「processing tank」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a dew condensation prevention processing which prevents from attaching drippage of dew condensation to a glass and a tank without losing outer aesthetic appearance and the transparency of the glass and the tank.例文帳に追加

ガラスのコップや水槽の美感や透明度を損なわずに、それらに付着する結露の滴れを防止する。 - 特許庁

To provide a water supply tank unit capable of performing processing preventing the water, leaked out when the water supply tank is drawn out, from remaining.例文帳に追加

給水タンクの抜き出し時に漏れ出した水を残さないよう処理できる給水タンクユニットを提供すること。 - 特許庁

A developing stop processing tank 18 is provided between a developing processing tank 16 storing a developer 16A and a fixing tank 20 storing a fixing solution 20A along a carrying direction of a photosensitive web 12.例文帳に追加

感光ウエブ１２の搬送方向に沿って、現像液１６Ａが貯留された現像処理槽１６と、定着液２０Ａが貯留された定着槽２０との間に、現像停止処理槽１８を設ける。 - 特許庁

To eliminate a distortion which is the greatest defect of a processing liquid tank made of a synthetic resin with a simple structure, and to prevent a thickness increase as the tank is made large-sized while adopting the processing liquid tank made of the synthetic resin as a basic configuration.例文帳に追加

合成樹脂製の処理液槽を基本構成として、当該合成樹脂製の最大の不具合である歪みを簡単な構造で解消し、大型化に応じて肉厚の増大を防止する。 - 特許庁

Processing liquid feedback piping 12 is branch-connected to a branch part J1, and the processing liquid feedback piping 12 is led to the processing liquid tank 5.例文帳に追加

分岐部Ｊ１には処理液帰還配管１２が分岐接続され、処理液帰還配管１２は処理液タンク５に導かれている。 - 特許庁

The magnetic field producing body is arranged in a circulation path for circulating the processing liquid between a stabilization processing liquid tank and a processing liquid supply subtank.例文帳に追加

磁場発生体は、安定処理液タンクと処理液供給サブタンクとの間で処理液を循環させる循環路などに設ける。 - 特許庁

To provide a wet processing device capable of performing easy and quick removal of fraction of processing materials from the bottom surface part of a processing tank.例文帳に追加

処理槽の底面部からの被処理物の破片の除去を容易かつ迅速に行うことができる湿式処理装置を提供する。 - 特許庁

Housing 42 in which a processing space 74 which stores a processing liquid has been formed is disposed in a partition wall between processing chambers which are arranged in a main body of a processing tank and each store a processing liquid.例文帳に追加

処理槽本体内に設けた各々処理液を貯留する処理室間の隔壁に、処理液を貯留する処理空間７４を内部に形成したハウジング４２を配置する。 - 特許庁

To provide a substrate processing unit inspecting apparatus and a method, which are capable of inspecting a processing tank and a vibrating plate easily and quickly nearly in the same environment with a substrate processing device before the processing tank and the vibrating plate are fitted to the substrate processing device.例文帳に追加

処理槽と振動板とを基板処理装置に取りつける前に、基板処理装置とほぼ同様な環境で、簡便かつ迅速に、処理槽と振動板とを検査することのできる基板処理ユニット検査装置および検査方法を提供する。 - 特許庁

The developing stop processing tank 18 stores a stop solution of pH 5 or less.例文帳に追加

現像停止処理槽１８には、ｐＨ５以下の停止液が貯留されている。 - 特許庁

A processing liquid discharge port 44X is formed in the bottom of the external tank 43.例文帳に追加

外槽４３の底部には、処理液排出口４４Ｘが形成されている。 - 特許庁

To provide a processing system and a processing method capable of improving safety and productivity, in automatically determining that a processing liquid reservoir tank is empty when a liquid is actually runs out in the processing liquid reservoir tank and the processing liquid is not supplied to a line for draining the processing liquid from the processing liquid reservoir tank, thereby supplying the processing liquid drained from the processing liquid reservoir tank to a workpiece.例文帳に追加

