1153万例文収録!

「processing tank」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > processing tankの意味・解説 > processing tankに関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

processing tankの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 931



例文

Etching liquid as chemical 16 is put in a chemical processing tank 15 connected to a chemical circulation device 18.例文帳に追加

薬液循環装置18と結合された薬液処理槽15は、薬液16としてエッチング液が入る。 - 特許庁

The equipment is provided with a liquid chemical switching section 21 to change over the liquid chemicals to be supplied to the liquid chemical processing tank 12.例文帳に追加

薬液切替部21を設けて、薬液処理槽12に供給する薬液を切り換える。 - 特許庁

The processing tank 10 of a photosensitive material processor is molded by a master mold plate sandwich molding method.例文帳に追加

感光材料処理装置の処理タンク10をマスターモールドプレートサンドイッチ成形法により成形する。 - 特許庁

In conjunction with the gas discharge, external gas flows inside the processing tank 10 through the openings 13, 14.例文帳に追加

このガス排出によって外部のガスが開口13,14を通して処理槽10の内部に流入する。 - 特許庁

例文

Then, the substrate W is lifted from the processing tank 20 and allowed to pass through the pure water flow.例文帳に追加

そして、基板Wを処理槽20から引き揚げつつ、そのような純水流中を通過させる。 - 特許庁


例文

The processing tank main body 3 includes the cylindrical barrel 27 and keeps its axis arranged along the back and forth direction.例文帳に追加

処理槽本体3は、円筒状の胴27を備え、その軸線を前後方向へ沿って配置される。 - 特許庁

According to this constitution, the tube part 72 is not located in a region on the processing tank 4 when the upper lid part 71 is opened.例文帳に追加

これにより、上蓋部71が開く場合に、筒部72は処理槽4上の領域に位置しない。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which keeps a dew point of atmosphere on a processing tank in a low state and fully restrains increase in size.例文帳に追加

処理槽上の雰囲気の露点を低い状態に維持するとともに、大型化が十分に抑制された基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The processing liquid in a processing liquid tank TB is led to a simple type heat exchanger S2 through piping 18, 19 and 23 by operation of a pump P2.例文帳に追加

処理液タンクTB内の処理液は、ポンプP2の動作により配管18,19,23を通して簡易式熱交換器S2に導かれる。 - 特許庁

例文

When the processing unit uses a large amount of air instantaneously, air is supplied at a large flow rate to the processing unit from the pressure-accumulating tank 30.例文帳に追加

処理ユニットにて瞬間的に大量の空気を使用するときには蓄圧タンク30から空気を大流量にて該処理ユニットに送給する。 - 特許庁

例文

The object 9 to be processed is carried in the inside of the processing tank 10 from the carry-in opening 13 along a conveying direction, and is arranged in a processing space 19.例文帳に追加

被処理物9を搬送方向に沿って搬入開口13から処理槽10の内部に搬入し、処理空間19に配置する。 - 特許庁

To drastically reduce a cost for treating a processing liquid and to eliminate the need for an occupying space of a tank for storing the processing liquid for a specified period or the like.例文帳に追加

処理液を処理するコストを著しく押え、また処理液を一定期間貯蔵するタンク等の占有スペースが不用となること。 - 特許庁

At least the lower part of the processing tank 3 is made of a gas-permeable material that allows the process gas for processing the particulate material to pass through.例文帳に追加

処理槽3は、少なくとも下部が粉粒体を処理する処理ガスの通過を許す通気性を有する材料で作製されている。 - 特許庁

Nitrogen gas is supplied from a pressure source 33 to a processing liquid storage tank 31 and processing liquid is delivered from a nozzle 23 through delivery piping 36.例文帳に追加

加圧源33から処理液貯留槽31に窒素ガスを供給して、吐出配管36を介してノズル23から処理液を吐出する。 - 特許庁

A print station 3 is equipped with a processing liquid replenishing mechanism 20 for replenishing appropriate necessary amount of the processing liquid to each processing tank 15a to 15c, containing various kinds of processing liquids, such as a color developing solution.例文帳に追加

プリントステーション3は、発色現像処理液等の各種処理液を貯留している各処理槽15a〜15cに対して、適宜必要な量の処理液を補充する処理液補充機構20を備えている。 - 特許庁

To provide a development processing apparatus that can maintain processing solution performance, without deteriorating the processing solution in a tank in a standby state and immediately perform development processing at an order request for development processing, even when the standby state becomes long.例文帳に追加

