「nm」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

Further, the optical fiber has a cable cut-off wavelength less than 1,260 nm; a zero dispersion wavelength contained between 1,300 nm and 1,324 nm; and a wavelength dispersion slope less than 0.092 ps/nm^2-km.例文帳に追加

光ファイバはまた、１２６０ｎｍ未満のケーブル遮断波長と、１３００ｎｍと１３２４ｎｍとの間に含まれるゼロ分散波長と、０．０９２ｐｓ／ｎｍ^２−ｋｍ未満の波長分散勾配とを有する。 - 特許庁

To provide a micro wire having a diameter smaller than 1 nm.例文帳に追加

１ナノメートルよりも細い微細ワイヤを提供する。 - 特許庁

Therein, heat decomposition temperature Td of the plasticizer satisfies the relation, Td(1.0)>Tm, and a retardation value Ro in the film plane and a retardation value Rth in the film thickness direction satisfy following relations: 30 nm<Ro≤95 nm; and 70 nm<Rth≤400 nm.例文帳に追加

ａ．可塑剤の熱分解温度 Ｔｄ（１．０）＞Ｔｍ、ｂ．フィルム面内リターデーション値Ｒｏ、フィルム厚み方向リターデーション値Ｒｔｈが次の範囲：３０（ｎｍ）＜Ｒｏ≦９５（ｎｍ）、７０（ｎｍ）＜Ｒｔｈ≦４００（ｎｍ） - 特許庁

(d): The diameter of the island component is 10-5,000 nm.例文帳に追加

ｄ）島成分径が１０〜５０００ｎｍであること。 - 特許庁

The thickness of the magnetic layer is 40 nm or below.例文帳に追加

磁性層１２の厚みδは４０ｎｍ以下である。 - 特許庁

By incorporating nano-diamond into a photosensitive resin composition, high sensitivity not only to a g-line (wavelength; 436 nm) or an i-line (wavelength; 365 nm) but to a light source of a short wavelength such as a KrF excimer laser (248 nm) or an ArF excimer laser (193 nm) and improved plasma resistance are provided to the composition.例文帳に追加

感光性樹脂組成物にナノダイアモンドを含有させることにより、g線（波長436nm）、i線（波長365nm）、KrFエキシマレーザー（248nm）やArFエキシマレーザー（193nm）などの短波長の光源に対しても高感度でプラズマ耐性を高める。 - 特許庁

To provide a fine wire that is finer than 1 nm.例文帳に追加

１ナノメートルよりも細い微細ワイヤを提供する。 - 特許庁

The functional particles have a particle diameter of from 1 to 500 nm.例文帳に追加

機能性粒子の粒径は１〜５００ｎｍである。 - 特許庁

The resin has following reflectivities in the wavelength ranges: (1) 5-20% in the wavelength range of 600-640 nm; (2) 10-35% in the wavelength range of 641-720 nm; (3) 20-65% in the wavelength range of 721-760 nm; and (4) 54-66% in the wavelength range of 1000-1200 nm.例文帳に追加

▲１▼波長域６００ 〜６４０ ｎｍ ５〜２０％▲２▼波長域６４１ 〜７２０ ｎｍ １０〜３５％▲３▼波長域７２１ 〜７６０ ｎｍ ２０〜６５％▲４▼波長域１０００〜１２００ｎｍ ５４〜６６％ - 特許庁

SILICON NITRIDE ANTI-REFLECTIVE COATING FOR 193 NM LITHOGRAPHY例文帳に追加

１９３ＮＭリソグラフィ用窒化ケイ素抗反射コーティング - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF NANOPARTICLE WITH PARTICLE SIZE OF 200 NM OR LESS例文帳に追加

粒径２００ｎｍ以下のナノ粒子の製造方法 - 特許庁

The phosphor radiates a peak radiation in a wavelength range of about 230 nm to about 240 nm and broad radiation in an UVC range of about 220 nm to about 280 nm wavelength.例文帳に追加

