「nm」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

Diameters of the nanoparticles are within a range of 0.5-900 nm.例文帳に追加

（Ｄ）ナノ粒子の径が、０．５ｎｍ〜９００ｎｍの範囲である。 - 特許庁

The second insulating film may be formed as an HfAlO_x film whose film thickness is 3.0 nm or smaller, and preferably, 2.4 nm or smaller.例文帳に追加

第２の絶縁膜は、膜厚３．０ｎｍ以下、好ましくは２．４ｎｍ以下のＨｆＡｌＯ_ｘ膜とすることができる。 - 特許庁

The surface layer is from 1 to 10 nm in thickness.例文帳に追加

表層の厚さは１〜１０ｎｍの間とすることができる。 - 特許庁

The diameter of the crystal grain of 160 nm or more and 400 nm or less can be obtained including the level difference side 139 by the annealing.例文帳に追加

アニールによって段差面１３９上も含めて１６０ｎｍ以上４００ｎｍ以下の結晶粒径が得られる。 - 特許庁

A coefficient calculating part 26 calculates a linear model to be established between the Tq and Nm based on the input/output history.例文帳に追加

係数演算部２６は、その入出力履歴に基づいてTqとNmの間に成立する線形モデルを算出する。 - 特許庁

The semiconductor region is made of a second semiconductor material different from the first semiconductor material and has a width smaller than about 50 nm.例文帳に追加

半導体領域は、第一半導体材料と異なる第二半導体材料からなり、幅は約５０ nmより小さい。 - 特許庁

The thickness of the lower electrode 61 is set to 150 nm or smaller.例文帳に追加

下方電極６１の厚さは１５０ｎｍ以下である。 - 特許庁

The ultraviolet (UV) polarizing beam splitter cube (300) transmits light having wavelength of 170 nm or less, for example 157 nm.例文帳に追加

紫外線（ＵＶ）偏光ビームスプリッタキューブ（３００）は、１７０ｎｍ以下（例えば、１５７ｎｍ）の波長の光を透過する。 - 特許庁

The distance between oxygen atoms in the oxo-oxo anion part in the most stable three-dimensional structure is ≥0.3 nm and ≤1 nm.例文帳に追加

最安定立体構造におけるオキソ−オキソアニオン部の酸素原子間距離が０．３ｎｍ以上１ｎｍ以下である。 - 特許庁

The recording layer and the first resin layer 10 are formed by having a gap between ≥1 nm and ≤50 nm.例文帳に追加

記録層７と第１の樹脂層１０とは、１ｎｍ以上で且つ５０ｎｍ以下の間隔を有して形成されている。 - 特許庁

The maximum transmittance of the optical filter part with respect to light with wavelength of 380 nm to 500 nm is less than 1%.例文帳に追加

波長が３８０ｎｍ〜５００ｎｍである光についての光フィルタ部の最大透過率が１％以下である。 - 特許庁

The transparent inorganic dielectric film 104 is a barrier layer, with an optical film thickness of 60 nm or less (excluding 0 nm).例文帳に追加

透明無機誘電体膜１０４は、バリア層であり、その光学膜厚は６０ｎｍ以下（ただし、０ｎｍを除く）である。 - 特許庁

(e) The depth Dg (nm) of the groove part is 0.03λ<Dg<0.095λ, therein, λ (nm) is recording and reproducing wavelength.例文帳に追加

（ホ）溝部の深さＤｇ（ｎｍ）が、記録再生波長をλ（ｎｍ）とした場合、０．０３λ＜Ｄｇ＜０．０９５λである。 - 特許庁

Further, thereafter, the bottom-blowing gas is blown so as to satisfy 0.08-0.11 Nm^3/min/ton and 0.060-0.080 Nm^3/min/mm^2.例文帳に追加

さらに、その後は、０．０８〜０．１１Ｎｍ^3／分／ｔｏｎ且つ０．０６０〜０．０８０Ｎｍ^3／分／ｍｍ^2を満たすように吹く。 - 特許庁

Preferred photoresists of the invention can be imaged at short wavelengths, such as sub-200 nm, particularly 193 nm.例文帳に追加

本発明の好ましいフォトレジストは、短波長、例えば２００ｎｍ未満、特に１９３ｎｍで画像形成することができる。 - 特許庁

To obtain a fine and straight carbon fiber having 1 nm to 50 nm diameter by using an inexpensive catalyst in a high yield.例文帳に追加

安価な触媒を用いて直径が１ｎｍ〜５０ｎｍの直線性のよい微細炭素繊維を高収率で得る。 - 特許庁

Further metallic ink discharged on the green sheet 4S absorbs light of a wavelength within a range between 400 nm and 1,200 nm.例文帳に追加

