「plasma effect」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目)

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例文 (210件)

plasma effectの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 210件

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例文

To obtain an electrostatic chuck that can increase the plasma- resistance property of an electrostatic chuck base, without damaging attraction force by the Johnson-Rahbek effect, can suppress generation of impurity elements that become the contamination source for a body to be attracted and generation leakage current accompanying reduction of resistivity, and can be used over a wide temperature range.例文帳に追加

ジョンソンラーベック力による吸着力を損なうことなく、静電チャック基材の耐プラズマ性を高め、被吸着体に対して汚染源となる不純物元素の発生、及び、抵抗率の低下に伴うリーク電流の発生を抑制でき、幅広い温度範囲で使用できる静電チャックを提供する。 - 特許庁

This aurora generation device generates plasma 15 by arranging a ring form earth electrode 6 in imitation of conifers correspondingly to a ring form discharge electrode and promoting discharge, to easily realize a condition for generating desired auroras, and enhances an object effect by letting a silhouette of the conifers appear and increases the display value.例文帳に追加

円環状の放電電極４に対応して針葉樹を模擬した形状の円環状のアース電極６を設けて放電を促進させてプラズマ１５を発生させ、所望のオーロラの発生状況を容易に得ることを可能にし、針葉樹のシルエットを出現させてオブジェ効果を高め、ディスプレイ価値を増大させる。 - 特許庁

To provide a method of producing a silicon oxide film by which the adverse effect of an oxidizing gas containing oxygen atoms or an inert gas, used together with an organosilicon gas being a gaseous raw material, on a base material can be suppressed at the minimum when the silicon oxide film is deposited by a plasma CVD method.例文帳に追加

本発明は、プラズマＣＶＤ法により酸化珪素膜を成膜する際に、原料ガスである有機珪素ガスと共に用いられる酸素原子を含む酸化性ガスもしくは不活性ガスによる基材に対する不具合を最小限に抑えることができる酸化珪素膜の製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

The production method of the multilayer films comprises forming the multilayer films laminated with the layers varying in at least one among constitution elements, compositions, and crystal structures by using a magnetron sputtering apparatus 1 which has a target 14 composed of thin film raw materials as base materials and performs sputtering by concentrating a plasma by the effect of a magnetic field near to the surface of the target 14.例文帳に追加

多層膜の製造方法は、薄膜原料を基材とするターゲット１４を有し、ターゲット１４の表面近傍に磁場の作用でプラズマを集中させてスパッタリングを行うマグネトロン・スパッタ装置１を用い、構成元素、組成、結晶構造の少なくとも一つが相違する層を積層させた多層膜を形成する方法である。 - 特許庁

例文

To provide a method for peeling a photoresist by which a photoresist film and an etching residue after etching can be effectively removed without using O_2 plasma ashing even in a process of forming a fine pattern on a substrate having at least copper wiring and a low dielectric material layer, no adverse effect is given to the dielectric constant of the low dielectric material layer, and excellent corrosion resistance is obtained.例文帳に追加

少なくとも銅配線と低誘電体層を有する基板上の微細パターン形成において、Ｏ_２プラズマアッシング処理を行わないプロセスにおいても、エッチング後のホトレジスト膜、エッチング残渣物を効果的に剥離することができ、しかも低誘電体層の誘電率への悪影響を及ぼさず、防食性にも優れるホトレジスト剥離方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a fluid treatment apparatus excellent in decomposition and separation treatment of a liquid, and purification, disinfection and sterilization effect despite a simple structure and low cost since a nano-bubble and a micro-bubble apparatus, an electrolysis and a conventional plasma treatment apparatus are insufficient in purification and disinfection of a high-concentration and hardly decomposable organic materials, and hazardous substances.例文帳に追加

ナノバブル・マイクロバブル装置、電気分解や従来のパルスプラズマ処理装置では高濃度・難分解有機物・有害物質の浄化・滅菌がまだ不充分であり、本発明は、構造が簡単で安価でありながら流体の分解・分離処理に優れ、浄化、滅菌、殺菌効果に優れた流体処理装置の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide an electric discharge gas treatment apparatus and method capable of certainly developing the synergistic effect due to a combination of non-equilibrium plasma discharge treatment and an adsorbing catalyst to enhance the removal capacity of a substance to be treated in gas to be treated and using the adsorbing catalyst inexpensive and long in life as compared with a case using a metal oxide catalyst.例文帳に追加

非平衡プラズマ放電処理と吸着触媒との組み合わせによる相乗効果を確実に発揮させて、被処理ガス中の被処理物質の除去性能を高めることができ、しかも金属酸化物系触媒を用いる場合に比べて吸着触媒が安価かつ長寿命である放電ガス処理装置および放電ガス処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a hetero-junction field effect transistor by which plasma damage of a reactive ion or the like entering a crystal due to dry etching for selective removal of an insulation layer or a semiconductor layer above a barrier layer is suppressed in a crystal structure, where the barrier layer with a larger atomic weight than an electron supply layer is formed on the electron supply layer of the hetero-junction field effect transistor.例文帳に追加

ヘテロ接合電界効果トランジスタの電子供給層上に電子供給層よりも平均原子量の大きなバリア層を形成した結晶構造において、バリア層より上の絶縁膜もしくは半導体層を選択に除去する際のドライエッチングによって結晶内に侵入する反応性イオン等のプラズマ損傷を抑制することを目的したヘテロ接合電界効果トランジスタの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a chamber liner made of glasslike carbon, which does not generate metal pollutants or particles when it is consumed by plasma, has functions being required for the glassy carbon chamber liner, can be relatively easily formed into a cylindrical form having a high circularity, and is expected to exhibit such an anchor effect that reaction products stuck on its surface part are allowed to stick and fix on the surface.例文帳に追加

プラズマによりチャンバーライナーが消耗する際に、チャンバーライナー自身からの金属汚染、パーティクルの発生等を防止し、ガラス状炭素製チャンバーライナーに要求される機能を確保し、比較的容易に高い真円度を有する円筒形状のものを得ることが可能であると共にチャンバーライナー使用時に、該チャンバーライナーの表面部位に付着した反応生成物を付着させ、固定するアンカー効果が期待できるガラス状炭素製チャンバーライナーを提供する。 - 特許庁

例文

The method for manufacturing a halftone phase shift mask includes steps of forming the MoSi halftone phase shift film having a film thickness giving the phase difference of ≤135° on the quartz glass substrate by reactive sputtering and etching the quartz glass substrate using a chromium film as a mask by dry etching by magnetic neutral line discharge plasma with addition of a gas having an effect of protecting a side wall to the process gas.例文帳に追加

また、本発明によるハーフトーン型位相シフトマスクの製造法は、石英ガラス基板上に、反応性スパッタリング法によりＭｏＳｉ系のハーフトーン位相シフト膜を位相差が１３５°以下となるような膜厚に成膜し、続いてクロム膜をマスクとして、磁気中性線放電プラズマによるドライエッチングによりプロセスガスに側壁保護効果をもつガスを添加して、石英ガラス基板をエッチング処理することから成る。 - 特許庁