「nm」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The nanodot 13a has a diameter of ≤60 nm or ≤20 nm.例文帳に追加

ナノドット１３ａの径は６０ｎｍ以下または２０ｎｍ以下にする。 - 特許庁

The particle size (d) of the particle 4 satisfies 10 nm≤d≤800 nm.例文帳に追加

超微粒子４の粒径ｄは１０ｎｍ≦ｄ≦８００ｎｍである。 - 特許庁

The film thickness of a reflection film 2 is specified to be in the range of 20 to 45 nm, desirably to be 30 nm±5 nm.例文帳に追加

反射膜２の膜厚は２０ｎｍ〜４５ｎｍの範囲で、望ましくは３０ｎｍ±５ｎｍとする。 - 特許庁

To provide a photoresist composition suitable for short wavelength imaging, including sub-200 nm, particularly 193 nm or 157 nm.例文帳に追加

２００ｎｍ以下、特に１９３ｎｍまたは１５７ｎｍの波長を有する短波長イメージングに適する。 - 特許庁

The thin film thickness is 1 nm.例文帳に追加

この薄膜は１ｎｍ厚である。 - 特許庁

WRa (2.5) A=3-10 nm.例文帳に追加

ＷＲａ（２．５）Ａ＝３〜１０ｎｍ。 - 特許庁

Then, WRa (25) A=2-10 nm.例文帳に追加

ＷＲａ（２５）Ａ＝２〜１０ｎｍ。 - 特許庁

A wavelength dispersion in wavelength 1,383 nm is ≥0.1 ps/nm/km and ≤5.5 ps/nm/km and the wavelength dispersion in the range of wavelength 1,530 nm-1,565 nm is ≥0.1 ps/nm/km and ≤16.5 ps/nm/km.例文帳に追加

波長１３８３ｎｍにおける波長分散は０．１ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ以上かつ５．５ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ以下、そして１５３０ｎｍ〜１５６５ｎｍの波長範囲における波長分散は０．１ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ以上かつ１６．５ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ以下である。 - 特許庁

Furthermore D_N4 is ≤30 nm.例文帳に追加

さらにＤ_N4は３０ｎｍ以下である。 - 特許庁

The second optical element has 0 to 5 nm Re[590] and -5 to 5 nm Rth[590].例文帳に追加

第２光学素子のRe〔590〕は０〜５ｎｍであり、Rth〔590〕は−５〜５ｎｍである。 - 特許庁

The intermediate layer has a thickness ranging from 10 nm to 200 nm.例文帳に追加

前記中間層の厚さは、１０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下である。 - 特許庁

Texture processing of 0.05 to 0.2 nm center line average roughness (Ra) is carried out on the disk substrate, the soft magnetic underlayer is made to be amorphous state and to have 2.5 to 10 nm film thickness and the saturation magnetization (Hs) of the perpendicular magnetic recording layer is made to have ≤7 kOe.例文帳に追加

ディスク基板に中心線平均粗さ（Ra）が0.05 nm以上0.2 nm以下のテクスチャ加工を施し、軟磁性下地層を、非晶質で、かつ膜厚が2.5 nm以上10 nm以下とし、垂直磁気記録層の飽和磁界(Hs)を7 kOe以下とする。 - 特許庁

The average particle size of the conductive particles is 1 nm to 50 nm.例文帳に追加

導電微粒子の平均粒径は、１ｎｍ〜５０ｎｍの微粒子である。 - 特許庁

The thickness of the seed Si film 8 is ≥0.1 nm and not more than 5 nm.例文帳に追加

シードＳｉ膜８の膜厚は、０．１ｎｍ以上５ｎｍ未満である。 - 特許庁

Thickness of the tunnel barrier layer 14 is 0.5 nm or more and 5 nm or less.例文帳に追加

トンネルバリア層１４の厚さは、０．５ｎｍ以上５ｎｍ以下である。 - 特許庁

The thickness of the head gap fill layer formed by the ALD method is in the range from about 5 nm to 100 nm, more preferably from about 10 nm to 40 nm.例文帳に追加

ＡＬＤ−形成されたヘッドギャップフィルレイヤーの厚みは、約５ｎｍ〜１００ｎｍの間、好ましくは約１０ｎｍ〜４０ｎｍの間である。 - 特許庁

The thickness of the silver thin film is in a range of 100 nm to 350 nm.例文帳に追加

銀薄膜の膜厚は、１００ｎｍから３５０ｎｍの範囲とする。 - 特許庁

The first regions and the second regions have a distance of 0.1 nm to 10 nm, more preferably 1 nm to 5 nm between them, respectively.例文帳に追加

