for data (c) is made is similarly reassigned to the alternate sector C'.例文帳に追加

データｃについて書込み要求がなされた不良セクタＣも同様に代替セクタＣ'にリアサインする。 - 特許庁

An embodiment in which the annealing treatment temperature is not less than 1,350°C, and the embodiment in which the annealing treatment temperature is from 1,400°C to 1,550°C are preferable.例文帳に追加

前記アニール処理の温度が１３５０℃以上である態様、前記アニール処理の温度が１４００〜１５５０℃である各態様などが好ましい。 - 特許庁

Preferably, the normal temperature is 19-22°C, and the chilling temperature zone is from -0.1°C to +5.0°C.例文帳に追加

この際の常温は１９℃〜２２℃が好適であり、チルド温度帯は、−０．１℃〜＋５．０℃であることが好適である。 - 特許庁

Nitric acid fluoride is written generally as HF(a)HNO_3(b)H_2O(c)(where, the unit of a, b and c is wt.%, and a+b+c=100).例文帳に追加

フッ硝酸は、一般にＨＦ（ａ）ＨＮＯ_3（ｂ）Ｈ_2Ｏ（ｃ）（ここで、ａ、ｂ及びｃの単位はｗｔ％、ａ＋ｂ＋ｃ＝１００）と書ける。 - 特許庁

Since the capacitor C_S is charged via the resistor R_S in addition to the smoothing capacitor C, the capacity of the smoothing capacitor C is apparently increased.例文帳に追加

平滑コンデンサＣの他、抵抗Ｒ_Ｓを介してコンデンサＣ_Ｓも充電されるので、見かけ上平滑コンデンサＣの容量が増大する。 - 特許庁

The coefficient of the linear thermal expansion of the base body is 3.8×10-6-4.6×10-6/°C at 1000°C in the case that the reference point is 40°C.例文帳に追加

基体の４０℃を基準点とした場合の線膨張係数が１０００℃で３．８×１０^-6／℃−４．６×１０^-6／℃である。 - 特許庁

Moreover, since the temperature of the substrate is controlled in an error within ±0.5°C in a range of 10°C to 80°C, the treatment is further equalized and stabilized.例文帳に追加

しかも、摂氏１０℃乃至８０℃の範囲内において±０．５℃以内の誤差で基板の温度を制御するので、処理が一層均一化及び安定化される。 - 特許庁

The relationship 5°C≤ΔTm(wherein ΔTm represents Tma-Tmb)≤20°C is satisfied and the Tma is preferably 130 to 200°C.例文帳に追加

次式、５℃≦ΔＴｍ（ただし、ΔＴｍはＴｍａ−Ｔｍｂを表す）≦２０℃の関係を満たし、かつＴｍａが１３０〜２００℃である態様が好ましい。 - 特許庁