本発明の燐光体は約２３０ｎｍから約２４０ｎｍの波長領域で発生するピーク放射とともに約２２０ｎｍから約２８０ｎｍの波長領域のＵＶＣ領域で幅広の放射を呈する。 - 特許庁

The distance between electrodes is preferably 0.1-300 nm.例文帳に追加

電極間距離は０．１〜３００ｍｍが好ましい。 - 特許庁

(2) the film thickness of the lower protective layer is 50-100 nm, the film thickness of the recording layer is 10-20 nm, the film thickness of the upper protective layer is 3-15 nm and the film thickness of the reflecting layer is 100-300 nm in the optical recording medium dealt in (1).例文帳に追加

（２）下部保護層の膜厚が５０〜１００ｎｍ、記録層の膜厚が１０〜２０ｎｍ、上部保護層の膜厚が３〜１５ｎｍ、反射層の膜厚が１００〜３００ｎｍである（１）記載の光記録媒体。 - 特許庁

The present FEG yields an information limit of 0.12 nm at 200 kV. 例文帳に追加

現在のFEGは、200kVで0.12nmのインフォーメーションリミットを産み出す。 - 科学技術論文動詞集

A 0.1 nm probe can be obtained by the new STEM Cs corrector. 例文帳に追加

0.1nmのプローブが新型のSTEM Csコレクタによって得られる。 - 科学技術論文動詞集

To provide a method for manufacturing a glass substrate for a mask blank and the like which can suppress the occurrence of a protruded defect with a height of several tens nm and a size of several tens nm to 2,000 nm.例文帳に追加

高さが数十ｎｍ、大きさが数十ｎｍ〜２０００ｎｍの凸状欠陥の発生を抑制できるマスクブランク用ガラス基板の製造方法等を提供する。 - 特許庁

A fibrous polymer having a size in the minor axis direction of ≥1 nm and ≤500 nm and in the major axis direction of ≥500 nm and ≤1,000 μm is used as the polymer.例文帳に追加

用いられる高分子として、短軸方向が１ｎｍ以上５００ｎｍ以下、長軸方向が５００ｎｍ以上１０００μｍ以下の繊維状高分子がある。 - 特許庁

An ITO electrode 3, an NTCDA layer 4 of 500 nm, an LiF layer 5 of 1 nm, and an Au electrode 6 of 20 nm are stacked on the inner surface of a glass board 2.例文帳に追加

ガラス基板２の内面には、ＩＴＯ電極３と、５００ｎｍのＮＴＣＤＡ層４と、１ｎｍのＬｉＦ層５と、２０ｎｍのＡｕ電極６が積層形成される。 - 特許庁

It is desirable that the film thickness of the first ferromagnetic layer is 2 nm-10 nm and the film thickness of the anti-ferromagnetic layer is not less than 8 nm.例文帳に追加

その際、前記第一の強磁性体層の膜厚は２ｎｍ以上１０ｎｍ以下が好ましく、前記反強磁性体層の膜厚は８ｎｍ以上が望ましい。 - 特許庁

A substrate specified to have the birefringence within a pattern region to no more than 1.2 nm/cm, 2 nm/cm or 4 nm/cm is used for the substrate of the mask M.例文帳に追加

マスクＭ用の基板として、パターン領域内における複屈折量が１．２ｎｍ／ｃｍ、２ｎｍ／ｃｍ、又は４ｎｍ／ｃｍ以下に規定された基板を使用する。 - 特許庁

(2) The write-once-read-many type optical recording medium described in (1) has a film thickness of the recording layer being 3-20 nm, and a film thickness of the overcoating layer being 5-60 nm or 70-150 nm.例文帳に追加

（２）記録層の膜厚が３〜２０ｎｍ、上引層の膜厚が５〜６０ｎｍ、又は７０〜１５０ｎｍであることを特徴とする（１）記載の追記型光記録媒体。 - 特許庁

Three-wave laser module 10 includes a laser emitter 31 which outputs the three-wave laser beams of 785 nm (infrared rays), 660 nm (red), and 405 nm (bluish violet).例文帳に追加