処理液貯留槽において実際に処理液がなくなり、この処理液貯留槽から処理液を引き抜くためのラインに処理液が流れなくなった場合において、当該処理液貯留槽が空状態であることを自動的に判定することができ、このことにより、処理液貯留槽から引き抜かれた処理液を被処理体に供給するような処理において安全性や生産性の向上を図ることができる処理システムおよび処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of controlling temperature of a processing liquid in a reservoir tank at a low cost.例文帳に追加

低コストで貯留槽内の処理液の温度を調整することが可能な基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a processing liquid storage device making it possible to accurately determine the level of a processing liquid in a tank.例文帳に追加

貯留槽内の処理液の液面を正確に知ることができる処理液貯留装置を提供する。 - 特許庁

In the liquid exchanging process for exchanging the processing liquid stored in the processing tank 10 to the sulfuric acid from the pure water and adjusting the liquid temperature of the sulfuric acid after exchange to the predetermined temperature; the pure water is exhausted first from the processing tank 10 and an external tank 20.例文帳に追加

処理槽１０に貯留される処理液を、純水から硫酸に交換するとともに、交換後の硫酸の液温を所定温度に温調する液交換処理において、まず、処理槽１０および外槽２０から純水を排出する。 - 特許庁

The new liquid supply device 70 is formed in such a manner that a predetermined amount of new liquid L is added to the processing liquid L in the storage tank 11 or the processing liquid L that is refluxed to the storage tank 11 from the adsorbing containers 32 and 33, whenever the substrate K is carried out from the processing tank 11.例文帳に追加

新液供給装置70は、処理槽11から基板Kが搬出される度に、所定量の新液Lを、貯留槽11の処理液L、又は吸着容器32,33から貯留槽11に還流される処理液Lに添加するように構成される。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus whereby the amount of use of processing liquid can be reduced by causing a strong water stream change in a processing tank and the processing with high quality can be attained.例文帳に追加

処理槽内で強い水流変化を起させて、処理液の使用量を少なくすると共に高い品質の処理ができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide substrate processing equipment in which throughput of substrate processing being carried out by immersing a substrate into processing liquid stored in a processing tank can be enhanced furthermore.例文帳に追加

処理槽に貯留された処理液に基板を浸漬することにより行われる基板処理のスループットをさらに向上させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device which can further improve throughput of substrate processing which is carried out by immersing a substrate in processing liquid stored in a processing tank.例文帳に追加

処理槽に貯留された処理液に基板を浸漬することにより施される基板処理のスループットを、さらに向上させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

After a cleaning operation (first substrate processing) is finished, an etching solution (second processing solution) reserved in the compounding tank is supplied to a processing tank 10 to carry out an etching operation.例文帳に追加

そして、洗浄処理（第１の基板処理）の完了後、調合槽ＣＢに貯留されているエッチング用処理液（第２の処理液）が処理槽１０に供給されてエッチング処理が実行される。 - 特許庁

A control unit 59 controls the substrate processing apparatus to supply hydrophobizing solution into a processing tank 1 in order to replace pure water in the processing tank 1 with the hydrophobizing solution and to reform a substrate W with the hydrophobizing solution.例文帳に追加

制御部５９は、処理槽１に疎水化溶液を供給させて、処理槽１内の純水を置換させるとともに、疎水化溶液により基板Ｗの改質処理を行わせる。 - 特許庁

A color developing tank 44 and a bleach-fix tank 45 of a development processing section 19 are defined as processing tanks of a first group G1 and first to fourth washing tanks 46 to 49 are defined as the processing tanks of a second group G2.例文帳に追加

現像処理部１９の発色現像槽４４と漂白定着槽４５とを第１グループＧ１の処理槽とし、第１〜第４水洗槽４６〜４９を第２グループＧ２の処理槽とする。 - 特許庁

An evaporation fuel processing system in a vehicle includes a fuel tank, and a filler tube for supply of oil is provided on the fuel tank.例文帳に追加

車両の蒸発燃料処理系は、燃料タンクを含み、該燃料タンクには、給油のためのフィラーチューブが設けられている。 - 特許庁

Since the processing chambers 40, 501, and 502 are arranged on the main processing tank 11, no transportation chamber is required and the installation area of this vacuum processing device becomes smaller.例文帳に追加

