「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

PROCESSING METHOD FOR TEMPERATURE DISTRIBUTION DATA例文帳に追加

温度分布データの処理方法 - 特許庁

TEMPERATURE MONITOR OF ARITHMETIC PROCESSING UNIT例文帳に追加

演算処理ユニットの温度モニタ - 特許庁

LUBRICANT FOR ELEVATED TEMPERATURE PLASTIC PROCESSING AND METHOD FOR ELEVATED TEMPERATURE PLASTIC PROCESSING例文帳に追加

高温塑性加工用潤滑剤及び高温塑性加工方法 - 特許庁

PROCESSING APPARATUS AND TEMPERATURE CONTROL SYSTEM例文帳に追加

処理装置および温調システム - 特許庁

Water Processing, etc., of High-temperature Slag 例文帳に追加

高熱の鉱さいの水処理等 - 日本法令外国語訳データベースシステム

TEMPERATURE REGULATING METHOD, TEMPERATURE REGULATOR, AND PROCESSING DEVICE例文帳に追加

温度調節方法、温度調節装置及び処理装置 - 特許庁

COMPUTER HAVING TEMPERATURE ABNORMALITY PROCESSING FUNCTION例文帳に追加

温度異常処理機能付計算機 - 特許庁

TEMPERATURE MEASURING APPARATUS OF WAFER PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

ウエハ処理システムの温度測定装置 - 特許庁

ROUGH SIDE SUSCEPTOR FOR HIGH-TEMPERATURE SUBSTRATE PROCESSING例文帳に追加

高温基板処理用の粗面サセプタ - 特許庁

TEMPERATURE CONTROL DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

温調装置および基板処理システム - 特許庁

THERMAL PROCESSING ROLLER WITH PROTECTING TUBE FOR TEMPERATURE SENSOR例文帳に追加

温度センサー保護管付熱処理ローラ - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR VERY LOW TEMPERATURE PROCESSING例文帳に追加

極低温加工法及び加工装置 - 特許庁

TEMPERATURE REGULATOR, TEMPERATURE REGULATION SYSTEM, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

温度調整器、温度調整システムおよび基板処理装置 - 特許庁

TEMPERATURE CONTROL MECHANISM, PLASMA PROCESSING APPARATUS AND TEMPERATURE CONTROL METHOD例文帳に追加

温調機構、プラズマ処理装置及び温調制御方法 - 特許庁

The temperature sensor is a temperature sensor for a semiconductor processing device.例文帳に追加

温度センサーは半導体処理装置用温度センサーである。 - 特許庁

PROCESSING SOLUTION TEMPERATURE CONTROL UNIT AND METHOD例文帳に追加

処理液温度制御装置及び方法 - 特許庁

TEMPERATURE MEASURING APPARATUS AND PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

温度測定装置及びプラズマ処理装置 - 特許庁

TEMPERATURE CONTROL CIRCUIT OF CENTRAL PROCESSING UNIT例文帳に追加

中央処理装置の温度制御回路 - 特許庁

RESIN FOR LOW TEMPERATURE-PROCESSING SHEET AND FILM例文帳に追加

低温加工シートおよびフィルム用樹脂 - 特許庁

HIGH TEMPERATURE AND HIGH PRESSURE PROCESSING METHOD, HIGH TEMPERATURE AND HIGH PRESSURE PROCESSING DEVICE, AND MEMORY MEDIUM例文帳に追加

高温、高圧処理方法及び高温、高圧処理装置並びに記憶媒体 - 特許庁

TEMPERATURE ABNORMALITY PROCESSING METHOD, AND DATA PROCESSOR WITH TEMPERATURE ABNORMALITY PROCESSING FUNCTION例文帳に追加

温度異常処理方法および温度異常処理機能を有するデータ処理装置 - 特許庁

TEMPERATURE CONTROL APPARATUS, INFORMATION PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR TEMPERATURE CONTROL例文帳に追加

温度制御装置、情報処理装置及び温度制御方法 - 特許庁

TEMPERATURE CONTROL DEVICE, TEMPERATURE CONTROL METHOD, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

温度調節装置、温度調節方法及び基板処理装置 - 特許庁

SUBSTRATE PROCESSING EQUIPMENT AND TEMPERATURE CONTROL METHOD例文帳に追加

基板処理装置及び温度調節方法 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS AND TEMPERATURE MEASURING METHOD例文帳に追加