待機状態時にタンク内の処理液をみだりに劣化させずに処理液性能を維持するとともに、待機状態が長くなっても現像処理の注文依頼を受けた時にすぐに現像処理が行える現像処理装置を提供する。 - 特許庁

To exactly detect the completion of filling of a processing liquid of a processing liquid replenishing device having replenishing means for sending the processing liquid taken out of a cartridge C to a processing tank where the processing of photosensitive materials is carried out.例文帳に追加

本発明は、カートリッジCから取出した処理液を感光材料の処理を行う処理槽に送る補充手段を備えている処理液補充装置において、処理液の充填の完了を正確に検出することを目的とする。 - 特許庁

An arithmetic processing part 200 performs arithmetic of resetting the point of the defeated tank to be 0 when a player tank manipulated by a player operation part 100 defeats another tank, and restoring it again in the game space after this.例文帳に追加

演算処理部200は、プレーヤ操作部100により操縦されるプレーヤ戦車が、他の戦車を撃破すると、撃破された戦車の持ち点を0にリセットし、その後ゲーム空間に再び復活する演算を行う。 - 特許庁

To provide a processing method capable of giving a merit of disposable processing method while avoiding a demerit of a disclosed conventional disposable method of deep tank replenishing processing.例文帳に追加

深タンク補充処理の欠点を回避しながら、従来開示された1回使用方法の欠点を回避する方式で、1回使用処理の利点を与える処理方法を提供する。 - 特許庁

This device 7 for preparation and replenishment of the replenishing liquid for photographic processing is connected to the processing tank 40 for development processing of photographic sensitive materials across a replenishing flow passage 71 having a replenishing pump.例文帳に追加

写真感光材料を現像処理する処理槽40と補充ポンプを有する補充流路71を介して接続されている写真処理用補充液の調製補充装置7。 - 特許庁

The guide surfaces of the central transporting guide 34 for guiding the photosensitive material from a processing tank on an upstream side to a processing tank on a downstream side are wetted with washing nozzles 36 and 38 before the photosensitive material 52 passes.例文帳に追加

上流側の処理槽から下流側の処理槽へ感光材料52を案内する中央搬送ガイド34のガイド面が、感光材料52が通過する前に洗浄ノズル36、38で濡らされる。 - 特許庁

Pure water is discharged out of a processing tank 20 as nitrogen gas is supplied from a first supply nozzle 40 and a second supply nozzle 50 after the substrate W is cleaned in the processing tank 20.例文帳に追加

処理槽20において基板Wの洗浄処理が終了した後、第1供給ノズル40および第2供給ノズル50から窒素ガスを供給しつつ処理槽20内から純水が排出される。 - 特許庁

A processing liquid flowing over from an internal tank 40 flows to a processing liquid discharge tube 44 through a gap C between the plate-like member 43c and the internal tank 40 and the discharge port 44X of the external wall 43.例文帳に追加

内槽40から溢れ出す処理液は、板状部材43cと内槽40の側壁との間の隙間Cおよび外槽43の処理液排出口44Xを通って処理液排出管44に流れる。 - 特許庁

This vacuum processing device is constituted in such a way that reciprocatively movable hands 12 and 13 are provided in a main vacuum tank 11 and a plurality of processing chambers 40, 501, and 502 is arranged along the moving loci of the handles 12 and 13 on the ceiling of the tank 11.例文帳に追加

主真空槽11の内部に往復移動可能なハンド12、13を設け、主真空槽11の天井の上のハンド12、13の移動軌跡上の位置に複数の処理室40、50_1、50_2を並べる。 - 特許庁

To provide a water-containing substance drying processing device capable of efficiently and continuously drying water-containing wastes in a uniform state without temperature difference in a tank, though a vertical type drying processing device is applied, and the wastes can be easily discharged from the tank.例文帳に追加

縦型の乾燥処理装置であり、槽内からの廃棄物の排出が容易でありながら、含水した廃棄物を槽内の温度差をなくし均一な状態で効率良く連続的に乾燥処理する。 - 特許庁

A processing apparatus for processing a substrate 13 by immersing the substrate in a processing liquid comprises a processing tank 1 for containing the processing liquid, a conveyor roller 4 provided in the processing tank 1 and supporting the substrate 13 immersed in the liquid and a nozzle 21 arranged oppositely to a plate face of the substrate 13 for forming a flow of the processing liquid along the plate face of the substrate 13.例文帳に追加