主真空槽１１の上に処理室４０、５０_1、５０_2が配置されているので、搬送室が不要であり、設置面積が少なくて済む。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of preventing the contamination of a processing tank caused by contaminants broken away from a substrate, and a substrate processing method.例文帳に追加

基板から離脱した汚染物質による処理槽の汚染を防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To constitute a developing processor which performs proper processing by suppressing improper processing of a photographic paper lifted from the surface of a liquid in a processing tank.例文帳に追加

処理槽の液面から引き上げた印画紙の不適正な処理の進行を抑制して適正な処理を行う現像処理装置を構成する。 - 特許庁

A crossover rack 36 which sends photographic paper P lifted from the liquid surface of stabilization processing liquid (STB) in a stabilization processing tank 23A among a plurality of stabilization processing tanks to a next stabilization processing tank 23B is equipped with a roller unit R which rotates in contact with the photographic paper P.例文帳に追加

先の安定処理槽２３Ａの安定処理液（ＳＴＢ）の液面から引き上げられた印画紙Ｐを次の安定処理槽２３Ｂに送り込むクロスオーバラック３６に対して印画紙Ｐに接触するローラユニットＲを備える。 - 特許庁

The bulb permits supply of the cleaning liquid from cleaning liquid piping 12 to the processing liquid tank 3, and inhibits supply of the processing liquid from processing liquid piping 11 to the processing liquid tank 3 while the lever 19 is lodged to the other side.例文帳に追加

一方、レバー１９を他方側に倒伏させた状態で、洗浄液配管１２から処理液タンク３への洗浄液の供給を許可し、処理液配管１１から処理液タンク３への処理液の供給を阻止する。 - 特許庁

STERILIZATION METHOD AND APPARATUS FOR CONTAINER, AND PROCESSING TANK FOR STERILIZATION USED FOR THE SAME例文帳に追加

容器の殺菌方法及び装置、並びにそれらに用いる殺菌用の処理槽 - 特許庁

The charging port 9 is formed near a center of a vertical shaft of the processing tank 3.例文帳に追加

投入口９は、処理槽３の垂直軸中心付近に配置されている。 - 特許庁

The method carries out the above steps during the prescribed processing in e.g., the vacuum tank 2.例文帳に追加

本発明の方法は、例えば真空槽２内で所定の処理中に行う。 - 特許庁

The oil 11 heat-exchanged by the heat exchanger 4 is returned to the processing tank 2.例文帳に追加

そして、熱交換器４で熱交換された油１１を、処理槽２内に戻す。 - 特許庁

The vacuum pump 33 is connected with a bottom portion of the processing tank 3 through a draining pipe conduit 37, and connected with a side portion of the processing tank 3 through an exhaust pipe conduit 36.例文帳に追加

真空ポンプ３３は、処理槽３の底部と排水管路３７を介して接続されると共に、処理槽３の側部と排気管路３６を介して接続される。 - 特許庁

To provide a processing liquid tank for a wire electric discharge machine capable of shortening a setup time for immersion type processing without increasing the installation area of the liquid tank.例文帳に追加

加工液タンクの設置面積を大きくせず、かつ浸漬式加工における段取り時間を短縮することができるワイヤ放電加工機の加工液タンクを提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus that can be made compact as a whole and can be reduced in exhaust gas by directly discharging the atmosphere in a processing tank from the tank.例文帳に追加

処理槽内から直接的に雰囲気排気を行うことにより、コンパクト化を図れ、排気を少なくすることができる基板処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Before supplying a substrate W by a lifter 50, a drainage valve 15 is opened and the whole processing liquid is once discharged from the bottom of the processing tank 10 to the lower tank 40.例文帳に追加

リフター５０によって基板Ｗを投入する前に、排液バルブ１５を開放して処理槽１０の底部から下部タンク４０に一旦全ての処理液を排出する。 - 特許庁

To provide a processing liquid tank which is capable of suppressing the fall of the liquid level height of a processing liquid stored in a tank body to a lower level than the bottom edge of an overflow port.例文帳に追加

タンク本体内に貯留する処理液の液面高さがオーバーフロー口の下縁よりも下方に低下するのを抑制することの出来る処理液タンクを提供する。 - 特許庁

After the processing is ended, the pressurizing plate (13) is attached to the agitation head (2), an elevating/lowering cylinder is lowered, and the processing material inside the tank (11) is extruded from the discharge port of the tank.例文帳に追加

