「processing tank」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

Liquid exchange processing time for supplying sulfuric acid to the processing tank and regulating the temperature to a predetermined level can thereby be shortened.例文帳に追加

そのため、硫酸を処理槽に供給し、かつ、所定の温度に温調する液交換処理時間を短縮できる。 - 特許庁

To provide a processing machine which is not equipped with an open type tank containing a processing solution and can easily be moved.例文帳に追加

処理溶液を貯留した開放形のタンクを備えていない容易に移動可能な処理機械を提供すること。 - 特許庁

The processing before and after the patch back is similarly performed, whereby the patch processing can be performed independently from the other tank.例文帳に追加

パッチ切り戻しについても同様に前後の処理を行うことで、他のタスクと独立したパッチ処理が可能になる。 - 特許庁

The respective tanks of the first washing tank 16, second washing tank 18, third washing tank 20 and fourth washing tank 22 of the photosensitive material processing device 10 are provided with liquid concentration detecting sensors 46 for detecting the iron concentrations in the liquids.例文帳に追加

感光材料処理装置１０の第１水洗槽１６、第２水洗槽１８、第３水洗槽２０及び第４水洗槽２２の各槽に液中の鉄濃度を検出する液濃度検出センサ４６を設ける。 - 特許庁

A processing tank 1 has a depth D1 which is ≥1.5 time as large as the diameter of a substrate 100.例文帳に追加

処理槽１は、基板１００の直径Ｌの１．５倍以上の深さＤ１を有する。 - 特許庁

An opening 2c at the upper end 2b of the processing tank is formed at a diameter larger than the wafer 1.例文帳に追加

処理槽の上端２ｂの開口２ｃはウェハ１よりも大径に形成されている。 - 特許庁

A cleaning solution (first processing solution) in a processing tank 10 is replaced with an etching solution (second processing solution) for etching.例文帳に追加

そして、エッチング処理を実行すべく、処理槽１０内に存在する洗浄用処理液（第１の処理液）をエッチング用処理液（第２の処理液）に置換する。 - 特許庁

To provide a developing apparatus for appropriately developing by reducing the deterioration of a processing liquid caused by such a failure that the processing liquid in a processing tank comes in contact with the air.例文帳に追加

処理槽の処理液が空気に接触することに起因する劣化を低減して適正な処理を行う現像処理装置を構成する。 - 特許庁

By a lifter LH holding a substrate W and moving to/from the processing tank 10, the substrate W is immersed in the processing liquid and a prescribed substrate processing is performed.例文帳に追加

リフターＬＨが基板Ｗを保持して処理槽１０に進退を行うことにより、基板Ｗを処理液中に浸漬して所定の基板処理を行う。 - 特許庁

Water subjected to a solid-liquid separating treatment in the first and second separation tanks 40, 50 is processed in the water processing tank 70, and returned to the low tank 12.例文帳に追加

第１、第２の分離槽４０、５０で固液分離された水は水処理槽７０で処理されてロータンク１２に戻される。 - 特許庁

A water absorbing polymer 32 having 35°C temperature sensing point is stuck to a passage 30 in each processing tank of a processor such as a color developing tank 12.例文帳に追加

発色現像槽１２等の各処理槽の通路３０には、感温点３５°Ｃの吸水性ポリマー３２が貼り付けられている。 - 特許庁

The chemical liquid fed from a first tank 13 to a processing unit 2 is collected to a second tank 14 through the chemical liquid collecting pipe 16.例文帳に追加

第１タンク１３から処理ユニット２に供給された薬液は、薬液回収管１６を介して第２タンク１４に回収される。 - 特許庁

To provide a substrate processing device capable of preventing a medical atmosphere from flowing into a dry processing part in the processing device comprising the dry processing part above a processing tank and further of discharging a processing gas without fail from the dry processing part, to provide a substrate processing method, and to provide a recording medium and software.例文帳に追加

処理槽の上方に乾燥処理部を備えた処理装置において、乾燥処理部に薬液雰囲気が流入することを防止でき、さらに、乾燥処理部から処理ガスを確実に排気できる基板処理装置、基板処理方法、記録媒体およびソフトウエアを提供する。 - 特許庁

A manual switching bulb 13 is connected to processing liquid piping 11 for supplying sulfuric acid as a processing liquid to a processing liquid tank 3, and cleaning liquid piping 12 for supplying pure water as a cleaning liquid to the processing liquid tank 3.例文帳に追加

処理液としての硫酸を処理液タンク３に供給するための処理液配管１１と、洗浄液としての純水を処理液タンク３に供給するための洗浄液配管１２とに、手動式切替バルブ１３が介装されている。 - 特許庁

