「processing tank」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

PROCESSING METHOD OF OIL AND WATER MIXED SLUDGE ACCUMULATED IN CRUDE OIL TANK例文帳に追加

原油タンク内に蓄積した油水混合スラッジの処理方法 - 特許庁

Gas is discharged from the inside of the processing tank 10 by an exhaust system 40.例文帳に追加

排気系４０で処理槽１０の内部からガスを排出する。 - 特許庁

A processing tank 4 is provided in the lower part of a downflow duct 20.例文帳に追加

ダウンフローダクト２０内の下部に処理槽４が設けられている。 - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING DECANTER LIQUID INTO LIQUID FERTILIZER USING SUPER DEEP LAYER AERATING TANK例文帳に追加

超深層曝気槽を用いたデカンター汁液の液肥化処理方法 - 特許庁

A liquid level in a processing tank is controlled so as to be lower than a substrate held in the processing tank, and a processing liquid is discharged in the air from a first discharge part included in first circulation means to the substrate in the processing tank.例文帳に追加

処理槽内の液面レベルを、処理槽内に保持される基板よりも下の液面レベルに制御し、その処理液を、第１循環手段に備えられた第1吐出部から基板に向けて処理槽内で空中吐出する。 - 特許庁

The reserving/permeating tank for processing rainwater, etc., is composed of a reserving tank and a permeating tank, and works in such a way that water is lead in from the bottom of the reserving tank to lead an overflow of water from the reserving tank into the permeating tank.例文帳に追加

本発明は、雨水等の貯留兼浸透槽であって、貯留槽と浸透槽からなり水を貯留槽の底部より導入し貯留槽のからの越流水を浸透槽に導入する貯留兼浸透槽である。 - 特許庁

To surely replenish a regulated amount of a solid processing agent into a tank of a photosensitive material processing device.例文帳に追加

固形の処理剤を感光材料処理装置の槽に確実かつ規定量補充する。 - 特許庁

To surely replenish a specified amount of granular processing agent into a tank of a photosensitive material processing device.例文帳に追加

顆粒状の処理剤を感光材料処理装置の槽に確実かつ規定量補充する。 - 特許庁

ADAPTER FOR REPLENISHING PROCESSING SOLUTION FOR AUTOMATIC DEVELOPMENT PROCESSING APPARATUS OF PHOTOSENSITIVE MATERIAL AND TANK FOR REPLENISHING SOLUTION例文帳に追加

感光材料自動現像処理装置用の処理液補充用アダプタ及び補充液用タンク - 特許庁

This processing device is provided with a closed tank 3 for storing a processing liquid 2; a processing stage 6 soaked in the processing liquid 2 in the closed tank 3, held by a static bearing for holding a work piece 5; and a driving stage 28 provided outside the closed tank 3, for moving the processing stage 6.例文帳に追加

加工液２を溜める密閉タンク３と、密閉タンク３内の加工液２中に浸漬され、静圧軸受で支持され、被加工物５を保持する加工用ステージ６と、密閉タンク３の外に設けられ、加工用ステージ６を移動させる駆動ステージ２８とを備える。 - 特許庁

To prevent processing gas from leaking from a processing tank for surface-treating an object to be treated, and stabilize a flow of the processing gas in a processing space.例文帳に追加

被処理物を表面処理する処理槽から処理ガスが漏れるのを防止し、かつ処理空間での処理ガスの流れを安定化する。 - 特許庁

A substrate processing apparatus includes a processing tank 2 in which the processing liquid 3 is accumulated and the target surface 4a of the wafer 4 is processed with the processing liquid 3.例文帳に追加

内部に処理液３を貯留し、処理液３によりウェーハ４の被処理面４ａに対する処理が行われる処理槽２を備える。 - 特許庁

To prevent air retained in a reboiler and a steam supply pipe from being supplied to a processing tank when supplying steam to the processing tank.例文帳に追加

処理槽内への蒸気供給時に、リボイラや給蒸管内に溜まっていた空気が、処理槽内へ供給されてしまうのを防止する。 - 特許庁

Therefore, it is possible to prevent contaminants broken away from the substrate W in the processing liquid from adhering to the processing tank 10, which results in the contamination of the tank.例文帳に追加

このため、基板Ｗから処理液中に離脱した汚染物質が処理槽１０に付着して汚染するのを防止することができる。 - 特許庁

The separated solid is processed in the solid processing tank 80, and discarded.例文帳に追加