上記処理終了後、上記加圧板（１３）を攪拌ヘッド（２）に取り付け、昇降シリンダーを降下させてタンク（１１）内の処理材料をタンクの吐出口から押し出す。 - 特許庁

The at least one buffer tank has an outlet communicatively connected to the photographic processing system for supplying the thick replenishing solution directly to the one or more processing tank.例文帳に追加

この少なくとも１個の緩衝タンクは、濃厚補充液を１個又はそれ以上の処理タンクに直接供給する写真処理システムと連通している出口を有する。 - 特許庁

On the sidewall 4 of a processing tank 1, a cylindrical tube 5 is prepared to penetrate therethrough, while a peripheral face of the cylindrical tube 5 at the edge part inside of the processing tank is to be a screw section 8.例文帳に追加

処理槽１の側壁４には、円筒状の管体５が貫通して設けられ、この管体５の処理槽内側端部の外周面はネジ部８とされている。 - 特許庁

An ultrasonic transducer 156 imparts ultrasonic oscillation to the processing liquid 104 via the bottom part of a propagation tank 152, propagation water 154, and the bottom part of the processing tank 102.例文帳に追加

超音波振動子１５６は、伝搬槽１５２の底部、伝搬水１５４及び処理槽１０２の底部を介して、処理液１０４に超音波振動を付与する。 - 特許庁

The processing tank 50 is set movable by a holding unit 30 and a guide rail 11, so that not only the pressure of sound propagating pure water reserved in the outer tank 10 but also the pressure of sound propagating the pure water reserved in the outer tank 10, the bottom of the processing tank 50, and the pure water reserved in the processing tank 50 can be measured.例文帳に追加

処理槽５０は、保持部３０およびガイドレール１１によって移動可能なため、外槽１０に貯留された純水のみを伝播した超音波の音圧だけでなく、外槽１０に貯留された純水と、処理槽５０底部と、処理槽５０に貯留された純水とを伝播した超音波の音圧を測定することができる。 - 特許庁

The photographic processing device 1 has a processing bath 5, wherein photographic sensitive materials are treated by using processing solutions, a replenishing tank 2 for storing the above-mentioned processing solution so as to supply the processing solution to the processing bath 5, a pump means 3 for transporting the processing solution from the replenishing tank 2 to the processing tank 5 and a DC driving means 4 for driving the pump means 3.例文帳に追加

本発明に係わる写真処理装置1 は、処理液によって写真感光材料に対する処理が行われる処理槽5と、該処理槽5に対して前記処理液を補充しうるように前記処理液を貯留する補充タンク2と、前記処理液を前記補充タンク2から前記処理槽5へと移送するポンプ手段3と、該ポンプ手段3を駆動するＤＣ駆動手段4とを具備してなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a processing liquid supply system which supplies a prescribed processing liquid reservoired in a tank to a device using the processing liquid, wherein the tank can be replenished with the processing liquid even during the supply of the processing liquid to the device to prevent delay of a tact time.例文帳に追加

所定の処理液を用いる装置に対し、タンク内に貯留した前記処理液を供給する処理液供給システムにおいて、前記装置への処理液供給時であっても、前記タンクへの処理液の補充を行うことができ、タクトタイムの遅延を防止する。 - 特許庁

Disclosed is the development processing and conveying mechanism 70 mounted on processing tanks of the developer processor equipped with a color developing tank 51, a bleach-fixing tank 52, and a washing tank group comprising at least one washing tank 53 as the development processing tanks, and conveying the photosensitive material so as to perform development processing from color development processing to washing processing including bleach-fixing processing.例文帳に追加

感光材料Ｐを供給側から排出側へ搬送することで発色現像処理から漂白定着処理を経て洗浄処理に至る現像処理を実施するために、現像処理槽として、発色現像槽５１と、漂白定着槽５２と、少なくとも１つの洗浄槽５３とからなる洗浄槽群とを備えた現像処理装置の処理槽に装着されて感光材料を搬送する現像処理搬送機構７０。 - 特許庁