また、グリーンシート４Ｓに吐出される金属インクが、４００ｎｍ〜１２００ｎｍの範囲にある波長の光を吸収する。 - 特許庁

The optically transparent substrate has an absorbance of greater than 1 at a wavelength that is in a range of from about 300 nm to about 1,000 nm.例文帳に追加

光学的透明基板は、約３００〜約１０００ｎｍの範囲内の波長で１を超える吸光度を有している。 - 特許庁

The thickness of this photocatalyst layer 4 is in a range of 5-35 nm.例文帳に追加

この光触媒層４の厚さは５〜３５ｎｍである。 - 特許庁

The main wavelengths of ultraviolet rays are 165-175 nm.例文帳に追加

紫外線の主となる波長が１６５ｎｍ〜１７５ｎｍである。 - 特許庁

The gate length of the gate electrode 105 and the interval of the respective gate electrodes 105 are about several nm to several hundreds nm.例文帳に追加

ゲート電極１０５のゲート長および各々のゲート電極１０５の間隔は、数ｎｍ〜数１００ｎｍ程度とする。 - 特許庁

The thickness of the niobium oxide layer 3 is 5 to 90 nm.例文帳に追加

また、ニオブ酸化物層３の厚さは５〜９０ｎｍである。 - 特許庁

A gold film having 1 to 70 nm physical film thickness and an aluminum film having ≥10 nm physical film thickness are formed on a substrate.例文帳に追加

物理的膜厚１〜７０ｎｍの金膜、物理的膜厚１０ｎｍ以上のアルミニウム膜を基板上に形成する。 - 特許庁

In the light shield characteristic of the anchor coat layer/overcoat layer, the transmittance of a wavelength ranging from 350 nm to 500 nm is preferably less than 50%.例文帳に追加

アンカーコート層／オーバーコート層の遮光性は、350nm〜500nmまでの波長の透過率が50％未満であることが好ましい。 - 特許庁

The S polarized light includes light of 580 nm in wavelength.例文帳に追加

このＳ偏光には波長５８０ｎｍの光を含める。 - 特許庁

(3) The planar zinc oxide has concave-convex parts of 10-200 nm on the edge parts in 10-200 nm intervals irregularly.例文帳に追加

上記 記載の酸化亜鉛の面のエッジ部分に１０〜２００nmおきに不規則に１０〜２００nmの凹凸が生じている。 - 特許庁

The nanoparticle of 200 nm or less is manufactured by radiating high energy light of less than 400 nm to a raw material liquid.例文帳に追加

原材料液に対して400nm未満の波長の高エネルギー光を照射して、粒径200nm以下のナノ粒子を製造する。 - 特許庁

An average particle diameter obtained from the TEM photograph of the pulverulent body is 5 to 200 nm, preferably 10 to 100 nm.例文帳に追加

この粉体のＴＥＭ写真から求まる平均粒子径は５〜２００ｎｍ、好ましくは１０〜１００ｎｍである。 - 特許庁

The inorganic laminar compound has an average value of the longest distance on a lamination face of not smaller than 200 nm and not larger than 400 nm.例文帳に追加

無機層状化合物は、積層面上の最長距離の平均値が２００ｎｍ以上４００ｎｍ以下とする。 - 特許庁

Thickness of the aluminum hydroxide layer 18 is 50 nm or less.例文帳に追加

水酸化アルミニウム層１８の厚みは５０ｎｍ以下である。 - 特許庁

A dimension of a pattern of an x-ray absorptive body 4a is made up to about 1.5-fold (about 75 nm) a half pitch (L/2=50 nm) of a mask pattern.例文帳に追加

Ｘ線吸収体４ａのパターン寸法をパターンハーフピッチ（Ｌ／２＝５０ｎｍ）の約１．５倍（約７５ｎｍ）にする。 - 特許庁

The HREM resolution has approached to 0.1 nm by the development of the Cs corrector. 例文帳に追加

Csコレクタの開発によって、HREM分解能は0.1nmに近づいた。 - 科学技術論文動詞集

A resolution of 0.1 nm has been reached with a 1000 kV TEM. 例文帳に追加

0.1nmの分解能が1000kV電子顕微鏡によって達せられた。 - 科学技術論文動詞集

The thickness of the TiC layer may be 3 to 30 nm.例文帳に追加

前記ＴｉＣ層の厚みは、３〜３０ｎｍとすればよい。 - 特許庁

Preferably, the film thickness of the ITO layer 31 is 50 to 100 nm, the film thickness of the TiO_2 layer 32 is 20 to 50 nm, and the film thickness of the SiO_2 layer 33 is 50 to 150 nm.例文帳に追加

ＩＴＯ層３１の膜厚は５０〜１００ｎｍであり、ＴｉＯ_2層３２の膜厚は２０〜５０ｎｍであり、ＳｉＯ_2層３３の膜厚は５０〜１５０ｎｍであることが好ましい。 - 特許庁