基板13を処理液に浸漬して処理する処理装置において、上記処理液が収容される処理槽1と、この処理槽内に設けられ上記基板を上記処理液に浸漬した状態で支持する搬送ローラ4と、この搬送ローラによって支持された上記基板の板面に対向して配置されこの基板の板面に沿う処理液の流れを形成するノズル体21とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

The processing tank 10 also serves as a cleaning tank provided with jet nozzles 40, 50 and 60 for cleaning the inner and outer surfaces of the carrier body 70A prior to drying.例文帳に追加

処理槽10は洗浄槽を兼ねており、乾燥に先立ってキャリア本体70Aの内外面をジェット洗浄する洗浄ノズル40,50,60を装備している。 - 特許庁

For alternative water source of the condensate storage tank 1, storage water in a radioactive liquid waste processing system sample tank 9 placed in a nuclear power plant is used.例文帳に追加

復水貯蔵槽1の代替水源として原子力発電プラント内に設置されている放射性液体廃棄物処理系サンプルタンク9内の貯水を使用する。 - 特許庁

The gas of the amount exceeding purification processing performance in the purifying water tank 28 can be temporary stored in the sub tank 24, so that the gas which has not been purified is prevented from leaking to the outside.例文帳に追加

浄化水槽28での浄化処理能力を超えた量のガスは、サブタンク24内に一時的に溜めることができるので、未浄化のガスを周囲に漏らすことがない。 - 特許庁

A processing tank 20 consists of a pressure-resistant container and is provided with a thermocoupler 21, a pressure gage 22 and cooler 23 for adjusting temperature and pressure in the tank 20.例文帳に追加

処理槽20は耐圧容器で構成され、処理槽20内の温度と圧力を調整するための熱電対21、圧力計22及び冷却器23が設けられている。 - 特許庁

The internal combustion engine 10 performs the purge processing for introducing evaporated fuel generated from a fuel tank 21 to a surge tank 16 via the purge passage 33.例文帳に追加

また、内燃機関10では燃料タンク21から発生する蒸発燃料をパージ通路33を介してサージタンク16に導入するパージ処理が実施される。 - 特許庁

This substrate processing device 1 is provided with a sulfuric acid tank 102 for storing sulfuric acid 103 therein, and a hydrogen peroxide water solution tank 142 for storing a hydrogen peroxide water solution 143 therein.例文帳に追加

基板処理装置1は、硫酸103を貯留する硫酸槽102と、過酸化水素水143を貯留する過酸化水素水槽142とを備える。 - 特許庁

To provide a vaporized fuel processing device having a pressure-regulating valve for preventing damage to a fuel tank due to the pressure in the fuel tank at collision of a vehicle.例文帳に追加

車両衝突時に燃料タンク内の圧力により燃料タンクが破損するのを防止する圧力調整弁を備えた蒸発燃料処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a device for processing a substrate by which the substrate is processed with a process liquid, and a cup body and a processing tank are cleaned with a cleaning liquid with a simple configuration.例文帳に追加

簡単な構成で基板を処理液で処理したり、カップ体と処理槽を洗浄液で洗浄できる基板の処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a substrate treatment apparatus improved in processing efficiency by eliminating processing unevenness and efficiently discharging refuse etc., carried into a treatment tank.例文帳に追加

処理ムラをなくすると共に処理槽内に持ち込まれたゴミなどを効率よく排出して処理効率をよくした基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

In the processing method for a photographic sensitive material, a member movable back and forth is sunk in a tank containing a small volume of a processing solution.例文帳に追加

本発明は、往復運動可能な部材が少ない容量の処理溶液を含むタンク内に沈められる、写真感光材料を処理する方法である。 - 特許庁

A clothing processing device is a bifunctional device for processing clothing or the like by a steam, wherein a central storage tank 9 and an electric water pump 11 for supplying water to a steamer 15 or a steam iron 18 are installed.例文帳に追加

スチーマー15またはスチームアイロン18に水を供給する中央貯槽9と電気水ポンプ11を備えた、衣類などをスチームで処理する二機能装置である。 - 特許庁

To provide a photosensitive material processing device capable of effectively preventing hot air generated in a drying part from entering a processing solution tank.例文帳に追加

乾燥部で発生した温風の処理液槽への侵入を有効に防止することができる感光材料処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

When a bottle B is loaded in a liquid receiving part 36 and a processing agent flows out toward the receiving part 36, the processing agent is fed to a replenishment tank 12 through a liquid feeding pipe 40.例文帳に追加

