「nm」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The substrate after lapped has a surface state superior in flatness that waviness of 1.0 nm or smaller, minute swelling of 1.5 nm or smaller, dub off of 150 nm or smaller and roll off is 12 nm or smaller.例文帳に追加

研磨後の磁気ディスク用基板は、うねり：１．０ｎｍ以下、微小うねり：１．５ｎｍ以下、ダブオフ：１５０ｎｍ以下、ロールオフ：１２ｎｍ以下の平坦性に優れた表面性状を有する高記録密度、大容量に適した磁気ディスク用基板となる。 - 特許庁

The cellulose acylate film satisfies the formulas: 50 nm<Re<400 nm, -200 nm≤Rth≤50 nm and |Nz|≤10 [wherein Re is retardation in in-plane direction of the film; Rth is retardation in the thickness direction of the film; Nz represets (Rth/Re)+0.5].例文帳に追加

５０ｎｍ＜Ｒｅ＜４００ｎｍ、−２００ｎｍ≦Ｒｔｈ≦５０ｎｍおよび｜Ｎｚ｜≦１０を満足するセルロースアシレートフィルム（Ｒｅはフィルムの面内方向のレターデーション、Ｒｔｈはフィルムの厚み方向のレターデーション、Ｎｚは（Ｒｔｈ／Ｒｅ）＋０．５を表す。） - 特許庁

When the film thickness of the light-transmissive material layer is T (nm), the wavelength of incident light is λ (nm) and the refractive index of the light-transmissive material layer is (n), the film thickness T satisfies the relation T<λ/(2n).例文帳に追加

前記透光材料層の膜厚をＴ（nm）、入射する光の波長をλ（nm）、前記透光材料層の屈折率をｎとするとき、前記膜厚（Ｔ）が、Ｔ＜λ／(2ｎ)の関係式を満足する偏光子を提供する。 - 特許庁

The thickness of the zinc oxide film is 10-500 nm and, preferably, is 80-200 nm, the average thickness of the resin film is 1-1000 nm and, preferably, is 2-50 nm and the thickness of the sol-gel film is 0.3-4 μm and, preferably, 1-3 μm.例文帳に追加

酸化亜鉛膜の厚みは１０〜５００ｎｍ、好ましくは８０〜２００ｎｍであり、樹脂膜の平均厚みは１〜１０００ｎｍ、好ましくは２〜５０ｎｍであり、ゾル・ゲル膜の厚みは、０．３〜４μｍ、好ましくは１〜３μｍである。 - 特許庁

The copolymer is preferably substantially transparent to deep ultraviolet radiation, i.e., radiation of a wavelength shorter than 250 nm, including 157 nm, 193 nm and 248 nm radiation and has improved sensitivity and resolution.例文帳に追加

好ましい実施形態において、コポリマーは、遠紫外線、すなわち１５７ｎｍ、１９３ｎｍおよび２４８ｎｍを含む、２５０ｎｍより短い波長の放射線に対して実質的に透明であり、また感応性および解像度が向上している。 - 特許庁

The cellulose acylate film comprises a cellulose acylate resin and at least one compound having a negative birefringence and satisfies 30 nm<Re<100 nm and 80 nm<Rth<300 nm, wherein Re is the retardation in the in-plane direction and Rth is the retardation in the thickness-direction.例文帳に追加

セルロースアシレート樹脂と、少なくとも１種の負の複屈折を有する化合物とを含み、面内方向のレターデーション（Ｒｅ）が３０ｎｍ＜Ｒｅ＜１００ｎｍであり、膜厚方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が８０ｎｍ＜Ｒｔｈ＜３００ｎｍであることを特徴とするセルロースアシレートフィルム。 - 特許庁

In the infrared absorbing green glass composition, the wavelength in which the transmittance in 550-1,700 nm is made maximum is ≥1,065 nm and the transmittance in 1,065 nm wavelength is equal to or lower than that in 730 nm.例文帳に追加