To manufacture a minute contact section in the order of nano meters on the magnetic layer (magnetism reception section, free layer) having an area of approximately 100 nm × 100 nm × several nm by a method suited for mass production.例文帳に追加

大量生産に適する方法で１００ｎｍ ｘ １００ｎｍ ｘ 数ｎｍ程度の磁性層（磁気感受部，自由層）にナノメーターオーダーの微小接触部を作製する。 - 特許庁

The etching stop layer underlying the third cad layer has a thickness T1≤100 nm and the etching stop layer underlying the block layer has a thickness T2 satisfying following relations; T1-T2>1 nm and T2>1 nm.例文帳に追加

第３クラッド層下部のエッチング停止層の層厚Ｔ１はＴ１≦１００ｎｍであり、ブロック層下部のエッチング停止層の層厚Ｔ２は、Ｔ１−Ｔ２＞１ｎｍかつＴ２＞１ｎｍである。 - 特許庁

The hollow silica powder essentially consists of silica (SiO_2), and in which the average particle diameter is 5 to 120 nm, the thickness of a shell is 1 to 35 nm, and the number of silanol groups (≡Si-OH groups) is 1 to 10 pieces/nm^2.例文帳に追加

シリカ（ＳｉＯ_２）を主成分とし、平均粒子径が５〜１２０ｎｍ、シェルの厚さが１〜３５ｎｍ、シラノール基（≡Ｓｉ−ＯＨ基）の数が１〜１０個／ｎｍ^２である中空シリカ粉末。 - 特許庁

The average particle diameter of the apatite particles is 100 nm or smaller, the maximum particle diameter is 300 nm or smaller and the particle diameter of 80% or more particles in the total falls in the range of 20-100 nm.例文帳に追加

アパタイトの粒子の平均粒子径が１００ｎｍ以下で、最大粒子径が３００ｎｍ以下で、かつ全体の８０％以上の粒子の粒子径が２０〜１００ｎｍの範囲にある。 - 特許庁

The reflectance of the red light reflection dichroic film DR varies from 10% to 90% within a wavelength range of 10 nm or below in a wavelength region of 560 nm to 600 nm (both inclusive).例文帳に追加

赤色光反射ダイクロイック膜ＤＲの反射率は、５６０ｎｍ以上６００ｎｍ以下の波長域のうちの、１０ｎｍ以下の波長範囲で１０％から９０％まで変化する。 - 特許庁

A value obtained by dividing dispersion in a wavelength of 1,590 nm by a dispersion slope is set to be 50 to 150 nm, and a cutoff wavelength in an optical fiber length of 2 m is set to be 1,565 nm or less.例文帳に追加

波長１５９０ｎｍにおける分散値を分散スロープで割った値を５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下とし、条長２ｍにおけるカットオフ波長を１５６５nm以下とする。 - 特許庁

The polarized light separation film (1) is constituted of three film groups to consider the light beams of the wavelength bands of which the central wavelength are 405 nm, 650 nm, 780 nm, respectively as the objects of polarized light separation.例文帳に追加

偏光分離膜(1)を、中心波長がそれぞれ４０５ｎｍ、６５０ｎｍ、７８０ｎｍの波長帯域の光を偏光分離の対象とする３つの膜群で構成する。 - 特許庁

Preferably, the minute projections each have an average height of 200 to 3,000 nm, an average maximum diameter of 50 to 300 nm and an average pitch of 50 to 300 nm.例文帳に追加

前記微細な突起は、好ましくはそれぞれ２００ｎｍ〜３０００ｎｍの平均高さと、５０ｎｍ〜３００ｎｍの平均最大径を有し、５０ｎｍ〜３００ｎｍの平均ピッチで形成されている。 - 特許庁

As for the surface of the glass substrate after a polishing process, an arithmetic average roughness Ra is ≤0.2 nm, a waviness Wa is ≤0.5 nm and a fine waviness μWa is ≤0.2 nm.例文帳に追加

研磨工程後のガラス基板の表面の算術平均粗さＲａが０．２ｎｍ以下、うねりＷａが０．５ｎｍ以下であり、さらに微小うねりμＷａが０．２ｎｍ以下であること。 - 特許庁

It is preferable that each fine particle has 10-200 nm particle diameter and the tubular body of tungsten oxide has an outside diameter of 100 nm to 2 μm, an inside diameter of 20 nm to 1 μm, a length of 1-50 μm and a specific surface area of ≥5 m^2/g.例文帳に追加

好ましくは、微粒子の粒径が10nm〜200nmであり、外径が100nm〜2μm、内径が20nm〜1μm、長さが1μm〜50μmで、かつ比表面積が5m^2/g以上である上記酸化タングステン管状体。 - 特許庁