To constitute a developing processor that shortens a waste time when a photosensitive material is conveyed by a turn unit by eliminating the trouble that a processing liquid is carried in a processing tank from a precedent processing tank while sticking on a photosensitive material.例文帳に追加

前の処理槽から次の処理槽に感光材料に付着して処理液が持ち込まれる弊害を解消し、ターンユニットで感光材料を搬送する際の無駄時間を低減する現像処理装置を構成する。 - 特許庁

Since this substrate processing apparatus is constituted to directly discharge the processing liquid atmosphere in the processing tank 3 from an external tank 3b without allowing the atmosphere to overflow to the circumference, the discharged volume of the atmosphere can be reduced.例文帳に追加

処理槽３の処理液雰囲気を周囲に溢れさせることなく、処理槽３の処理液雰囲気を直接的に外槽３ｂから排気するように構成しているので、排気する容量を小さくできる。 - 特許庁

To provide an apparatus for processing garbage that can detect the volume of the contents in a processing tank with a simple scheme without using a special sensor for detecting the volume of the contents in the processing tank.例文帳に追加

処理槽内収納物の嵩を検知する特別なセンサを用いることなく、簡単な構成により処理槽内収納物の嵩を検知することができる生ごみ処理装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an adapter for replenishing a processing solution and a tank for a replenishing solution which can be easily used without spilling or splashing liquid and, further, contaminating the processing solution even for a beginner when replenishing the processing solution from a processing solution pack to the tank for replenishing solution of automatic development processing apparatus of photosensitive material.例文帳に追加

感光材料自動現像処理装置の補充液用タンクへ処理液パックから処理液を補充する際初心者でも、簡単にしかも液こぼし液はねもなく、更に処理液の混入のない処理液補充用アダプタ及び補充液用タンクを提供する。 - 特許庁

To remove foreign matters mixed to processing liquid in a processing liquid storage unit from the processing liquid storage unit without using a waste tank for recovering the foreign matters in the processing liquid.例文帳に追加

処理液中の異物を回収する廃タンクを用いずに、処理液貯留部内の処理液中に混入した異物を処理液貯留部から除去することを課題とする。 - 特許庁

To prevent unevenness of processing by circulating a developing agent uniformly in a processing tank when a development processing is performed by using the developing agent with which the unevenness of processing is conspicuously caused by an automatic developing machine.例文帳に追加

自動現像機起因の処理むらが顕著に現れる現像主薬を用いて現像処理する場合において、処理槽内での循環をむらなく行ない、処理むらを防止する。 - 特許庁

When processing fluid 2 is to be filled up in the processing tank 10, the electromagnetic valve 20 is turned on so as to allow processing fluid 2 to be fed out of both of a processing fluid feeding port 10d and an outlet 10e.例文帳に追加

そして、加工槽１０に加工液２を満たすときには、電磁弁２０をオンし、加工液供給口１０ｄと出口１０ｅの両者から加工液２を供給する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of performing substrate processing with high quality by effectively preventing chemical vapor to be generated in chemical processing from scattering to the outside of a sink having a processing tank.例文帳に追加

薬液処理時に発生する薬液蒸気が処理槽を有するシンク外へ飛散するのを効果的に抑えて高品質の基板処理を可能にした基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

The planar work is the object of the immersion processing, and the immersion processing is executed by feeding the planar work together with the cassette into a processing tank containing a processing liquid and then pulling it up.例文帳に追加

板状ワークは浸漬処理の対象物であり、処理液を入れた処理糟内に板状ワークがカセットごと投入され、その後引き上げられることにより浸漬処理が実行される。 - 特許庁

A developing processor is equipped with a processing tank 30 which stores the processing liquid for developing the photosensitive material, a water supplement unit which supplements the processing tank with water, and the float type liquid level sensor 20 having a signal generating device 24 which generates a detection signal according to at least one detected liquid level of the processing liquid in the processing tank.例文帳に追加

写真感光材料を現像処理するための処理液を貯留する処理タンク30と、処理タンクに対して水を補充する補水装置と、処理タンク内の処理液の少なくとも１つの液面レベルの検知に基づいて検知信号を生成する信号発生デバイス24を有するフロート式液面センサ20とを備えた現像処理装置。 - 特許庁

To surely replenish a processing solution to a stock tank ST in a processing solution replenishing device S provided with a storage part ST for storing the processing solution sent from a cartridge C and a replenishing means SP for sending the processing solution stored in the storage part ST to a processing tank Ta for processing a photosensitive material.例文帳に追加

本発明は、カートリッジＣから送られる処理液を貯留する貯留部ＳＴと、貯留部ＳＴの処理液を感光材料の処理を行う処理槽Ｔａに送る補充手段ＳＰとを備えた処理液補充装置Ｓにおいて、ストックタンクＳＴへの処理液の充填を確実に行うことを目的とする。 - 特許庁

