「plasma-processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which variation in processing size can be reduced between different plasma processing apparatus, and to provide a power supply circuit, and a plasma processing apparatus.例文帳に追加

異なるプラズマ処理装置との間における加工寸法のばらつきを低減できる半導体装置の製造方法、電源回路、及びプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing method of achieving accurate processing of a semiconductor device with a high-k/metal structure by accurately detecting an end point of the plasma processing of the semiconductor device.例文帳に追加

Ｈｉｇｈ−ｋ／メタル構造を有する半導体素子のプラズマ処理の終点を高精度に検知して高精度加工を実現するプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus, which can generate a uniform plasma in a processing container and thus can provide regular processing, even if a wafer has a large diameter.例文帳に追加

処理容器内に一様なプラズマを発生させることができ、従って大口径のウエハであっても一様な処理をおこなうことができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

This plasma processing apparatus processes an object to be treated W, in a processing chamber 2 maintained in a vacuum atmosphere by utilizing a plasma generated by imparting energy to a processing gas.例文帳に追加

プロセスガスにエネルギーを付与して生成したプラズマを利用して、真空雰囲気の処理室２内にて被処理物Ｗの処理を行うプラズマ処理装置である。 - 特許庁

To provide a plasma processing system for processing a planar workpiece having a capability to alter the rotational position of the workpiece for the plasma processing chamber of the system.例文帳に追加

平面なワークピースを処理するプラズマ処理システムは、前記システムのプラズマ処理チャンバに対するワークピースの回転位置を変更する能力を有するように提供される。 - 特許庁

To provide a plasma processing device including a means for detecting an amount of an ion flux of plasma (plasma density) and a device state on a distribution of the amount of an ion flux of plasma, wherein the amount of an ion flux of plasma is related to a stability in mass production and a reduction in a performance difference among chambers or devices.例文帳に追加

量産安定性と機差低減に関わるプラズマのイオンフラックスの量（プラズマ密度）と、その分布に関する装置状態を検知する手段を備えたプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electrode plate for a plasma processing apparatus, along with a plasma processing apparatus, capable of improving in-plane uniformity in a plasma process by reducing a temperature difference that occurs on an electrode plate.例文帳に追加

電極板に生じる温度差を小さくして、プラズマ処理の面内均一性を向上させることができるプラズマ処理装置用電極板及びプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma CVD vapor deposition method, plasma processing or the like evenly performing a plasma processing on an inner surface of a cylinder-shaped structure without deforming the structure.例文帳に追加

本発明はプラズマＣＶＤ蒸着法やプラズマ処理などにおいて、筒状構造物を変形させることなく、該構造物内面に均一にプラズマ処理を行うことを目的とする。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus for easily unifying a plasma density distribution near a substrate under plasma processing conditions, such as a wide range of gas species and pressure.例文帳に追加

本発明は、広範囲なガス種や圧力等のプラズマ処理条件において基板近傍プラズマ密度分布を容易に均一に出来るプラズマ処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a component which is used in a plasma processing apparatus and can prevent a thermally sprayed insulator film formed on the surface exposed with plasma from peeling off, and to provide a component for use in a plasma processing apparatus.例文帳に追加

プラズマ暴露面に形成される絶縁体溶射膜の剥離を防止できるプラズマ処理装置内部品の製造方法及びプラズマ処理装置内部品を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus, a plasma processing method, and a plasma-processed substrate for preventing a mold resin from flowing out excessively from a molding and for forming the molding hard to get out of its shape.例文帳に追加

モールド樹脂の過度の流出を防止し、形崩れしにくいモールド体を形成するためのプラズマ処理装置、プラズマ処理方法およびプラズマ処理基板を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma processing device and a plasma processing method that assure stable electrostatic adsorption and prevent abnormal discharge resulting from increased plasma potential, using dipole-type J-R electrodes.例文帳に追加

