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morphology processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 32件
PROCESSING EQUIPMENT FOR STABILIZING MORPHOLOGY OF TEXTILE PRODUCT AND METHOD OF PROCESSING例文帳に追加
繊維製品の形態安定化加工装置及び加工方法 - 特許庁
The mask image is supplied to a morphology calculation processing portion 10 of an image processing apparatus 1.例文帳に追加
マスク画像は画像処理装置1のモフォロジー演算処理部10に供給される。 - 特許庁
The medical image-processing apparatus includes a morphology-specifying means, a function-calculating means and a display-processing means.例文帳に追加
医用画像処理装置は、形態特定手段と、機能算出手段と、表示処理手段とを有する。 - 特許庁
The apparatus applies morphology processing to the chart image for eliminating unnecessary images around the markers and detects the positions of the markers from the chart image subjected to the morphology processing (step S20).例文帳に追加
このチャート画像からマ−カの周囲の不要画像を除去するモルフォロジ処理を行い、モルフォロジ処理されたチャート画像からマ−カの位置を検出する(ステップS20)。 - 特許庁
The blur signals LL1us of the signals LL1 are obtained in a blur signal preparation part and the noise components of the signals LL1 are extracted by executing a morphology processing to the signals LL1 in a morphology processing part 6.例文帳に追加
ボケ信号作成部において信号LL1のボケ信号LL1usを求め、モーフォロジー処理部6において信号LL1にモーフォロジー処理を施して信号LL1のノイズ成分を抽出する。 - 特許庁
To accurately detect abnormal tissue pattern candidates by mutually compensating for disadvantage of the processing with a morphology filter and the disadvantage of the processing with a Laplacian filter.例文帳に追加
モフォロジーフィルタによる処理およびラプラシアンフィルタによる処理の欠点を相補に補って、正確に異常陰影候補を検出する。 - 特許庁
A pre-processing part 24 performs morphology processing of opening for the respective contracted image data Sa only in the vertical direction to obtain pre-processed image data Sb.例文帳に追加
前処理部24は、各々の縮小画像データSaに対して縦方向にのみオープニングのモホロジー処理を行って前処理済画像データSbを得る。 - 特許庁
To provide a surface processing method of AlN crystal for efficiently forming a surface of proper morphology in an AlN crystal.例文帳に追加
効率よくAlN結晶にモフォロジーの良好な表面を形成するAlN結晶の表面処理方法を提供する。 - 特許庁
To extract a line segment that does not affect a contrast ratio even if morphology processing is used in an image processing method that extracts a line segment element from a picked-up image of a gray scale.例文帳に追加
グレースケースの撮像画像から線分要素を抽出する画像処理方法に関し、モルフォロジー処理を用いても、コントラスト比に影響しない線分抽出を行う。 - 特許庁
To achieve high speed line segment extraction which does not affect a contrast ratio even by using a morphology processing concerning an image processing method for extracting line segment elements from the pick-up image of a gray scale.例文帳に追加
グレースケースの撮像画像から線分要素を抽出する画像処理方法に関し、モルフォロジー処理を用いても、高速且つコントラスト比に影響しない線分抽出を行う。 - 特許庁
The image processing method implements selection processing (42) for selecting a region where there is the possibility that continuous line segments exist from a pick-up image and morphology processing (44) for detecting line segment element with the scanning of an operator for the selected region.例文帳に追加
撮像画像から連続した線分が存在する可能性がある領域を選択する選択処理(42)と、選択された領域に対し、オペレータの走査を伴う、線分要素検出のためのモルフォロジー処理(44)とを実施する。 - 特許庁
A morphology signal Smor which shows a large value for a desired image part while small values for other image parts is obtained by a morphology filter 12, an emphasis factor βm (Smor) corresponding to the morphology signal Smor is obtained by a first conversion table 13, and a processed image signal S' in which only a desired image part is emphasized by first emphasis processing is obtained.例文帳に追加
モーフォロジーフィルタ12により、所望の画像部分については大きな値を示すがその他の画像部分に対しては小さな値を示すモーフォロジー信号Smor を得、第1の変換テーブル13によりモーフォロジー信号Smor に応じた強調係数βm(Smor )を求めて、第1の強調処理により、所望の画像部分だけが強調された処理済画像信号S′を得る。 - 特許庁
A CPU 100 detects an outer shape by morphology processing from the picked-up image, and extracts an object which can be a traffic sign as a recognition candidate object.例文帳に追加