分離された固体は固体処理槽８０で処理されて廃棄される。 - 特許庁

To provide a tank for processing liquid and a processing apparatus which can make the space needed for a tank and a heat exchanger small and realize low cost.例文帳に追加

タンク及び熱交換器に必要なスペースを小さくでき，かつ，低コストを実現できる処理液用タンク及び処理装置を提供する。 - 特許庁

The gas is discharged from the inside of the processing tank 10 by an exhaust system 40.例文帳に追加

排気系４０で処理槽１０の内部からガスを排出する。 - 特許庁

To prevent the bumping in a supply tank and an evaporation tank of a sulfuric acid-regenerating unit of a substrate processing apparatus.例文帳に追加

基板処理装置の硫酸再生装置における供給槽および蒸発槽での突沸を防止すること。 - 特許庁

This method for operating the vacuum thawing unit comprises supplying a sealable processing tank 1 with steam after depressurizing the inside of the tank and conducting at least once a process in which the tank is depressurized after supplying the tank with the steam.例文帳に追加

密閉可能な処理槽１内を減圧した後蒸気を供給し、蒸気を供給した後減圧する工程を少なくとも１回行うことを特徴としている。 - 特許庁

The processing tank 4 is formed of an inner tank 40 capable of accommodating a plurality of substrates W, and an external tank 43 provided so as to surround the upper part of external periphery of the internal tank 40.例文帳に追加

処理槽４は複数の基板Ｗを収納可能な内槽４０および内槽４０の上部外周を取囲むように設けられた外槽４３により形成されている。 - 特許庁

REGENERATING PROCESSING METHOD OF WASTE SLURRY IN SLURRY USE-TYPE PROCESSING APPARATUS, REGENERATING PROCESSING DEVICE USED THEREFOR AND RECOVERY TANK例文帳に追加

スラリー使用型加工装置における廃スラリーの再生処理方法及びこれに使用する再生処理装置並びに回収タンク - 特許庁

Furthermore, the substrate processing apparatus includes a supply means (for example, circulation pump 6 and supply piping 7) for supplying the processing liquid 3 into the processing tank 2, and a rotary member (for example, stirrer 21) configured to rotate to stir the processing liquid 3 in the processing tank 2.例文帳に追加

処理液３を処理槽２内へ供給する供給手段（例えば、循環ポンプ６及び供給配管７）と、回転することによって処理槽２内の処理液３を撹拌する回転部材（例えば、スターラ２１）を備える。 - 特許庁

A wet processing apparatus includes a wafer holding portion 3 for holding the wafer 1 and a processing tank 2 in which peeling processing, cleaning processing, or etching processing is carried out on the processing surface 15 of the wafer 1 with a processing liquid 19 reserved inside.例文帳に追加

ウェハ１を保持するウェハ保持部３と、内部に貯留している処理液１９によりウェハ１の被処理面１５に対し、剥離処理、洗浄処理又はエッチング処理が行われる処理槽２とを備える。 - 特許庁

The processing liquid cabinet 2 is provided with a supply piping 10 for supplying the processing liquid reserved in a processing liquid tank 9 to the processing chamber 1.例文帳に追加

処理液キャビネット２には、処理液タンク９に貯留されている処理液を処理室１に供給するための供給配管１０が備えられている。 - 特許庁

The wafer holding portion 3 holds the wafer 1 with the processing surface 15 down and dips the processing surface 15 into the processing liquid 19 reserved in the processing tank 2.例文帳に追加

ウェハ保持部３は、ウェハ１の被処理面１５を下向きにして保持し、その被処理面１５を処理槽２に貯留されている処理液１９に浸漬させる。 - 特許庁

The inside of the processing tank 14 is provided with a raw water tank 12, and the water to be treated is fed from the raw water tank 12 to the downstream side of each membrane unit 22.例文帳に追加

処理槽１４の内側には、原水槽１２が設けられ、この原水槽１２から各膜ユニット２２の下流側に被処理水が供給される。 - 特許庁

While discharging pure water, a processing for supplying sulufric acid to the processing tank is started at time t3.例文帳に追加

また、純水を排出しつつ、時刻ｔ３において処理槽に硫酸を供給する処理を開始する。 - 特許庁

Since a plural of liquid chemical processing are carried out by the one liquid chemical processing tank 12, the space saving is achieved.例文帳に追加

