p- typeの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9428件
An n-type InP clad layer 2, a GRIN-SCH-MQW active layer 3, a p-type InP spacer layer 4, a p-type InP clad layer 6 and a p-type InGaAsP contact layer 8 are sequentially laminated on an n-type InP substrate 1, and an n-type electrode 11 is disposed on the lower part of the substrate 1.例文帳に追加
n−InP基板1上に順次n−InPクラッド層2、GRIN−SCH−MQW活性層3、p−InPスペーサ層4、p−InPクラッド層6、p−InGaAsPコンタクト層8を積層し、n−InP基板1の下部にはn型電極11を配置する。 - 特許庁
The light transmitting layer 3 has an Al alloy ratio higher than that of the p-type AlGaAs active layer 4.例文帳に追加
透過層3は,Al混晶比が,p型AlGaAs活性層4よりも高い組成を有している。 - 特許庁
As the exchanger P, a shell and tube type heat exchanger P using sea water as a cooling water is used.例文帳に追加
熱交換器Pは、海水を冷却水として使用するシェルアンドチューブ型熱交換器Pとする。 - 特許庁
An N well 12 is formed in a P type silicon substrate 10 and a P well 14 is formed in the N well.例文帳に追加
P型シリコンの基板10にNウェル12が形成され、NウェルにPウェル14が形成される。 - 特許庁
The p-type well layer 4 and the n-type diffusion layer 20 have nonoverlapping diffusion regions and the n-type buffer layer 7 has a region touching the n-type active layer 3 directly between the p-type well layer 4 and the n-type diffusion layer 20.例文帳に追加
p型ウエル層4とn型拡散層20とは互いの拡散領域が重ならず、p型ウエル層4とn型拡散層20との間で、n型バッファ層7がn^- 型活性層3に直接接触する領域を有する。 - 特許庁
The semiconductor device is constituted of the integrated circuit equipped with a plurality of p-type electric field effect type transistors, a plurality of n-type electric field effect type transistors, a P-type substrate contact region 6 and an N-type substrate contact region 5 on a substrate.例文帳に追加
半導体装置は、基板の上に、複数のp型電界効果型トランジスタ、複数のn型電界効果型トランジスタ、P型基板コンタクト領域6及びN型基板コンタクト領域5を備えた集積回路からなる。 - 特許庁
The semiconductor laser comprises on a substrate 11 an n-type cladding layer 12, an n-type guide layer 13, an i-type guide layer 14, an active layer 15, an i-type guide layer 16, an electron barrier layer 17, a p-type superlattice cladding layer 18, and a p-type contact layer 19.例文帳に追加
基板11上にn型クラッド層12,n型ガイド層13,i型ガイド層14,活性層15,i型ガイド層16,電子障壁層17,p型超格子クラッド層18およびp側コンタクト層19を有する。 - 特許庁
The refractive index relaxing layers 107a and 107b are formed as a p-type area whose refractive index is the same as that of a p-type second clad layer 107.例文帳に追加
屈折率緩和層107a,107bは、p型第2クラッド層107と同じ屈折率を有するp型領域である。 - 特許庁
A bypass capacitor C1 is formed by a P-N junction between an N-type well region 2e and a P-type substrate 2, on the side of an analog circuit block 20.例文帳に追加
アナログ回路ブロック20側では、Nウェル領域2eとP基板2との間のPN接合によりバイパスコンデンサC1を形成する。 - 特許庁
The concentration of p-type impurities of the curved part 36b of the resurf layer 36 is smaller than that of p-type impurities of the linear parts 36a and 36c.例文帳に追加
リサーフ層36の曲線部36bのp^—型不純物濃度は、直線部36a,36cのp^—型不純物濃度よりも薄い。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING Mg DOPED P-TYPE Si AND THERMOELECTRIC CONVERSION MATERIAL例文帳に追加
Mgドープp型Siの作製方法および熱電変換材料 - 特許庁
At this time, the p-type buried diffusion layers 43, 44, 45 are formed by diffusing them from the surface of the first p-type epitaxial layer 7.例文帳に追加
このとき、P型の埋込拡散層43、44、45は1層目のエピタキシャル層7表面から拡散して形成されている。 - 特許庁
To provide a Mg_2Si system p-type thermoelectric material having a thermoelectric performance higher than that of the conventional Mg_2Si system p-type thermoelectric material.例文帳に追加
従来のMg_2Si系のp型熱電材料に比べて熱電性能の高いMg_2Si系のp型熱電材料を提供する。 - 特許庁
To prevent p-type dopants from entering a gate insulation film.例文帳に追加
p型不純物がゲート絶縁膜に進入することを防止する。 - 特許庁
Concentration of p-type impurity included in the region 21 is about 1.5 to 2.5 times the concentration of the p-type impurity included in the region 22.例文帳に追加
領域21に含まれるP型の不純物の濃度は、領域22に含まれるP型の不純物の濃度の1.5〜2.5倍である。 - 特許庁
The first layer of the p-type GaAs layers contacts the p-type band-discontinuity relaxation layer 10 and the m+1 th layer of the GaAs layers contacts a first electrode 14.例文帳に追加
p型GaAs層は1層目がp型バンド不連続緩和層10に、m+1層目が第1電極14に接している。 - 特許庁
The incorporated Mn forms a shallow acceptor level, and the GaN becomes a p-type semiconductor.例文帳に追加
Mnが浅いアクセプタレベルを形成し、GaNがp型を示す。 - 特許庁
A first capacitor is connected to both ends of the p-type charge pump.例文帳に追加