CPU100は、撮像された画像からモルフォロジー処理により、外形を検出し、その中の交通標識と成り得るオブジェクトを認識候補して抽出する。 - 特許庁
In a selection part 8, the signals LL1 and the blur signals LL1us are selected and processed signals LL1' are obtained based on a noise extracted result in the morphology processing part 6.例文帳に追加
選択部8においてモーフォロジー処理部6におけるノイズ抽出結果に基づいて、信号LL1とボケ信号LL1usとを選択して処理済み信号LL1′を得る。 - 特許庁
To provide a processing method of a lithium battery having a fluorine based electrolyte in which the electrolyte is effectively converted into a morphology of good handling nature.例文帳に追加
フッ素系電解質を備えるリチウム電池の処理方法であって、該電解質を取扱性のよい形態に効率よく変換することのできる処理方法を提供する。 - 特許庁
This method for generating the geometric pattern from image information compressed by morphology skeletons of a binary image comprises the following processing (1)-(5).例文帳に追加
2値画像のモルフォロジースケルトンによって圧縮した画像情報から幾何学的模様を生成する方法であって、下記1〜5の処理を行うことを特徴とする幾何学的模様の生成方法。 - 特許庁
This device is equipped with an image processing means 11 which performs a morphology arithmetic processing for relatively suppressing artifacts rather than the substantial difference between two images that an obtained temporal subtraction image is based on.例文帳に追加
取得された経時サブトラクション画像に対して、経時サブトラクション画像の基になった2つの画像の実質的な差異よりもアーティファクトを相対的に抑制するモフォロジー演算処理を施す画像処理手段11を備える。 - 特許庁
To provide practical and safety processing equipment for stabilizing morphology of textile products and method of the processing imparting wrinkle resistance and shrink resistance with a resin finishing liquid not containg a formal debyde component after treating with ammonia.例文帳に追加
繊維製品に防皺性や防縮性を付与する形態安定化加工装置及び加工方法に関し、アンモニアガスを付与したあとホルマリン成分を含まない樹脂加工液で処理する安全で実用的な上記装置及び方法を提供する。 - 特許庁
To provide an ornamenting material which is obtained in the morphology capable of processing to an accessory or the like and which displays a luminescence or color development of a respectively different color hue under a visible light, an ultraviolet ray or an infrared ray.例文帳に追加
アクセサリーなどに加工することが可能な形態で得られ、かつ、可視光線、紫外線、赤外線の下で、それぞれ異なる色相の発光または発色が見られる装飾材料を提供すること。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device and a substrate processing apparatus capable of preventing deterioration of the surface morphology of a Ni-containing film caused by dependence on a foundation and of forming a continuous film in a thin film region.例文帳に追加
Niを含む膜の下地依存性による表面モフォロジ劣化を解決し、薄膜領域で連続膜を形成することができる半導体装置の製造方法及び基板処理装置を提供する。 - 特許庁
Then, a filter other than the morphology filter whose kernel size is 2×2 pixels is applied to the acquired image to generate a second filtering image, and another image processing is executed for the generated second filtering image.例文帳に追加
また、取得した画像に対して、カーネルサイズが2画素×2画素であるモルフォロジーフィルタ以外のフィルタを用いて第二のフィルタリング画像を生成し、生成した第二のフィルタリング画像に対して他の画像処理を実行する。 - 特許庁
To provide a fuel cell system and a control method of the fuel cell system, capable of suppressing the morphology change of a catalyst and shortening stop processing time upon stopping power generation of a fuel cell.例文帳に追加
触媒の形態変化を抑制することができ、かつ、燃料電池の発電停止時における停止処理時間の短縮化を図ることができる燃料電池システム、および、燃料電池システムの制御方法を提供する。 - 特許庁
To provide a surface processing method of AlN crystal for forming a surface of proper morphology efficiently in AlN crystal, in order to efficiently obtain an AlN crystal substrate for use in a semiconductor device.例文帳に追加
本発明は、半導体デバイスに用いることができるAlN結晶基板を効率的に得るため、効率よくAlN結晶にモフォロジーの良好な表面を形成するAlN結晶の表面処理方法を提供する。 - 特許庁
To an aging subtraction picture Psu prepared in an inter-picture arithmetic means 11, a picture processing means 12 performs a morphology arithmetic processing for relatively suppressing not the substantial difference between the two pictures which become the base of the aging subtraction picture Psu but the artifact.例文帳に追加
画像間演算手段11において作成された経時サブトラクション画像Psuに対して、画像処理手段12において、経時サブトラクション画像Psuの基になった2つの画像の実質的な差異よりもアーティファクトを相対的に抑制するモフォロジー演算処理を施す。 - 特許庁