３波長レーザモジュール１０は、７８５ｎｍ（赤外），６６０ｎｍ（赤色），４０５ｎｍ（青紫色）の３波長のレーザ光を出力するレーザ発光部３１を備えている。 - 特許庁

Each of the underlayer 3 and the (p) layer 4 has a film thickness of 10 nm, the (i) layer 5 has a film thickness of 300-1,000 nm and the (n) layer 6 has a film thickness of 20 nm.例文帳に追加

下地層３およびｐ層４は、１０ｎｍの膜厚を有し、ｉ層５は、３００〜１０００ｎｍの膜厚を有し、ｎ層６は、２０ｎｍの膜厚を有する。 - 特許庁

The coloring composition has at least three kinds of absorption maximums in a visible region wherein wavelengths of the foregoing absorption maximums are in the range of 425-445 nm, the range of 530-550 nm and the range of 600-620 nm, respectively.例文帳に追加

可視域に少なくとも３種の吸収極大を有し、４２５〜４４５ｎｍと５３０〜５５０ｎｍと６００〜６２０ｎｍとに前記吸収極大を含んでいる。 - 特許庁

The fiber has a wavelength of 1,550 nm, a wavelength dispersion ≤-50 ps/nm/km and a ratio of the wavelength dispersion over the wavelength dispersion slope DOS ≤70 nm.例文帳に追加

ファイバは、１５５０ｎｍの波長で、−５０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍ以下の波長分散、および７０ｎｍ以下の波長分散の波長分散勾配に対する比ＤＯＳを有する。 - 特許庁

Such grating groove depth is made that second order light is generated for wavelength 405 nm and first order light is generated for wavelength 660 nm and wavelength 785 nm, and diffraction efficiency is secured.例文帳に追加

波長４０５ｎｍに対しては２次光、波長６６０ｎｍと波長７８５ｎｍに対しては１次光が発生する格子溝深さとし回折効率を確保する。 - 特許庁

The optical filter includes a filter layer having absorption maximums respectively in a wavelength region of 380-420 nm, in a wavelength region of 480-520 nm, and in a wavelength region of 585-620 nm.例文帳に追加

380乃至420nmの波長領域と、480nm乃至520nmの波長領域と、585nm乃至620nmの波長領域とに、それぞれ吸収極大を有するフィルター層を含む光学フィルター。 - 特許庁

To provide an ultraviolet ray discharge lamp which can emit ultraviolet rays having little ultraviolet ray spectrums of 340 nm or less and strong spectrums in 340 nm to 380 nm.例文帳に追加

３４０ｎｍ以下の紫外線スペクトルが少なく、３４０ｎｍ〜３８０ｎｍに強いスペクトルを持つ紫外光を発光することができる紫外線放電ランプを提供する。 - 特許庁

The dispersion shifted monomode optical fiber which, in the wavelength range 1400 nm to 1650 nm, presents both a wavelength dispersion maximum and a wavelength dispersion slope of absolute value less than 0.05 ps/(nm^2 km), is provided.例文帳に追加

１４００〜１６５０ｎｍの波長範囲で、波長分散の最大値を有し、また絶対値が０．０５ｐｓ／ｎｍ^２・ｋｍ未満の波長分散勾配を有する。 - 特許庁

The oscillation wavelength of the semiconductor laser element 220 is 868 nm (≥857 nm and ≤871 nm) at 25°C while it is still a chip before resin molding.例文帳に追加

また、半導体レーザ素子２２０は、樹脂モールドする前のチップ状態で２５℃における発振波長を８６８ｎｍ(８５７ｎｍ以上かつ８７１ｎｍ以下の範囲内)とする。 - 特許庁

A three wavelength laser module 10 is provided with a laser emitting part 31 outputting laser beams of three wavelength of 785 nm (infrared), 660 nm (read color), 405 nm (blue-violet color).例文帳に追加