第1のキャパシタがp型電荷ポンプの両端に結合される。 - 特許庁
The graded composition superlattice layer 20 is formed by laminating p-type ZnTe layers 20a, 20c, 20e, 20g, 20i and p-type ZnSe layers 20b, 20d, 20f, 20h, 20j alternately.例文帳に追加
組成傾斜超格子層20はp型ZnTe層20a,20c,20e,20g,20iとp型ZnSe層20b,20d,20f,20h,20jとを交互に積層して形成する。 - 特許庁
A p-type cladding layer 6 with the film thickness of about 50 nm made of an Mg doped p-type Al_0.15Ga_0.85N is formed on this active layer 5.例文帳に追加
この活性層5の上には、Mgドープのp型Al_0.15Ga_0.85Nから成る膜厚約50nmのp型クラッド層6が形成されている。 - 特許庁
The p-type electrode 112 is arranged in the light receiving surface 119.例文帳に追加
p型電極112は、受光面119内に配置されている。 - 特許庁
The well is electrically isolated from the P conductivity-type substrate.例文帳に追加
ウエル(Wp)は前記基板(Sp)から電気的に分離されている。 - 特許庁
SILICON CARBIDE BASED P-TYPE THERMOELECTRIC CONVERSION MATERIAL AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
炭化珪素系p型熱電変換材料及びその製造方法 - 特許庁
The semiconductor layer 102 is formed as the p-type one with the addition of carbon (C).例文帳に追加
半導体層102は、Cの添加によりp型とされている。 - 特許庁
The active region includes at least one additional p-type layer.例文帳に追加
活性領域は、少なくとも1つの付加的なp型層を含む。 - 特許庁
The p-type dopant is ion-implanted into a silicon carbide substrate through an opening in a mask to form the deep p-type implantation region.例文帳に追加
炭化シリコン基板内にマスクの開口部を通してp型ドーパントをイオン注入して深いp型注入領域を形成する。 - 特許庁
An n-type drift region DRI and a p-type body region BO are formed at the main surface side of the p^- epitaxial region EP2.例文帳に追加
p^-エピタキシャル領域EP2の主表面側には、n型ドリフト領域DRIとp型ボディ領域BOとが形成されている。 - 特許庁
Moreover, a projected ridge stripe of the p-type AlGaN clad layer 4 and the p-type GaN contact layer 5 constitutes a ridge part A.例文帳に追加
また、p型AlGaNクラッド層4の凸形状のリッジストライプとp型GaNコンタクト層5とでリッジ部Aが構成されている。 - 特許庁
An N-type semiconductor 2 and a P-type semiconductor 3 are laminated on a substrate 1 made of a compound semiconductor to form a P-N junction 4.例文帳に追加
化合物半導体から成る基板1にN形半導体2、P形半導体3を積層してPN接合部4を形成する。 - 特許庁
The P-type diffusion layer 23 is formed to have an impurity concentration lower than that of the P-type diffusion layer 22 and have a diffusion width which is smaller.例文帳に追加
そして、P型の拡散層23は、P型の拡散層22よりも不純物濃度が低く、その拡散幅が狭く形成される。 - 特許庁
An insulating film 13 is formed on the P type semiconductor layer 12.例文帳に追加
P型半導体層12上には、絶縁膜13を形成する。 - 特許庁
A buffer layer 11, a p-type semiconductor layer 12 and a p-type contact layer 13 are laminated on one side of a substrate 10 in this order.例文帳に追加
基板10の一面側に、バッファ層11、p型半導体層12およびp型コンタクト層13がこの順に積層されている。 - 特許庁
By irradiating laser light (ν) on these p-type nitride semiconductor layers 6-9, the p-type dopants contained therein are activated.例文帳に追加
これらのp型の窒化物半導体層6〜9に対してレーザ光νを照射することによりp型不純物の活性化を行う。 - 特許庁
A p-type source diffusion layer 10, a p-type drain diffusion layer 11 and an intermediate layer 12 are formed sideward of each electrode part 8, 18.例文帳に追加
各電極部8,18の側方に、p型ソース拡散層10,p型ドレイン拡散層11及び中間拡散層12を形成する。 - 特許庁
p-TYPE THERMOELECTRIC CONVERSION MATERIAL AND THERMOELECTRIC CONVERSION ELEMENT USING IT例文帳に追加
p型熱電変換材料及びそれを用いた熱電変換素子 - 特許庁
In addition, the signal ground-pair transmission line 30 is connected to the source layer 4 of the transistor 10 and a P^+-type layer 8 in the P-type well 2.例文帳に追加
また、信号グランドペア伝送線路30は、ドライバトランジスタ10のソース層4、Pウエル2中のP^+層8にそれぞれ接続される。 - 特許庁
An interlayer dielectric 23 is formed on the p-type silicon substrate 1.例文帳に追加
P型シリコン基板1上に層間絶縁膜23を形成する。 - 特許庁
A second p-type region 8 is electrically floating.例文帳に追加
第2のP型領域8は電気的に浮遊状態になっている。 - 特許庁
Two p-type load transistors are formed in the n well 14.例文帳に追加
nウェル14には、二つのp型負荷トランジスタが形成されている。 - 特許庁
At the termination section 5, there is a p-type horizontal resurf region 130.例文帳に追加
終端部5にはp型横型リサーフ領域130を設ける。 - 特許庁
The carrier concentration of the first p-type inversion area 5a is set higher than that of second p-type inversion area 5b.例文帳に追加
第1のp型反転領域5aのキャリア濃度は第2のp型反転領域5bのキャリア濃度より高く設定されている。 - 特許庁
Further, it is desired that the p-type semiconductor layer is porous.例文帳に追加
また、p型半導体層は、多孔質体であることが望ましい。 - 特許庁
Trenches 3 are provided so as to penetrate through the P-type anode layer.例文帳に追加
P型アノード層を貫通するようにトレンチ3が設けられている。 - 特許庁
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|