Morphology processing (44) for line segment element detection which accompanies operator's scanning is executed to a picked-up image, and an extraction object area selection processing (46) extracts even a part which continues from a part having a high contrast ratio in the growing direction of a line segment and has a low contrast ratio as one line segment.例文帳に追加
撮像画像に対し、オペレータの走査を伴う、線分要素検出のためのモルフォロジー処理(44)を実施し、抽出対象領域選択処理(46)により、コントラスト比の高い部分から線分の成長方向に連続するコントラスト比の低い部分も、1つの線分として、抽出する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of preventing deterioration of the surface morphology of an Ni-containing film caused by dependence on an under layer and of forming a continuous film in a thin film region, and to provide a method and an apparatus of processing a substrate.例文帳に追加
Niを含む膜の下地依存性による表面モフォロジ劣化を解決し、薄膜領域で連続膜を形成することができる半導体装置の製造方法、基板処理方法及び基板処理装置を提供する。 - 特許庁
The image processing method detecting the object from a photographed image including the object is provided with the step of emphasizing the variable densities of the photographed image by the shift and overlap processing of morphology, the step of segmenting an area where a specified object is present from the emphasized photographed image and the step of performing a predetermined processing for the object in the segmented area.例文帳に追加
対象物を含む撮影画像から対象物を検出する画像処理方法であって、モルフォロジーのずらし重ね処理によって撮影画像の濃淡を強調するステップと、強調した撮影画像から特定の対象物が存在するエリアを切り出すステップと、切り出したエリアの対象物について予め定めた処理を行うステップとを備えることを特徴とする。 - 特許庁
Natural language analysis processing is subjected to a first textual input about morphology, syntax and semantics, a suitable logical form is created by sentence to obtain a first set (1,696) of logical forms, and a second set of logical forms is further obtained for a second textual input.例文帳に追加
第一テキスト入力に対して、形態学、構文および意味に関し、自然語解析処理を行い、文章毎に適切な論理形態を作成して第一論理形態集合(1696)を得て、更に第二テキスト入力に対して、第二論理形態集合を得る。 - 特許庁
The morphology calculation processing portion 10 calculates an opening gap of the mask image, calculates a minimum dilation repeating number of times necessary to fill the opening gap, and removes the mesh-shaped pattern by executing an erosion process of N times after a dilation process of N times.例文帳に追加
モフォロジー演算処理部10は、マスク画像のオープニング間隙を算出し、このオープニング間隙を埋めるために必要な最小の膨張繰返回数Nを算出し、N回の膨張処理の後、N回の収縮処理を実行してメッシュ状のパターンを除去する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor device, capable of easily processing shapes different in etching depth on a same surface without inducing a defect (group V atomic vacancy) by desorption of a constituent atom of a semiconductor and causing degradation of a surface morphology.例文帳に追加
半導体の構成原子の脱離による欠陥(V族原子空格子)の誘起または表面モフォロジーの劣化を生じさせずに、同一面内でエッチング深さが異なる形状を容易に加工することができる半導体素子の作製方法を提供する。 - 特許庁
A detection line for detecting the luminance of pixels configuring an image is set (S210), and the luminance of pixels on the detection line is leveled so that image elements are obtained (S220), and contraction processing in a morphology arithmetic operation is performed to the shape of leveled image elements (S230).例文帳に追加
画像を構成する画素の輝度を検出する検出ラインを設定し(S210)、検出ライン上の画素の輝度をレベル化して画像要素とし(S220)、このレベル化された画像要素の形状に対してモルフォロジー演算における収縮処理を行なう(S230)。 - 特許庁
To provide a method of fabricating a semiconductor element capable of processing shapes with different etching depths in a same plane easily while suppressing unevenness of a surface without generating induction of defects (group-V atom vacant lattices) nor deterioration in surface morphology caused by desorption of constituent atoms of a semiconductor.例文帳に追加
半導体の構成原子の脱離による欠陥(V族原子空格子)の誘起または表面モフォロジーの劣化を生じさせずに、表面の凹凸を抑制して同一面内でエッチング深さが異なる形状を容易に加工することができる半導体素子の作製方法を提供する。 - 特許庁
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