この赤外線吸収グリーンガラス組成物は、５５０〜１７００ｎｍにおいて透過率の極小値をとる波長が１０６５ｎｍ以上であり、かつ１６５０ｎｍにおける透過率が７３０ｎｍにおける透過率以下である。 - 特許庁

Therein, the average particle size of the particles of the magnesium-based material in the magnesium-based hydrogen storage material is made to be ≥100 nm and ≤300 nm and the average particle size of the particles of the nickel-containing substance is made to be ≥10 nm and ≤100 nm.例文帳に追加

ここで、マグネシウム系水素吸蔵材料におけるマグネシウム系材料の粒子の平均粒径を１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下とし、ニッケル含有物質の粒子の平均粒径を１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下とする。 - 特許庁

The film for adjusting light quality has a light wavelength conversion layer 11 containing a fluorescent substance 11b so that light wavelengths of 400 nm or more to 500 nm or less and the light wavelengths of 600 nm or more to 700 nm or less are largely emitted.例文帳に追加

蛍光体１１ｂを含有する光波長変換層１１を有することによって、４００ｎｍ以上、５００ｎｍ以下の波長の光と、６００ｎｍ以上、７００ｎｍ以下の波長の光を多く発光することができる。 - 特許庁

The composition is substantially transparent to deep UV, that is, radiation of <250 nm wavelength, e.g. radiation of 157 nm, 193 nm and 248 nm and has high sensitivity and resolution.例文帳に追加

好ましい実施形態においてその組成物は、深紫外線、すなわち波長２５０ｎｍ未満の放射線、例えば１５７ｎｍ、１９３ｎｍおよび２４８ｎｍの放射線に対して実質的に透過性であり、高い感度および解像度を有する。 - 特許庁

The film has ≤3 nm phase difference for the light at 515 nm wavelength and ≤5 nm phase difference in the thickness direction for the light at 515 nm wavelength.例文帳に追加

本発明のフィルムは、波長５１５ｎｍの光に対する位相差値が３ｎｍ以下であり、波長５１５ｎｍの光に対する厚み方向の位相差が５ｎｍ以下であり、かつ下式にて定義されるＡ値が−３ｎｍないし３ｎｍである。 - 特許庁

To provide an image forming material which has sufficiently low absorbance in the visible wavelength region of 400 nm to 750 nm, and sufficiently high absorbance in the near-infrared wavelength region of 750 nm to 1,000 nm.例文帳に追加

４００ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の可視光波長領域における吸光度が十分に低く、かつ、７５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の近赤外光波長領域における吸光度が十分に高い画像形成材料を提供する。 - 特許庁

The optical filter has a characteristic wherein the transmissivity is 80% or over for wavelengths longer than e.g., 900 nm, the transmissivity decreases for wavelengths of 900 nm to 800 nm, and the transmissivity reaches nearly 0% for wavelengths shorter than 800 nm.例文帳に追加

光フィルタは、例えば９００ｎｍより長い波長で透過率８０％以上、９００ｎｍ乃至８００ｎｍで透過率が減少し、８００ｎｍより短い波長で透過率が略０％となる特性とする。 - 特許庁

In the decomposing sterilizing treatment method of the virus in water, UV light having wavelength of ≥100 nm and <240 nm and UV light having wavelength of ≥240 nm and ≤300 nm are radiated into virus-containing water to be treated.例文帳に追加

ウイルスが存在する被処理水中に１００ｎｍ以上２４０ｎｍ未満の波長及び２４０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の波長の紫外線を照射することを特徴とする水中のウイルスの分解消毒処理方法。 - 特許庁

The fiber has a ratio of a chromatic dispersion to chromatic dispersion slope from 30 to 500 nm at 1,550 nm.例文帳に追加

ファイバは、１５５０ｎｍにおいて、３０ｎｍから５００ｎｍの間の波長分散と波長分散勾配との比を有する。 - 特許庁

In this case, the membrane has a thickness of 20-3,000 nm and the TiO2 part of the membrane is preferably restricted to 10-800 nm in thickness.例文帳に追加