ダイポール式のＪ−Ｒ電極を用い、安定な静電吸着の確保とプラズマ電位の上昇による異常放電の抑制が可能なプラズマ処理装置および方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device which improves uniformity of processing and a processing speed during ashing and cleaning.例文帳に追加

アッシング及びクリーニング時における処理均一性と処理スピードを改善向上させるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which generates plasma having higher density and achieves higher throughput of substrate processing compared to conventional substrate processing apparatuses.例文帳に追加

従来に比べ密度の高いプラズマを生成し、高い基板処理のスループットを持つ基板処理装置を提供する。 - 特許庁

Plasma processing is conducted to the surface parts of the film 3 and wirings 4 for thirty seconds, by using CH_4 in a plasma state.例文帳に追加

膜３および配線４の表層部に、プラズマ状態のCH_4ガスを用いて３０秒間プラズマ処理を施す。 - 特許庁

To provide a plasma processing device in which a light emitting state of a plasma near a to-be-processed object is easily found.例文帳に追加

被処理物近傍のプラズマの発光状態を容易に知ることができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

A plasma is produced remotely in a processing chamber, and a flow of plasma is directed to a substrate.例文帳に追加

処理チャンバに関して遠隔的にプラズマを形成し、基板に向かう流れがこの処理チャンバから生成される。 - 特許庁

To provide a plasma processing system for forming a plasma forming region with small density variations in a chamber.例文帳に追加

チャンバ内にプラズマ密度のばらつきの少ないプラズマ生成領域を形成するプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing method which can more freely control the component (composition) of plasma generated by vacuum discharge.例文帳に追加

真空放電によるプラズマの構成成分（組成）をより自由に制御可能なプラズマ加工法を提供すること。 - 特許庁

To simply control plasma damage only by the partial change of the configuration of an existing plasma processing apparatus.例文帳に追加

既存のプラズマプロセス装置の構成を部分的に変更するだけで、簡単にプラズマダメージを抑制できるようにする。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for preventing leakage of plasma around an isolation valve of a plasma processing chamber.例文帳に追加

プラズマ処理チャンバーのアイソレーションバルブの周囲のプラズマ漏洩を防止する方法及び装置を提供する。 - 特許庁

For instance, the oxygen active species can be obtained by an atmospheric pressure plasma processing that supplies the plasma into the atmospheric pressure atmosphere.例文帳に追加

酸素活性種は、例えば、大気圧雰囲気中へプラズマを供給する大気圧プラズマ処理により得られる。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for preventing arcing at a port exposed to a plasma in a plasma processing chamber.例文帳に追加

プラズマチャンバにおいてプラズマに露出されたポートでのアーク放電を防止する方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma generator and a plasma processing device extending the service life of a discharge tube.例文帳に追加

本発明は、放電管の寿命を延ばすことができるプラズマ発生装置およびプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus easy to be installed in a manufacturing facilities without disturbance in plasma and without causing a large size of the apparatus.例文帳に追加

プラズマの撹乱がなく、装置が大型にならず、製造装置に容易に搭載することができるようにする。 - 特許庁

To enhance the uniformity and yield of a plasma processing process by allowing plasma density profile to be controlled easily and arbitrarily.例文帳に追加

プラズマ密度分布の容易かつ自在な制御を可能とし、プラズマプロセスの均一性や歩留まりを向上させる。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which enables the observation of the state of a processed object under a plasma treatment on real time.例文帳に追加

プラズマ処理中の被処理物の状態をリアルタイムで観察可能とするプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a seal structure of a plasma processing structure capable of stabilizing plasma and preventing deterioration of a sealing member.例文帳に追加

プラズマを安定させ、シール部材の劣化を防止することができるプラズマ処理装置のシール構造を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device in which plasma generating efficiency is improved and plasma ignition can be stably performed.例文帳に追加