第１の領域と第２の領域とは、それぞれ、層の厚さ方向に、０．１ｎｍ〜１０ｎｍ、より好ましくは１ｎｍ〜５ｎｍの距離を有する。 - 特許庁

The particle diameter d of the ultrafine particles is shown as 10 nm≤d≤800 nm.例文帳に追加

その超微粒子の粒径ｄは１０ｎｍ≦ｄ≦８００ｎｍである。 - 特許庁

Thus, the top and bottom surfaces have roughnesses of 0.1 nm≤RMS≤0.5 nm and 0.1 nm≤RMS≤2 nm respectively.例文帳に追加

これらの方法により、表面および裏面の面粗度をそれぞれ０．１ｎｍ≦ＲＭＳ≦０．５ｎｍおよび０．１ｎｍ≦ＲＭＳ≦２ｎｍとすることができる。 - 特許庁

To provide a new photoresist suitable for short wavelength imaging, including ≤300 nm and ≤200 nm such as 193 nm and 157 nm.例文帳に追加

３００ｎｍ以下および２００ｎｍ以下、たとえば１９３ｎｍおよび１５７ｎｍを含む短波長イメージングに適した新規フォトレジストの提供。 - 特許庁

The thickness of the spacer is less than 0.8 nm, preferably 0.1 to 0.6 nm.例文帳に追加

スペーサの厚さは、０．８ｎｍ未満、好ましくは０．１〜０．６ｎｍである。 - 特許庁

The fine holes of this catalyst 16 have an average diameter of 10 nm to 20 nm.例文帳に追加

この触媒１６は、平均細孔径が１０ｎｍ〜２０ｎｍである。 - 特許庁

The first retardation area satisfies the following expressions: 0 nm≤Re(590)≤10 nm and |Rth(590)|≤25 nm, wherein Re(λ) is an in-plane retardation (nm) at a wavelength of λnm, and Rth(λ) is a retardation (nm) in the thickness direction at a wavelength of λnm.例文帳に追加

但し、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーション（ｎｍ）を、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける厚み方向のレターデーション（ｎｍ）を意味する。 - 特許庁

The thickness of the thin film is 1 nm.例文帳に追加

この薄膜は１ｎｍ厚である。 - 特許庁

At 1,550 nm wavelength, FOM is ≥200 ps/nm/dB, and an absolute value of RDC is ≥10^-4 nm^-2.例文帳に追加

波長１５５０ｎｍにおいて、ＦＯＭが２００ｐｓ／ｎｍ／ｄＢ以上であり、ＲＤＣの絶対値が１０^−４ｎｍ^−２以下である。 - 特許庁

The luminous layer structure has a luminous layer having at least one thin film layer composed of an oxide semiconductor ultrafine particles having 1 nm to 10 nm average particle diameter and the luminous layer enables light emission by light excitation having 250 nm to 800 nm region without annealing the layer at ≥100°C.例文帳に追加

平均粒径が１nm〜10 nmの酸化物半導体超微粒子からなる少なくとも1層の薄膜層を有する発光層を有し、前記発光層が100℃以上の温度でアニールすることなく250 nm〜800 nm領域の光励起による発光可能な発光層構造物。 - 特許庁

Furthermore, D_N4 is 30 nm or less.例文帳に追加

さらにＤ_N4は３０ｎｍ以下である。 - 特許庁

The coating solution uses rod-like colloidal silica having a major diameter of ≥5 nm and ≤100 nm, spherical colloidal silica having a particle diameter of ≥5 nm and ≤50 nm, and the tungsten compound.例文帳に追加

長径５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の棒状コロイダルシリカ、粒径５ｎｍ以上、５０ｎｍ以下の球状コロイダルシリカ、およびタングステン化合物を用いる。 - 特許庁

The coating solution uses rod-like colloidal silica having a major diameter of ≥5 nm and ≤100 nm, spherical colloidal silica having a particle diameter of ≥5 nm and ≤50 nm, and the niobium compound.例文帳に追加

長径５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の棒状コロイダルシリカ、粒径５ｎｍ以上、５０ｎｍ以下の球状コロイダルシリカ、およびニオブ化合物を用いる。 - 特許庁

The thickness of each film is as follows: the 1st dielectric film is 17.5-27.5 nm, the metal film (the main ingredient of which is Ag) is 5.5-7 nm, the 2nd dielectric film is 60-70 nm, the total of both dielectric films is 82.5-92.5 nm.例文帳に追加

各膜の膜厚を、第１誘電体膜：17.5〜27.5nm、金属膜（主成分：銀）：5.5〜7nm、第２誘電体膜：60〜70nm、両誘電体膜の合計：82.5〜92.5nmとする。 - 特許庁