ボトルBが液受け36へ装填され、受け部36へ処理剤が流出すると、送液パイプ40を通じて、処理剤が補充槽12へ送られる。 - 特許庁

The substrate processing device 1 is provided with a chamber 40 to house a processing tank 20 and a shower nozzle 30 and a shutter 41 to seal the chamber 40.例文帳に追加

基板処理装置1は、処理槽20およびシャワーノズル30を収容するチャンバ40と、チャンバ40を密閉するシャッタ41とを備えている。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer processor capable of enhancing the effect for ejecting particles from a processing tank without producing unevenness in the concentration of a processing liquid.例文帳に追加

処理液の濃度の不均性を生じることなく、処理槽からのパーティクル排出効果を高めることができる半導体ウェハ処理装置を提供する。 - 特許庁

Particles in the processing tank 10 are circulated, entrained by a flow of the processing solution together with the air bubbles and are removed with the air bubbles in the air bubble removal parts 61, 62.例文帳に追加

処理槽10内のパーティクルは、気泡とともに処理液の流れに乗って循環され、気泡除去部61,62において気泡とともに除去される。 - 特許庁

In this circulation type solid processing device 1, a crushing part to crush solids, an agitating part to agitate the crushed solids with liquid, and a bubbling part to accelerate chemical decomposition of the solids are provide in a first processing tank A, so that the solids are mechanically and chemically decomposed in the first processing tank A, and a load on a second processing tank and on can be minimized.例文帳に追加

循環式固形物処理装置1において、第1処理槽Aに固形物を粉砕する粉砕部9と粉砕された固形物を液体と攪拌させる攪拌部10と固形物の化学的分解を促進させる気泡部11を設け、第1処理槽A内で固形物を機械的化学的に分解し、第2処理槽以降の負荷を極力軽減させている。 - 特許庁

To provide a portable type cutting fluid reuse processing device for sucking a large quantity of sludge including chips deposited in a cutting fluid storing tank of a machine tool together with cutting fluid, performing separation processing of the cutting fluid and reusing the cutting fluid after the processing by returning the cutting fluid to the inside of the tank, and a cutting fluid reuse processing method using the processing device.例文帳に追加

工作機械の切削液貯留タンク内に堆積した切粉、切り屑等を含む大量のスラッジを切削液と共に吸引して分離処理を行い、処理後の切削液をタンク内に戻して再利用するための可搬型切削液再利用処理装置及びそれを用いる切削液再利用処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a processing tank of an apparatus for processing a photosensitive material capable of preventing contamination caused by mixing a processing solution, which flows up by capillary phenomena and surface tension along swirl marks on the surface of the partitioning walls of the processing tank made of a synthetic resin and formed by molding, together with the neighboring processing solution without using a harmful solvent dangerous in handling.例文帳に追加

有害で取扱いの危険な溶剤を使用することなく、成型加工された合成樹脂製処理槽の仕切壁表面のスワールマークに沿って現像処理液が毛細管現象及び表面張力によって遡り隣接する処理液と混ざりあうコンタミネーションを阻止した感光材料処理装置の処理タンクを提供する。 - 特許庁

In vacuum cooling, the gas in the processing tank 3 is sucked and discharged to the external through the exhaust pipe conduit 36.例文帳に追加

真空冷却時には、排気管路36を介して、処理槽3内の気体を外部へ吸引排出する。 - 特許庁

The wood modifying system 10 includes conveyers 12A-12C, a wood surface processing machine 20 and a treatment tank 30.例文帳に追加

木材改質システム10は、コンベア12A〜12C,木材表面加工機20,処理槽30を含んでいる。 - 特許庁

The sealed water to the vacuum pump 43 is supplied through a hollow portion 46 of a bottom wall of the processing tank 2.例文帳に追加

この真空ポンプ43への封水は、処理槽2の底壁の中空部46内を介して供給される。 - 特許庁

The processing liquid storage tank 31 is coupled with one end of a measuring tube 41 having the other end provided with a pressure sensor 42.例文帳に追加

処理液貯留槽31には測定管41の一端が位置して他端に圧力センサ42を配設した。 - 特許庁

例文

Further, a receptacle 3 is furnished to receive the undecomposed matter and garbage processing material overflowing the tank 1.例文帳に追加

生ごみ処理槽1からオーバーフローした未分解物及び生ごみ処理材を受けるための受け容器3を設ける。 - 特許庁




  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2026 GRAS Group, Inc.RSS