プラズマ発生効率を向上させるとともに、プラズマ点火を安定的に行える基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To realize a high-density plasma by confining a plasma in a space between electrodes without diffusing it in a processing chamber.例文帳に追加

プラズマを処理室内に拡散させず，電極間空間内に閉じこめて高いプラズマ密度を実現させる。 - 特許庁

To provide a microwave plasma processing apparatus for further reducing damage to a substrate by microwave plasma.例文帳に追加

マイクロ波プラズマによる基板へのダメージを更に低減することが可能なマイクロ波プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

This results in reducing damage to the film quality of the wafer backside due to plasma generated during the high density plasma processing.例文帳に追加

これにより、高密度プラズマ工程中のプラズマによるウエハ裏の膜質ダメージを減少することができる。 - 特許庁

To provide a plasma forming method capable of improving the unevenness of a plasma density distribution accompanied with the enlargement of a plasma source to achieve an even plasma processing over the entire substrate.例文帳に追加

プラズマ源の大型化に伴うプラズマ密度分布の不均一性を改善し、基板の全面にわたって均一なプラズマ処理を実現することができるプラズマ形成方法を提供する。 - 特許庁

As the result of the oxygen plasma processing, the reaction product 14 is removed.例文帳に追加

この酸素プラズマ処理の結果、反応生成物１４が除去される。 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURED USING SAME例文帳に追加

プラズマ処理装置およびこのプラズマ処理装置を用いて製造されたデバイス - 特許庁

AUTO-BIAS CONTROL SYSTEM, AUTO-BIAS CONTROL METHOD, AND PLASMA PROCESSING METHOD例文帳に追加

自己バイアス制御システム、自己バイアス制御方法及びプラズマ処理方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING INSULATING FILM, APPARATUS FOR FORMING INSULATING FILM, AND PLASMA PROCESSING UNIT例文帳に追加

絶縁膜形成方法、絶縁膜形成装置及びプラズマ処理ユニット - 特許庁

The plasma processing device conducts processing using plasma and detects the condition of plasma generating in a processing chamber or the adhesive quantity of a reactive product adhered to exhaust piping by using a frequency-measuring device.例文帳に追加

プラズマを用いた処理を行うプラズマ処理装置であって、処理室内に発生するプラズマの状態あるいは排気配管に付着した反応性生成物の付着量を、周波数測定装置を用いて検出する。 - 特許庁

To provide an electrode which can be supplied with high power and can perform plasma processing stably for a long time, and to provide a plasma processing unit employing that electrode.例文帳に追加

大電力を投入でき、長時間安定してプラズマ処理できる電極および該電極を用いたプラズマプロセス装置を提供する。 - 特許庁

To easily control CD in plasma etching processing.例文帳に追加

プラズマエッチング処理において、ＣＤを容易に制御できるようにすること。 - 特許庁

To provide a dielectric-coated electrode and a plasma-discharge processing device.例文帳に追加

誘電体被覆電極及びプラズマ放電処理装置を提供する。 - 特許庁

The first film 3 on the wafer W is etched back by the plasma processing device.例文帳に追加

プラズマ処理装置は、ウエハＷ上の第１膜３をエッチバックする。 - 特許庁

To provide a plasma processing method capable of improving quality of an obtainable film and reducing influence of plasma processing on a substrate, a film formation method, a manufacturing method of a semiconductor device, and a plasma processing device.例文帳に追加

得られる膜の品質を向上できると共にプラズマ処理が基板に及ぼす影響を低減できるプラズマ処理方法、膜形成方法、半導体デバイスの製造方法及びプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

A light emission detection unit 31 detects the light emission intensity in plasma processing.例文帳に追加

発光検出部３１は、プラズマ処理の発光強度を検出する。 - 特許庁

In this plasma processing system, O2 concentration of the gas 8 is set at 0.8-2.0%.例文帳に追加

プラズマ生成用ガス８のＯ_2濃度を０．８〜２．０％に設定する。 - 特許庁