この場合、該薄膜は、２０〜３０００nmの厚さで、TiＯ_2 部が１０〜８００nmの厚さに止められて成るものが良い。 - 特許庁

Also the distance between the tip of the hard bias layer 11 and the free layer 6 is set at 5 nm or larger as well as to 14 nm or smaller.例文帳に追加

または、ハードバイアス層１１の先端部とフリー層６との距離を５ｎｍ以上、かつ１４ｎｍ以下にする。 - 特許庁

The first dense layer has an average pore diameter of 2-300 nm, and the second dense layer has an average pore diameter of 2-300 nm.例文帳に追加

第１の緻密層は、平均孔径が２〜３００ｎｍであり、第２の緻密層は、平均孔径が２〜３００ｎｍである。 - 特許庁

The recording surface has an average roughness of less than about 2.5 nm.例文帳に追加

記録表面の平均粗さは約２．５ｎｍ未満である。 - 特許庁

A fluorescent substance for absorbing light rays (400-480 nm) formed by the LED main body and forming light rays at 650-700 nm is used as the substrate.例文帳に追加

この基板には、ＬＥＤ本体が生成する光（400〜480nm）を吸収して、650〜700nmの光を生成する蛍光体を用いる。 - 特許庁

The heat radiating layer 6 has a larger surface area than the laminated body 5, and its thickness is ≥0.5 nm and ≤100 nm.例文帳に追加

放熱層６は、積層体５よりも大きな表面積を持っており、厚みは０．５ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。 - 特許庁

The thickness (t) of an electrically conductive film 12 constituting the metal master 10 is made approximately 50 nm (in the range of 35 to 200 nm).例文帳に追加

メタルマスタ１０を構成する導電膜１２の厚さｔを（３５〜２００ｎｍの範囲内の）約５０ｎｍとした。 - 特許庁

(g) The thickness (d) of a barrier layer is in the range of 1≤d≤5 nm.例文帳に追加

（ｇ）障壁層の厚さｄは、１≦ｄ≦５ｎｍの範囲。 - 特許庁

The Δnd of the 1st retardation plate is 150±50 nm, and the Δnd of the 2nd retardation plate is 610±60 nm.例文帳に追加

第１位相差板のΔｎｄは、１５０±５０ｎｍであり、第２位相差板のΔｎｄは、６１０±６０ｎｍである。 - 特許庁

The average particle diameter of the silver particles (B) contained in the microbicidal composition is 50 nm to 500 nm.例文帳に追加

また、本発明の殺菌組成物が含有する［Ｂ］銀粒子の平均粒子径は５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。 - 特許庁

The conductive layer 102 is constituted of a shapeless carbon layer which is formed by a sputtering method and whose thickness is 5 nm to 10 nm.例文帳に追加

導電層１０２は，スパッタ法により形成された５ｎｍ〜１０ｎｍの厚みの不定形炭素層から成る。 - 特許庁

Three drive transistors TD1, TD2 and TD3 are connected in parallel by nodes N1, N2, ..., Nm-1, and Nm.例文帳に追加

各ノードＮ１、Ｎ２、・・・、Ｎｍ-１、Ｎｍによって３個の駆動トランジスタＴＤ１、ＴＤ２、ＴＤ３が並列に接続される。 - 特許庁

An active layer 17 is provided to generate light having a luminous wavelength of 440 nm to 550 nm.例文帳に追加

活性層１７は、波長４４０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の範囲の発光波長の光を発生するように設けられる。 - 特許庁

To support a NO_x-occlusion material as fine particles having diameters of ≤10 nm.例文帳に追加

NO_x 吸蔵材を数10nm以下の微細な粒子として担持する。 - 特許庁

Mean particle diameter of the fine powder is 50 nm-3 μm.例文帳に追加

微粉体の平均粒径が５０ｎｍ〜３μｍであること。 - 特許庁

An average particle diameter of the metal particles is 10-200 nm.例文帳に追加

金属粒子の平均粒径は、１０ｎｍ〜２００ｎｍである。 - 特許庁

The Si_3N_4 film 41A and the SiO_2 film 41B are 0.28 to 3 nm and 0.5 to 7 nm in thickness, respectively.例文帳に追加

