「processing tank」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for processing laver comprises dividing a processing tank 11 on a work ship into two in order to continuously perform extermination of miscellaneous algae of cultured laver and disease injury control, and using a front 12 as a miscellaneous alga and pathogenic bacterium exterminating tank and a backside 13 as a mycotic disease injury controlling tank.例文帳に追加

本発明の海苔処理方法は、養殖海苔の雑藻駆除及び病害菌防除を連続的に行うため作業船上の処理槽１１を２分割し、前部１２を雑藻、病原細菌駆除槽に、後部１３を真菌性病害防除槽として使用することを特徴とするものである。 - 特許庁

When the drying solvent of the first storage tank with the drying solvent supplied reaches the end of its usefulness, after the process of the substrate W finishes, the drying solvent is supplied from only the second storage tank 13 different from the first storage tank 11 to the processing bath 5 to process the successive substrate W in the processing bath 5.例文帳に追加

そして、乾燥溶剤を供給した第１の貯留タンク１５の乾燥溶剤が寿命に達した場合には、基板Ｗの処理が終了した後、第１の貯留タンク１５とは異なる第２の貯留タンク１３だけから処理槽５に乾燥溶剤を供給して、処理槽５にて次の基板Ｗを処理させる。 - 特許庁

The substrate processing apparatus heats a treatment liquid with both an inline heater 13 and a heater 17 for a tank when the substrate W is disposed at a standby position, stops heating by the inline heater 13 when the substrate W is conveyed to a treating position and immersed in the treatment liquid, and heats the treatment liquid in a processing tank 1 only with the heater 17 for the tank.例文帳に追加

基板Ｗが待機位置にある場合には、インラインヒータ１３と槽用加熱器１７の両方で処理液を加熱し、基板Ｗが処理位置に搬送されて処理液に浸漬される場合には、インラインヒータ１３による加熱を停止して、槽用加熱器１７でのみ処理槽１内の処理液を加熱する。 - 特許庁

In the substrate processing apparatus 1, an inert gas is dissolved into the processing liquid cooled by a chiller 126 in a dissolution part 128 and the processing liquid 104, into which an inert gas is dissolved by the dissolution part 128, is stored in a processing tank 102.例文帳に追加

基板処理装置１では、溶解部１２８において、チラー１２６により冷却された処理液に不活性ガスが溶解させられ、溶解部１２８により不活性ガスが溶解させられた処理液１０４が処理槽１０２に貯留される。 - 特許庁

To provide a processing method for a silver halide photographic sensitive material in which the contamination of a washing tank and uneven processing due to reduced replenishment of a fixing solution are suppressed in the processing of the sensitive material with an automatic processing machine.例文帳に追加

ハロゲン化銀写真感光材料の自動現像機を用いた現像処理において、定着液の低補充化によって発生するところの水洗槽の汚れ、処理ムラを改良したハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提供すること。 - 特許庁

Provided is a substrate processing method including: cleaning a processed substrate W in a cleaning tank 221 prepared in the substrate processing apparatus 2 by immersing the processed substrate W in a cleaning solution in a longitudinal direction while the cleaning solution is supplied from a cleaning solution supply portion to the cleaning tank 221; and drying the processed substrate W picked up from the cleaning tank 221 in a drying chamber 21 communicating with an upper area of the cleaning tank 221.例文帳に追加

基板処理装置２に設けられた洗浄槽２２１では、洗浄液供給部から洗浄液を供給しながら当該洗浄液に被処理基板Ｗを縦向きの状態で浸漬して洗浄が行われ、この洗浄槽２２１の上方領域と連通する乾燥室２１では、洗浄槽２２１から引き上げられた被処理基板Ｗの乾燥が行われる。 - 特許庁

A pair of rollers 30R on the downstream side of a fixing tank 26 are not installed when they are associated with a flushing tank 28 since they are unnecessary in the flushing tank 28 for the purpose of communizing upper unit frames 62H, 64H of upper processing rack units 36H, 38H.例文帳に追加

上部処理ラックユニット３６Ｈ、３８Ｈの上部ユニット枠６２Ｈ、６４Ｈを共通とするべく、定着槽２６の下流側のローラ対３０Ｒは、水洗槽２８では不要であるため、水洗槽２８に対応させる場合には取り付けない。 - 特許庁

To provide an inkjet recorder which can obtain a high definition image by using an ink tank capable of reducing the production cost of the ink tank, a processing cost and a running cost, and preventing erroneous loading of the ink tank, while protecting natural environment.例文帳に追加

自然環境の保護を図りつつも、インクタンクの製造コスト、処理コスト、ランニングコストを低減させることができるインクタンクを使用し、インクタンクの誤装填を防ぎ、高精細な記録画像を得ることができるインクジェット記録装置を提供すること。 - 特許庁