１つの薬液処理槽１２により複数の薬液処理を行うため、省スペース化が図れる。 - 特許庁

The drying part 60 performs processing to dry photographic paper P conveyed from a processing tank unit 55.例文帳に追加

乾燥部６０は、処理槽ユニット５５から搬送されてくる印画紙Ｐに対して乾燥処理を行う。 - 特許庁

This canister 8 is contained in an evaporated fuel processing device processing vapor generated in a fuel tank 4.例文帳に追加

キャニスタ８は、燃料タンク４で発生するベーパを処理する蒸発燃料処理装置に含まれる。 - 特許庁

To detect the height of a development processing solution within a development processing tank with high accuracy.例文帳に追加

現像処理槽内における現像処理液の高さレベルを高精度に検知することができるようにする。 - 特許庁

Developer 3 after performing a development processing in a development processing portion 5 is made to flow into a developing tank 1.例文帳に追加

現像処理部５で現像処理を行なった後の現像液３を現像タンク１に流入させる。 - 特許庁

The apparatus for manufacturing semiconductor devices comprises a processing solution tank 1, and processing solution supply paths 7 and 9.例文帳に追加

半導体装置の製造装置は、処理液槽１と処理液供給路部材７、９とを備える。 - 特許庁

The gas is discharged from the inside of the processing tank 10 by a first exhaust system 40.例文帳に追加

第１排気系４０で処理槽１０の内部からガスを排出する。 - 特許庁

The vapor ejector 4 is disposed between the processing tank 2 and the heat exchanger 5.例文帳に追加

蒸気エゼクタ４は、処理槽２と熱交換器５との間に設けられる。 - 特許庁

INK TANK, INKJET RECORDER, AND RECOVERY PROCESSING METHOD OF INKJET RECORDING HEAD例文帳に追加

インクタンク、インクジェット記録装置、およびインクジェット記録ヘッドの回復処理方法 - 特許庁

As a result, the delivery of the uncompleted replenishing liquid to a developing tank 74 and the deviation of the processing liquid of the processing tank 74 from optimum values may be prevented.例文帳に追加

これにより、未完成の補充液が現像槽７４へ送出されて処理槽７４の処理液が最適値から外れることを防止できる。 - 特許庁

The processing solution 4 is allowed to flow in a collecting tank 12 by a down-flow system.例文帳に追加

処理液４はダウンフロー方式により、回収タンク１２へ流入する。 - 特許庁

The processing tank 3 receives the particulate material charged from the charging port 9.例文帳に追加

処理槽は３、投入口９から投入される粉粒体を受ける。 - 特許庁

The odor removing device is provided with a processing tank 1 charged with food material 8, a decompression means 2 reducing the pressure inside the processing tank 1, and a usable component supply means 16.例文帳に追加

食材８が収容される処理槽１、この処理槽１内を減圧する減圧手段２の他、有用成分供給手段１６を備える。 - 特許庁

A moisture sensor 60 is mounted on a side plate 16A of a processing tank 14.例文帳に追加

水分センサ６０は、処理タンク１４の側板１６Ａに取り付けられる。 - 特許庁

The membrane separation apparatus 10 comprises an endless processing tank 14, and a plurality of membrane units 22 is arranged on the processing tank 14 at prescribed intervals.例文帳に追加

膜分離装置１０は、無端状の処理槽１４を有し、この処理槽１４に複数の膜ユニット２２、２２…が所定の間隔をあけて配設される。 - 特許庁

In a processing tank 10 as a mainframe of a drainage processing tank 1, a protruding portion 25 protruding along the diameter is installed on the edge of an opening 24 of a manhole 50.例文帳に追加

排水処理槽１の処理槽本体１０において、マンホール５０の開口端部２４には、径方向へ突出する突出部２５が設けられている。 - 特許庁

An auxiliary tank 60 where processing solution can be kept is provided, and an auxiliary processing solution supply 70, which feeds processing solution to the tank 60, is provided.例文帳に追加

処理液を貯留可能な補助槽６０が設けられるとともに、この補助槽６０に対して処理液を供給するための補助処理液供給部７０が設けられている。 - 特許庁

In this replacing operation, an etching solution is fed to a processing tank 10 via a piping 40 from a processing solution feeder 20, and an etching solution is fed to the processing tank 10 from the auxiliary tank 60.例文帳に追加

この置換操作において、処理液供給部２０からエッチング用処理液が配管４０を介して処理槽１０に供給されるのと並行して、補助槽６０からエッチング用処理液が処理槽１０に供給される。 - 特許庁