The processing liquid replenishing system is provided with a replenishing container housing processing liquid to be replenished to a development processing tank in which a photographic sensitive material is developed, a liquid surface sensor 64 for detecting a processing liquid level in the replenishing container and a replenishing pump 8 for sending out the processing liquid from the replenishing container to the processing tank.例文帳に追加

写真感光材料を現像処理する現像処理槽に補充するための処理液を収納している補充容器と、この補充容器中の処理液レベルを検出する液面センサ６４と、補充容器から処理液を処理槽へ送り出す補充ポンプ８とを備えた処理液補充システム。 - 特許庁

This drying processing device 1 for drying and processing the water-containing wastes has a two-stage structure of an upper drying tank (fermentation tank) 2 and a lower drying tank 3, and these drying tanks 2, 3 are arranged in a displaced state from each other.例文帳に追加

含水した廃棄物を乾燥処理する乾燥処理装置１は、上段の乾燥槽（発酵槽）２、下段の乾燥槽３とから二段に構成され、それぞれの乾燥槽２、３は、互い違いにずらして配置されている。 - 特許庁

The payout mechanism part is provided with a tank for storing game balls, a tank rail and a case rail for guiding the game balls led out from the tank and a payout device for performing the payout processing of the game balls.例文帳に追加

払出機構部は、遊技球を貯留するタンクと、当該タンクから導出される遊技球を誘導するタンクレール及びケースレールと、遊技球の払出処理を行う払出装置とを備えている。 - 特許庁

The putout mechanism part includes a tank for storing game balls, a tank rail and a case rail for guiding the game balls led out from the tank, and a putout device for performing game ball putout processing.例文帳に追加

払出機構部は、遊技球を貯留するタンクと、当該タンクから導出される遊技球を誘導するタンクレール及びケースレールと、遊技球の払出処理を行う払出装置とを備えている。 - 特許庁

The discharged liquid discharged from the recycle tank 22, the discharged liquid discharged from the spin recovered water recycle tank 23, and a recovered water processing agent diluted solution discharged from a recovered water processing agent dissolution tank 2 are transferred to the laundry input water tank 19 by the operation of pumps, respectively.例文帳に追加

リサイクルタンク２２から排出される排出液、脱水回収水リサイクルタンク２３から排出される排出液、及び、回収水処理剤溶解槽２９が排出する回収水処理剤希釈液は、それぞれポンプの動作により被洗物投入水タンク１９へ移送される。 - 特許庁

When the number of times of immersion becomes a preset replenishment reference lot number N or more, a tank controller 20 controls a feed valve 15 and makes the processing liquid replenished to the processing tank 10.例文帳に追加

その浸漬回数が予め設定された補充基準ロット数Ｎ以上となったときには、槽コントローラ２０が投入バルブ１５を制御して、処理槽１０に処理液を補充させる。 - 特許庁

A substrate W is immersed into the rinse liquid rC dissolving carbon dioxide stored in a processing tank 20 in order to clean the surface, and then the substrate W is pulled up from the processing tank 20.例文帳に追加

二酸化炭素溶解リンス液ｒＣを貯留した処理槽２０内に基板Ｗを浸漬して表面洗浄を行った後に、処理槽２０から基板Ｗを引き上げる。 - 特許庁

The usable component supply means 16 leads out usable components which are attached to the food material 8 or with which the food material 8 is impregnated when recovering the pressure in the decompressed processing tank 1, to the processing tank 1.例文帳に追加

有用成分供給手段１６は、減圧された処理槽１内の復圧時に、食材８へ付着または含浸させるための有用成分を処理槽１内へ導出する。 - 特許庁

A control part 51 supplies the drying solvent from one of a first storage tank 11 and a second storage tank 13 to a processing bath 5 to dry-process a substrate W in the processing bath 5.例文帳に追加

制御部５１は、第１の貯留タンク１１と第２の貯留タンク１３の一方だけから処理槽５に乾燥溶剤を供給して、処理槽５にて基板Ｗを乾燥処理させる。 - 特許庁

The processing liquid storage tank for storing the processing liquid automatically supplied to a processing device for, photosensitive materials has a bag consisting of flexible material which does not permeate air in the processing liquid storage tank and this bag is attached to an aperture disposed at the processing liquid storage tank in such a manner that the air from outside can flow into and out of the storage tank only through this aperture.例文帳に追加

感光材料の処理装置に自動的に供給される処理液を貯留する処理液貯留タンクにおいて、前記処理液貯留タンクの内部には空気を通さない柔軟な材質からなる袋を有し、該袋が前記処理液貯留タンクに設けられた開口部に、該開口部を通してのみ外部からの空気の流入出が可能なように取り付けられたことを特徴とする処理液貯留タンク。 - 特許庁