プラズマ処理装置及び温度測定方法 - 特許庁

TEMPERATURE CONTROL METHOD AND PLASMA PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

温度制御方法及びプラズマ処理システム - 特許庁

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND TEMPERATURE CONTROLLING DEVICE例文帳に追加

基板処理装置及び温度調節装置 - 特許庁

When updating the temperature T_k (symbol 13), the processing part updates the temperature T_k to a temperature T_k+1.例文帳に追加

温度の更新では（符号１３）、処理部は、温度Ｔ_ｋをＴ_ｋ＋１に更新する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING TEMPERATURE OF TEMPERATURE-CONTROLLED OBJECT, AND HIGH AND LOW TEMPERATURE PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

被温度制御体の温度制御方法及び装置並びに高低温処理システム - 特許庁

To raise heating temperature of a substrate and improve high temperature processing capability.例文帳に追加

基板の加熱温度を上げて高温処理能力を向上させる。 - 特許庁

RADIATION TEMPERATURE MEASURING METHOD, RADIATION TEMPERATURE INDICATOR AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

放射温度測定方法、放射温度計および基板処理装置 - 特許庁

THERMOPLASTIC VULCANIZED RUBBER CONTAINING HIGH-TEMPERATURE PROCESSING AID例文帳に追加

高温加工助剤含有熱可塑性加硫ゴム - 特許庁

INFORMATION PROCESSING DEVICE AND TEMPERATURE CONTROL METHOD例文帳に追加

情報処理装置および温度制御方法 - 特許庁

THERMAL PROCESSING APPARATUS, METHOD FOR REGULATING TEMPERATURE OF THERMAL PROCESSING APPARATUS, AND PROGRAM例文帳に追加

熱処理装置、熱処理装置の温度調整方法、及び、プログラム - 特許庁

METHOD FOR CONTROLLING WAFER TEMPERATURE IN PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

プロセス装置におけるウェハ温度の制御方法 - 特許庁

ELECTRIC HEAT PROCESSING APPARATUS AND TEMPERATURE MEASURING METHOD例文帳に追加

通電熱加工装置及び温度測定方法 - 特許庁

PROCESSING LIQUID TEMPERATURE CONTROL METHOD AND APPARATUS例文帳に追加

処理液の温度制御方法及びその装置 - 特許庁

SUBSTRATE PROCESSING BY RAPID TEMPERATURE GRADIENT CONTROL例文帳に追加

急速温度勾配コントロールによる基板処理 - 特許庁

THERMAL PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE TEMPERATURE MEASUREMENT METHOD例文帳に追加

熱処理装置および基板温度測定方法 - 特許庁

MELTING PROCESSING AT LOW TEMPERATURE OF ORGANIC/ INORGANIC HYBRID FILM例文帳に追加

有機・無機ハイブリッド膜の低温溶融加工 - 特許庁

Coating is carried out at a temperature higher than the processing temperature of the substrate.例文帳に追加

コーティング処理は、基板処理温度よりも高い温度で行われる。 - 特許庁

BODY TEMPERATURE INFORMATION TERMINAL DEVICE AND BODY TEMPERATURE INFORMATION PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

身体温度情報端末装置及び身体温度情報処理システム - 特許庁

VACUUM PROCESSING DEVICE AND WAFER TEMPERATURE RETURNING METHOD例文帳に追加

真空処理装置およびウェハ温度復帰方法 - 特許庁

The wafer is heated from a first processing temperature to a second processing temperature during a heating time interval, and cooled from the second processing temperature to the first processing temperature during a cooling time interval.例文帳に追加

ウェーハは、加熱時間間隔の間、第１の処理温度から第２の処理温度まで加熱され、次に、冷却時間間隔の間、第２の処理温度から第１の処理温度まで冷却される。 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING TEMPERATURE OF SUBSTRATE AND METHOD FOR PROCESSING例文帳に追加

基板の温度測定方法および処理方法 - 特許庁