３波長レーザモジュール１０は、７８５ｎｍ（赤外），６６０ｎｍ（赤色），４０５ｎｍ（青紫色）の３波長のレーザ光を出力するレーザ発光部３１を備えている。 - 特許庁

Selection of metals depends on the wavelength used for the integrator, for W being optimum at 13.4 nm, Ru allowable at 11.4 nm, and Al desirable for 40 nm.例文帳に追加

この金属の選択は、この積分器に使うべき波長に依り、Ｗは１３．４ｎｍに最善であり、Ｒｕは１１．４ｎｍに許容でき、Ａｌは４０ｎｍに好ましい。 - 特許庁

In this case, light emission having a wavelength of 600 nm can be confirmed.例文帳に追加

波長６００ｎｍ以上の発光を確認できた。 - 特許庁

To planarize a substrate or thin film having an uneven portion of several nm on a surface.例文帳に追加

数nmサイズの凹凸部を表面に有する基盤や薄膜を、原子レベルにまで平坦化することを目的とする。 - 特許庁

The gating has a pitch of 240 nm (λ=1.55 μm).例文帳に追加

グレイティングは、２４０ｎｍ（λ＝１．５５μｍ）のピッチである。 - 特許庁

1-50 nm is desirable for film thickness of the non-magnetic layer 5.例文帳に追加

非磁性層５の膜厚は１〜５０ｎｍが好ましい。 - 特許庁

The film formation speed of the TEOS film is controlled to be 50 nm/min or higher and 150 nm/min or lower.例文帳に追加

このＴＥＯＳ膜の成膜速度が５０ｎｍ／ｍｉｎ以上、１５０ｎｍ／ｍｉｎ以下となるように調整する。 - 特許庁

The CNT-containing porous film includes the carbon nanotube (A) having ≤5 nm diameter and an organic compound (B) wherein the dipole moment μ and the molecular length L of the organic compound (B) satisfy inequalities: 1.5 nm<L<2.5 nm when 10D>μ>5D, and 1.5 nm<L<3.5 nm when μ<5D.例文帳に追加

本発明に係るＣＮＴ含有多孔質膜は、直径が５ｎｍ以下のカーボンナノチューブ（Ａ）および有機化合物（Ｂ）を含み、前記有機化合物（Ｂ）の双極子モーメントμと分子長Ｌが、１０Ｄ＞μ＞５Ｄの場合は１．５ｎｍ＜Ｌ＜２．５ｎｍであり、μ＜５Ｄの場合は１．５ｎｍ＜Ｌ＜３．５ｎｍである。 - 特許庁

The either one peak part of particle diameter distribution has a particle diameter of ≥150 nm and the other peak part has a particle diameter of ≤80 nm.例文帳に追加

粒子径分布の一方のピーク部が１５０ｎｍ以上であり、かつ他方のピーク部が８０ｎｍ以下である。 - 特許庁

PROJECTION ALIGNER OF MICRO LITHOGRAPHY FOR λ<200 nm例文帳に追加

λ＜２００ｎｍ用のマイクロリソグラフィの投影露光装置 - 特許庁

The particle diameter of the particle is 1-10 nm.例文帳に追加

粒子の粒径が１ｎｍ以上１０ｎｍ以下である。 - 特許庁

The other functional particles have a particle diameter of over 500 nm.例文帳に追加

他の機能性粒子の粒径が５００ｎｍを超える。 - 特許庁

The electron supply layer 12 is formed by setting an Al composition ratio and a film thickness to 10-18[%] and 5-15 [nm], respectively.例文帳に追加

電子供給層１２は、Ａｌ組成比率を１０〜１８[％]とし、膜厚を５〜１５[nm]として形成する。 - 特許庁

The electron supply layer 15 is formed, by setting the Al composition ratio and film thickness to 10-18[%] and 5-15 [nm], respectively.例文帳に追加

電子供給層１５は、Ａｌ組成比率を１０〜１８[％]とし、膜厚を５〜１５[nm]として形成する。 - 特許庁