When processing a substrate with a phosphor acid solution, a control section 51 stores a new phosphor acid solution in a processing tank 1 at first.例文帳に追加

制御部５１は、燐酸溶液で基板を処理するにあたり、まず、処理槽１に燐酸溶液の新液を貯留させる。 - 特許庁

A plurality of substrates W are received in a processing chamber 503 of a processing tank 5 at predetermined intervals in parallel with each other.例文帳に追加

処理槽５の処理室内には、複数枚の基板Ｗが互いに所定の間隔でかつ平行に収納されている。 - 特許庁

PROCESSING METHOD FOR BLACK-AND-WHITE SILVER HALIDE PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL, FUR PREVENTIVE DETERGENT FOR WASHING TANK OF AUTOMATIC PROCESSING MACHINE AND ITS KIT例文帳に追加

黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法、自動現像機水洗槽用水垢防止浄化剤及びそのキット - 特許庁

To prevent the scattering of processing solution in replenishing a processing tank with replenisher and to prevent the replenisher remaining in a duct line from being deteriorated.例文帳に追加

処理槽へ補充液を補充する時の処理液の飛散や、管路に残った補充液が劣化してしまうのを防止する。 - 特許庁

Further, a clean air supply means 50 is connected with the rear-pressure adjusting tank 30 via a ventilation duct 51, an exhaust gas system 52 is connected with the front pressure adjusting tank, and both the pressure of the rear-pressure adjusting tank 30 adjacent to the irradiation processing tank 10 and the front-pressure adjusting tank 20 adjacent to the irradiation processing tank 10 are suitably adjusted with each other.例文帳に追加

そして、後圧力調整槽３０側に送風ダクト５１を介して清浄空気供給手段５０を接続し、前圧力調整槽側に排気系統５２を接続し、照射処理槽１０に隣接する後圧力調整槽３０内の圧力と、照射処理槽１０に隣接する前圧力調整槽２０内の圧力とを適切に調節する。 - 特許庁

In vacuum cooling the cooled object received in the processing tank, a rapid cooling process for reducing pressure in the processing tank to set pressure P1, and a slow cooling process for further reducing the pressure in the processing tank while lowering a pressure reducing capacity in comparison with that in the rapid cooling process are successively executed.例文帳に追加

処理槽内に収容された被冷却物を真空冷却する際、処理槽内を設定圧力Ｐ１まで減圧する急冷工程と、この急冷工程よりも減圧能力を低くして処理槽内をさらに減圧する徐冷工程とを順に実行する。 - 特許庁

The apparatus is provided with a new-liquid supplying line NL for supplying a new processing-liquid to a multifunctional tank MB and a processing-liquid circulating line CL for supplying the processing-liquid flowed out from the multifunctional tank MB to the tank MB again by circulating the flowed-out liquid through a line different from the new-liquid supplying line NL.例文帳に追加

多機能槽ＭＢに新たな処理液を供給する新液供給ラインＮＬと、多機能槽ＭＢから流出した処理液を新液供給ラインＮＬとは異なる経路にて循環させて多機能槽ＭＢに再供給する処理液循環ラインＣＬとが設けられている。 - 特許庁

After cleaning of a substrate W is ended in a processing tank 20 and pure water is drained therefrom, high temperature nitrogen gas flow FN62 is delivered from a second supply nozzle 50 toward the opening 20p of the processing tank 20 and fed into the processing tank 20.例文帳に追加

処理槽２０において基板Ｗの洗浄処理が終了し処理槽２０内の純水が排水された後、第２供給バルブ５０から処理槽２０の開口部２０ｐに向けて高温の窒素ガス流ＦＮ６２を吐出し、高温の窒素ガスを処理槽２０内に流入させる。 - 特許庁

The vacuum cooler comprises a processing tank 3 storing the container 2 containing the liquid food material 1 as a cooling object, a decompression means 4 reducing the pressure in the processing tank 3, a pressure restoration means 5 restoring the pressure in the decompressed processing tank 3, and a stirring means 6 stirring the liquid food material.例文帳に追加

被冷却物としての液物食材１が入られた容器２を収容する処理槽３と、この処理槽３内を減圧する減圧手段４と、減圧された処理槽３内を復圧する復圧手段５と、液物食材１を撹拌する撹拌手段６とを備える。 - 特許庁

A processing tank 20 for storing treatment liquid such as pure water, and for washing a substrate W is arranged inside an outer tank 10.例文帳に追加

外槽１０の内部には、純水等の処理液を貯留して基板Ｗに洗浄処理等を行う処理槽２０が配置されている。 - 特許庁