A sub-controller 458 of a replenishing device 301 prohibits the operation of a R1R replenishing pump which delivers the replenishing liquid of a R1R replenishing tank 347 to a developing tank 74 during the inflow of the processing liquid and diluting liquid into the R1R replenishing tank 347.例文帳に追加

補充装置３０１のサブコントローラ４５８は、Ｐ１Ｒ補充槽３４７へ処理剤及び希釈液が流入中は、Ｐ１Ｒ補充槽３４７の補充液を現像槽７４へ送出するＰ１Ｒ補充ポンプの作動を禁止する。 - 特許庁

A distance between the upper face of the processing tank 20 and the lower face of the shutter 41 is ≥20 mm and ≤50 mm, and a distance between the outer face of the processing tank 20 and the inner face of the chamber 40 is ≥5 mm and ≤20 mm.例文帳に追加

また、処理槽２０の上面とシャッタ４１の下面との間の距離は２０ｍｍ以上かつ５０ｍｍ以下であり、処理槽２０の外側面とチャンバ４０の内側面との間の距離は５ｍｍ以上かつ２０ｍｍ以下である。 - 特許庁

The slurryed cement fly ash is sent under pressure by a slurry pump 12 to a storage tank 13 from the tank 11, the slurry concn. is uniformized therein, and then the slurry is sent to a wet processing device 14 and wet- processing to recover the heavy metals.例文帳に追加

スラリー化されたセメント飛灰はスラリーポンプ１２によってスラリー化タンク１１から貯蔵タンク１３へと圧送され、ここでスラリー濃度が均一化された後、湿式処理装置１４へ送られ、重金属回収のために湿式処理される。 - 特許庁

The control unit decides whether or not the tank 17 is suitable for the imaging device, when power is supplied, and decides whether or not the tank 17 is new, when the tank 17 is suitable for the image forming device, than performs processing sequence differently, depending on when the tank 17 is new or when it is not new.例文帳に追加

制御部が、電源が投入されたときに、現像槽17がその画像形成装置に適したものであるか否かの判定を行い、その画像形成装置に適したものであったときに、現像槽17が新品であるか否かの判定を行い、新品である場合とそうでない場合とで個別の処理シーケンスを行う。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of the support for a planographic printing plate, in which an efficient processing is made possible even when a low temperature processing liquid is employed so as not to exert a bad influence upon a processing tank or the like.例文帳に追加

低温の処理液を用いても効率よく処理できるようにして、処理槽等に悪影響を与えないようにした平版印刷版用支持体の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a photographic development processing device capable of surely preventing the drying and crystallyzing of a processing liquid stuck to the surface of a transporting roller located at the uppermost part of each processing tank.例文帳に追加

各処理タンクの最上部に位置する搬送ローラーの表面に付着した処理液が乾燥して結晶化するのを確実に防止することができる写真現像処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Thereafter, the processing liquid passes through a flow groove 44 following the inclined plane 47 and flows into the bleaching fixation tank 19.例文帳に追加

さらに、傾斜面４７から連続する流し溝４４を通過して漂白定着槽１９へ処理液が流し込まれる。 - 特許庁

To provide a functional liquid supply device in which the stoppage of drawing processing by a functional liquid droplet discharge head in the exchange of a main tank is not required.例文帳に追加

メインタンクは交換時に、機能液滴吐出ヘッドによる描画処理を停止する必要のない機能液供給装置。 - 特許庁

Accordingly, the whole body of the substrate processing apparatus can be made compact, because no shielding member is required to surround the tank 3.例文帳に追加

よって、処理槽３の周囲を囲う遮断部材を設ける必要がなく、装置全体のコンパクト化を図ることができる。 - 特許庁

The pipe 9 connecting the liquefying gas tank 5 and the winding device 3 halfway branches, and is connected to fluid processing equipment 7.例文帳に追加

液化ガスタンク５と巻き取り装置３とを接続する配管９は、途中で分岐し、流体処理施設７と接続される。 - 特許庁

The driving stage 28 moves the processing stage 6 by the magnetic combination, through nonmagnetic film 7 of the wall of the closed tank 3.例文帳に追加

駆動ステージ２８は、密閉タンク３の壁の非磁性膜７を介して、磁気結合により加工用ステージ６を移動させる。 - 特許庁

A water seal-type vacuum pump 43 is disposed as a pressure reducing means 3 for sucking and discharging a gas in the processing tank 2 to the external.例文帳に追加

処理槽２内の気体を外部へ吸引排出する減圧手段３として、水封式の真空ポンプ４３を備える。 - 特許庁

The substrate W to be processed is brought into contact with a cleaning solution DIW contained in a cleaning tank 52 to perform cleaning processing.例文帳に追加