また、Si_３Ｎ_４膜４１Ａの膜厚が、０.２８ｎｍ〜３ｎｍであり、SiＯ_２膜４１Ｂの膜厚が、０.５ｎｍ〜７ｎｍである。 - 特許庁

This method for controlling the termites is provided by radiating visible light of 400 to 550 nm to the termites, and also the method for controlling the termites is provided by radiating visible light of 400 to 450 nm.例文帳に追加

４００〜５５０ｎｍの可視光線をシロアリに照射することを特徴とするシロアリの防除方法。 - 特許庁

The retardation Re(550) of the in-plane direction at a wavelength of 550 nm is equivalent to the retardation Re(440) of the in-plane direction at a wavelength of 440 nm.例文帳に追加

式（１） ２．０＜Ｚ１＜２．７（式（１）中、Ｚ１は低置換度層のセルロースアシレートの総アシル置換度を表す。 - 特許庁

The low refractive index layer has a refractive index in the wavelength 400 nm of light being 1.33-1.53 and a film thickness of 10-50 nm.例文帳に追加

低屈折率層は、光の波長４００ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．５３、膜厚が１０〜５０ｎｍである。 - 特許庁

Layer thickness of at least one among the free ferromagnetic layer and the pinned ferromagnetic layer is within the range of 3 nm to 12 nm.例文帳に追加

フリー強磁性層及びピンド強磁性層の少なくとも一方の層厚は、３ｎｍ〜１２ｎｍの範囲内である。 - 特許庁

Average diameter of the carrier fine particle is 0.5 to 100 nm.例文帳に追加

担体微粒子の平均粒径が０．５〜１００ｎｍである。 - 特許庁

The film thickness of the metal nitride film 106 at the bottom of the via-hole 105b is ≥4 nm and <8 nm.例文帳に追加

ビアホール１０５ｂの底部における金属窒化膜１０６の膜厚は、４ｎｍ以上であって且つ８ｎｍ未満である。 - 特許庁

The obtained nano-size silicon carbide tube has ≤100 nm outer diameter and ≤50 nm inner diameter.例文帳に追加

並びに、外径が１００ｎｍ以下でありかつ内径が５０ｎｍ以下であることを特徴とするナノサイズ炭化ケイ素チューブ。 - 特許庁

Further, a particle size of the conductive particle is 10 to 100 nm, and that of the precious metal particulates is 1 to 10 nm.例文帳に追加

また導電性粒子の粒子径は１０〜１００ｎｍであり貴金属微粒子の粒子径は１〜１０ｎｍである。 - 特許庁

The island-shaped structures 31, 33 are 400 to 900 nm in average pitch and are 2.0 to 7.0 nm in average height.例文帳に追加

島状構造体３１，３３は、その平均ピッチが４００〜９００ｎｍであり、その平均高さが２．０〜７．０ｎｍである。 - 特許庁

After that, an IrO_Y film 26 having a thickness of 50 nm-100 nm is formed on the IrO_X film 25 by a sputtering method.例文帳に追加

その後、ＩｒＯ_X膜２５上にスパッタ法により厚さが５０ｎｍ〜１００ｎｍのＩｒＯ_Y膜２６を形成する。 - 特許庁

As an exciting wavelength, 635 and 405 nm are preferable.例文帳に追加

励起波長としては、６３５ｎｍ、４０５ｎｍが好ましい。 - 特許庁

Next, an electron transport layer 5 is formed in film thickness of about 20 nm, and an negative electrode 6 is formed in film thickness of about 100 nm.例文帳に追加

次に、電子輸送層５を膜厚約２０ｎｍに形成し、陰極６を膜厚約１００ｎｍに形成する。 - 特許庁

Preferably, the rare earth metal film 3 has a thickness of 5-1000 nm, and the protective film 5 has a thickness of 5-40 nm.例文帳に追加

希土類金属膜３の厚さが５〜１０００ｎｍであり、保護膜５の厚さが５〜４０ｎｍであることが好ましい。 - 特許庁