At this moment the thickness of the crystalized Mo layers is made 2.5 nm to 5 nm.例文帳に追加

その際、結晶化したＭｏ層の膜厚を２．５ｎｍから５ｎｍとする。 - 特許庁

The primary particle diameter of the first silica is ≥5 nm and ≤100 nm.例文帳に追加

上記第１のシリカの一次粒径は５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下である。 - 特許庁

The thickness of the conductor layer is set, for example, to 0.2 nm to 60 nm.例文帳に追加

導電体層の厚さは例えば０．２ｎｍ以上６０ｎｍ以下とする。 - 特許庁

To provide an infrared cut filter and a medical endoscope using the infrared cut filter having a transmission band with wavelength 270-600 nm and a non-transmission band with wavelength 700-2,500 nm.例文帳に追加

波長270〜600 nmで透過帯を有し、波長700〜2,500 nmで不透過帯を有する赤外カットフィルター及びそれを用いた医療用内視鏡を提供すること。 - 特許庁

The wavelength of the near infrared rays is preferably ≥700 nm and ≤1,500 nm, more preferably ≥720 nm and ≤850 nm.例文帳に追加

この近赤外線光の波長は７００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下であることが好ましく、波長７２０ｎｍ以上８５０ｎｍ以下がより好ましい。 - 特許庁

To compensate for the temperature dependency of EDFA in wavelengths region of 1,530 nm-1,535 nm and to perform the wavelength multiplex transmission of the wavelengths 1,530 nm-1,610 nm.例文帳に追加

波長１５３０ｎｍ〜１５３５ｎｍにおけるＥＤＦＡの温度依存性を補償して、波長１５３０ｎｍ〜１６１０ｎｍの波長多重伝送を実現する。 - 特許庁

(C) has 20-80 nm average particle diameter.例文帳に追加

（Ｃ）は平均粒径が２０〜８０ｎｍ。 - 特許庁

The film thickness of the protective layer is preferably ≥1 nm and ≤5 nm.例文帳に追加

保護層の膜厚は１ｎｍ以上５ｎｍ以下とすることが好ましい。 - 特許庁

Then, a particle diameter of the conductive particles is preferably 1 nm or more and 10 nm or less, and more preferably 1 nm or more and 5 nm or less.例文帳に追加

そして、導電性粒子の粒径は、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることが好ましく、１ｎｍ以上５ｎｍ以下であることが更に好ましい。 - 特許庁

A UV ray absorbing layer whose ratio of transmittance at a wavelength of 365 nm (T (365 nm)) to transmittance at a wavelength of 315 nm (T (315 nm)), (T (365 nm))/(T (315 nm)), is 6.3 or more is provided between an insulation substrate and a transparent electrode.例文帳に追加

絶縁性基板と透明電極との間に、波長３６５ｎｍにおける透過率（Ｔ（３６５ｎｍ））と波長３１５ｎｍにおける透過率（Ｔ（３１５ｎｍ））の比（Ｔ（３６５ｎｍ）／Ｔ（３１５ｎｍ））が６．３以上である紫外線吸収層を設ける。 - 特許庁

In the positive / negative dispersion optical fibre group A / B, the cumulative dispersion conforms to a Gaussian distribution having an average value of DA / DB, preferably within the range of 5 to 50 ps/nm or -50 to -5 ps/nm, whereas the standard deviation σA / σB is within the range of 0 to 5 ps/nm. 例文帳に追加

正/負分散光ファイバー・グループA/Bにおいて、累積分散は、平均値DA／DB（それぞれ、5～50 ps/nmと-50～-5 ps/nmの範囲にあることが望ましい）を有するガウス分布に従い、一方、標準偏差σA/σBは0～5 ps/nmの範囲内にある。 - 特許庁

To provide a phosphor which has broad peaks in a range of yellow to red (580 to 680 nm), has good excitation bands on long wavelength side from near UV/UV light to visible light (250 to 550 nm) of excitation light, and has improved light emission intensity.例文帳に追加

黄色から赤色（580 nm 〜 680 nm）の範囲にブロードなピークを持ち、励起光である近紫外・紫外から可視光（250 nm 〜 550 nm）という長波長側に良好な励起帯を持つとともに、発光強度が向上した蛍光体を提供すること。 - 特許庁

FARADAY ROTATOR FOR 1,600 NM BAND例文帳に追加

１，６００ｎｍ帯用ファラデー回転子 - 特許庁

The film of the side wall is 20 nm to 30 nm thick when the film the gate insulating film is made 10 nm thick, for example.例文帳に追加

サイドウォールの膜厚は、例えばゲート絶縁膜の膜厚を１０ｎｍとするとき、２０ｎｍから３０ｎｍである。 - 特許庁