まず、洗浄槽５２内に収容された洗浄液ＤＩＷに被処理基板Ｗを接触させて洗浄処理する。 - 特許庁

The processing tank has a bottom surface part 12 located down below the carrying means, and the bottom surface part 12 has a rugged surface 12a.例文帳に追加

処理槽は、搬送手段の下方に位置する底面部１２を有し、底面部１２は凹凸状表面１２ａを有する。 - 特許庁

A fluorine-contg. waste water is continuously introduced into the reaction tank 1, and a calcium soln. is added at the same time as a fluorine processing agent.例文帳に追加

反応槽１には、フッ素含有排水が連続的に投入され、同時にフッ素処理剤としてカルシウム溶液を添加する。 - 特許庁

A tank storage chamber 15 for storing a plurality of tanks for refilling a development processing liquid is arranged at the developing device.例文帳に追加

現像処理装置には、現像処理液を補充するための複数のタンクを収納するタンク収納室１５が配されている。 - 特許庁

A pressure reducing means 6 for sucking and discharging the fluid in the processing tank 3 to the external comprises a water seal type vacuum pump 33.例文帳に追加

処理槽３内の流体を外部へ吸引排出する減圧手段６は、水封式の真空ポンプ３３を備える。 - 特許庁

INK FOR INKJET, PROCESSING LIQUID FOR INKJET, INK SET FOR INKJET, INK TANK FOR INKJET, INKJET RECORDING METHOD AND INKJET RECORDING DEVICE例文帳に追加

インクジェット用インク、インクジェット用処理液、インクジェット用インクセット、インクジェット用インクタンク、インクジェット記録方法、及びインクジェット記録装置 - 特許庁

A light weight being an advantage as a synthetic resin is achieved by forming the processing liquid tank 24 from the synthetic resin.例文帳に追加

処理液槽２４を合成樹脂製とすることで、合成樹脂としての長所である軽量を実現することができる。 - 特許庁

To provide a processing device of a coolant liquid where metal powder, dust or the like hardly accumulates in a bottom of a coolant tank and a coolant liquid is hardly deteriorated.例文帳に追加

クーラント槽の底部に金属粉、ゴミ等が溜まりにくく、クーラント液が劣化にくいクーラント液の処理装置を提供する。 - 特許庁

The polluted water 2 is purified by active sludge in a biological processing tank in a succeeding step to decompose the remaining organic matter having a low mol.wt.例文帳に追加

汚水２は、後段の生物処理槽で活性汚泥にて浄化処理し、低分子化した残留する有機物を分解する。 - 特許庁

To provide a water heater capable of mounting and demounting a temperature sensor to a hot water storage tank, and simplifying harness processing.例文帳に追加

貯湯タンクへの温度センサの取り付け又は取り外し、及びハーネス処理を簡素化することができる給湯機を提供する。 - 特許庁

UNITED TREATMENT METHOD OF ORGANIC KITCHEN REFUSE (GARBAGE) AND DOMESTIC WASTEWATER BY COMBINING ANAEROBIC SEPTIC TANK AND WASTEWATER PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

嫌気性腐敗槽と汚水処理施設工法を結合した有機性廚房廃棄物（廚芥）と生活汚水の統合処理方法 - 特許庁

The pressure in the processing tank 2 is reduced by the pressure reducing means 3 until the temperature sensor 6 detects a cooling target temperature T1.例文帳に追加

温度センサ６が冷却目標温度Ｔ１を検出するまで、減圧手段３により処理槽２内を減圧する。 - 特許庁

At least one electron beam irradiation means for irradiating the irradiation target with electron beams is arranged on the irradiation processing tank 10.例文帳に追加

照射処理槽１０には、被照射物を電子線照射する少なくとも一つの電子線照射手段を設けている。 - 特許庁

To achieve the improvement of difficulty in processing and the reduction of the number of parts, while maintaining he freedom of mounting to and removal of a receiver tank from a condenser.例文帳に追加

レシーバタンクのコンデンサからの着脱自在性を維持しつつ、加工難易度の改善と部品点数の削減とを図る。 - 特許庁

When organic wastes are subjected to a methane fermentation processing in a methane fermentation tank, a desulfurization agent composed of a liquid inorganic iron compound is added to the organic wastes at a methane fermentation tank 3, or at a raw material feed tank 1 which is disposed in the earlier stage of the tank 3 to store organic wastes, or at a raw material transfer system 2 to feed organic wastes to the tank 3.例文帳に追加

有機性廃棄物をメタン発酵槽３でメタン発酵処理する際に、メタン発酵槽３、あるいはメタン発酵槽３の前段に配置して有機性廃棄物を貯留する原料供給槽１、あるいは有機性廃棄物をメタン発酵槽３へ供給する原料移送系２において有機性廃棄物に液状無機鉄化合物からなる脱硫剤を添加する。 - 特許庁

The processing liquid regenerating device 30 includes adsorbing containers 32 and 33 filled with an adsorbent for adsorbing metal components and a processing liquid circulating mechanism 34 for supplying the processing liquid to the adsorbing containers 32 and 33 to circulate it and reflux the processing liquid that has flown out to the storage tank 11.例文帳に追加

処理液再生装置30は、金属成分を吸着する吸着材が充填された吸着容器32,33と、処理液を吸着容器32,33に供給して流通させ、流出した処理液を貯留槽11に還流させる処理液循環機構34とを備える。 - 特許庁

By installing a sealing body 50 which floats up in accordance with a change in the liquid level L of the processing liquid on the liquid level position of a processing liquid in a processing tank, evaporation of water from the liquid level of the processing liquid and a phenomenon that the liquid is oxidized when the liquid level comes in contact with the air are prevented.例文帳に追加

処理槽の処理液の液面位置に、処理液の液面レベルＬの変化に追従して浮揚するシール体５０を配置することにより、処理液の液面からの水分の蒸発と、この液面が空気と接触して酸化する現象を阻止する。 - 特許庁

When the operation of the collection pump 66 is switched to the working fluid supply mode, the number of rotation of the collection pump 66 becomes high and the working fluid of the working fluid collection tank 40 is sent to a processing liquid tank 46.例文帳に追加

回収ポンプ６６の運転が加工液供給モードに切り換えられると、回収ポンプ６６の回転数が高くなり、加工液回収タンク４０の加工液が加工液タンク４６へ送液される。 - 特許庁

A liquid tank is arranged on the outer periphery of a foundation for arranging a machine such as a metal processing machine, and liquid is put in the liquid tank for reducing or preventing propagation of ground vibration by its machine on the foundation.例文帳に追加

金属加工機械等の機械を設置する基礎の外周に液体槽を設け、液体槽内に基礎の上のその機械による地盤振動の伝播を低減或は防止する液体を入れた。 - 特許庁

To provide a processing liquid stirring device which is capable of making sufficient stirring by sufficiently generating convection between the upper layer near a liquid surface even in a tank of any shape and a lower layer near the base surface of the tank.例文帳に追加

いかなる形状のタンクにおいても液面近くの上層とタンク底面近くの下層間での対流を十分に発生することで、十分な攪拌ができる処理液攪拌装置の提供。 - 特許庁

More specifically, ≥0.1 wt.% peeling agent liquid is added from an additive addition unit (6) to the circulation tank by each of processing one sheet of the liquid crystal display substrates and the peeling liquid is allowed to flow over from the tank.例文帳に追加

具体的には、０．１重量％以上の剥離剤液を液晶ディスプレイ基板の１枚処理毎に添加剤添加ユニット(6)から循環式タンクに添加し、前記タンクから剥離剤をオーバーフローさせる。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus where two types of liquids are securely prevented from being simultaneously mixed in a liquid storage tank in a structure where two types of liquids can be supplied to the liquid storage tank.例文帳に追加

２種の液を液貯留槽に供給可能な構成において、その２種の液が液貯留槽に同時混入されることを確実に防止できる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

The liquid tank is arranged on the outer periphery of a building for arranging the machine such as the metal processing machine, and the propagation of the ground vibration by its machine is reduced or prevented by the liquid put in the liquid tank.例文帳に追加

液体槽を金属加工機械等の機械を設置する建物の外周に設け、液体槽内に入れた液体によって、その機械による地盤振動の伝播を低減或は防止するようにした。 - 特許庁

To enable heating and easy charge and detachment and to maintain a solution in a self-cleaning tank when all processing is carried out in the same tank.例文帳に追加

本発明は、加熱可能であり、容易に装填する及び取外すことが可能であり、全ての処理が同一のタンク内で行われる場合は、自洗式のタンクの中に溶液を維持することを目的とする。 - 特許庁

A carrier robot TR conveys a plurality of substrates W to each processing tank (chemical tanks CB1 and CB2, water washing tanks WB1 and WB2, multi-function tank MB and a low pressure drying part LPD) as lots.例文帳に追加

搬送ロボットＴＲは、複数の基板Ｗをロットとして各処理槽（薬液槽ＣＢ１，ＣＢ２、水洗槽ＷＢ１，ＷＢ２、多機能槽ＭＢおよび減圧乾燥部ＬＰＤ）に搬送する。 - 特許庁