「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

When a temperature different from an ordinary temperature is detected by a temperature sensor 107, a CPU 108 performs automatic exposure control (on exposure time, diaphragm value and AGC value) different from the ordinary temperature and performs control for changing a parameter in a signal processing part 105 from the time of ordinary temperature.例文帳に追加

温度センサ１０７によって常温と異なる温度が検知された際に、ＣＰＵ１０８が該常温と異なる自動露出制御（露光時間、絞り値、ＡＧＣ値）をおこなうとともに、信号処理部１０５でのパラメータを常温時と変える制御をおこなう。 - 特許庁

To prevent a temperature of an oxidation catalyst from being lowered below an activation temperature due to liquid fuel supplied for S-poisoning recovery processing when the temperature of the oxidation catalyst carried by a NOx storage and reduction catalyst device is equal to or higher than the activation temperature and lower than a set temperature.例文帳に追加

ＮＯ_X吸蔵還元触媒装置に担持された酸化触媒の温度が活性温度以上設定温度未満である時に、Ｓ被毒回復処理のために供給された液状燃料によって酸化触媒の温度が活性温度未満となることを防止する。 - 特許庁

To provide a method for measuring temperature and a substrate processing apparatus capable of continuously and correctly measuring the temperature of a temperature control medium flowing through a flow path in a substrate placing table and correctly adjusting the temperature of each portion of the substrate to a predetermined temperature.例文帳に追加

基板載置台内部の流路を流れる温度調整媒体の温度を各部で連続的に正確に測定することができ、基板の各部を所定温度に正確に温度調節することのできる温度測定方法及び基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The electronic control device 60 estimates an engine temperature in accordance with an engine cooling water temperature detected by a water temperature sensor 75, and prohibits the maximum position learning processing when the engine temperature is lower than a predetermined temperature and executes evacuating travel with throttle control.例文帳に追加

電子制御装置６０は、水温センサ７５によって検出される機関冷却水温に基づいて機関温度を推定し、機関温度が所定温度未満である場合には最大位置学習処理を禁止してスロットル制御による退避走行を実行する。 - 特許庁

To execute a temperature protection processing, without being noticed by a user, when it is detected that temperature is higher than a predetermined value, using a simple circuit configuration.例文帳に追加

簡単な回路構成で、所定温度以上であることを検知した際にユーザに気づかれることなく温度保護処理を実行すること。 - 特許庁

Specifically, the HDC/MPU 23 refers to a temperature-slew rate table 242 to vary the slew rate according to temperature in read/write processing.例文帳に追加

具体的には、ＨＤＣ／ＭＰＵ２３は温度−スルーレート・テーブル２４２を参照し、リード／ライト処理において、温度に応じてスルーレートを変化させる。 - 特許庁

The particle analyzing apparatus carries out analysis, by correcting the electrical signal thus obtained with the liquid temperature detected by the temperature sensor 8 and processing the electrical signal thus corrected.例文帳に追加

温度センサ８で検出された液温に基づいて、得られた電気信号を補正し、補正された電気信号を処理して分析する。 - 特許庁

To uniformly performing chemical liquid processing of a substrate by using a chemical liquid having a temperature higher than a normal temperature while holding the substrate in an inclined state.例文帳に追加

基板を傾斜した状態で保持しながら、常温より高い温度の薬液を用いて、傾斜した基板の薬液処理を均一に行う。 - 特許庁

Further, the densification processing temperature for the first insulating film 6a and the second insulating film 7a is made higher than the thermal treatment temperature for transistor activation.例文帳に追加

また、第一の絶縁膜６ａおよび第二の絶縁膜７ａの緻密化処理温度をトランジスタの活性化の熱処理温度よりも高くする。 - 特許庁

Hereby, the processing device 13 can estimate the body temperature from the temperature data group Dg1-Dg3 in time series by using the reverse operation model B.例文帳に追加

これにより、処理装置１３は、逆演算モデルＢを用いて時系列の温度データ群Ｄg1〜Ｄg3から体温を推定することができる。 - 特許庁

To provide a temperature management method and a system accurately measuring temperatures on a processing line and obtaining temperature data easily managed.例文帳に追加

加工ライン上の温度を精度良く測定するとともに、管理しやすい温度データを得ることのできる温度管理方法及びシステムを提供する。 - 特許庁

To provide an electlet material having a high sensitivity as an piezoelectric element and a wide usable temperature range, especially resisting to a high temperature and easy for processing.例文帳に追加

圧電素子として感度の高い、使用可能な温度範囲の広い、特に高温度に耐える、加工し易いエレクトレット材料を提供する。 - 特許庁

To use a liquid temperature detection means provided with piping for processing liquid circulation to accurately detect the liquid temperature even in the standby state.例文帳に追加

処理液循環用の配管に設けた液温検出手段を用いて、スタンバイ状態であっても、正確な液温検出を可能とする。 - 特許庁

To provide an information processor capable of adjusting the set temperature for executing temperature control processing, depending on the characteristics of the information processor.例文帳に追加

温度制御処理を実行させる設定温度を情報処理装置の特性に応じて調整できる情報処理装置を提供する。 - 特許庁

A temperature measuring means 4 measures susceptor temperature in the vicinity of a substrate mounting plane in the central portion of the substrate mounting plane of a susceptor 3 while in substrate processing.例文帳に追加

基板処理中に、温度測定手段４が、サセプタ３の基板載置面中央部の、基板載置面近傍のサセプタ温度を測定する。 - 特許庁

An amorphous silicon film 60 is formed on the high dielectric amorphous film at a film formation temperature of an amorphous-processing temperature of the high dielectric material.例文帳に追加

次に、高誘電体非結晶膜上に、高誘電率材の非結晶化温度を成膜温度としてアモルファスシリコン膜６０を形成する。 - 特許庁

To provide a parallel plate type plasma processing apparatus in which, when plasma processing is performed while adjusting an upper electrode 40 to the setting temperature by a temperature adjustment mechanism 47, deterioration in processing uniformity between substrates is suppressed which is caused by changes in the processing environmental atmosphere.例文帳に追加

平行平板型のプラズマ処理装置において、上部電極４０を温度調整機構４７により設定温度に調整しながらプラズマ処理を行うにあたり、処理の環境雰囲気が変わることに起因する基板間の処理の均一性の低下を抑えること。 - 特許庁

The part 270 acquires information about temperature for adjusting an atmosphere in the processing vessel of each PM provided in a PM400, and determines the adjustment of the temperature condition in the processing vessel on the basis of the acquired temperature information.例文帳に追加

判定部２７０は，ＰＭ４００に設けられた各ＰＭの処理容器内の雰囲気を整えるための温度に関する情報を取得し，取得した温度情報に基づいて処理容器内の温度状態が整えられているか否かを判定する。 - 特許庁

To make a plate temperature promptly reach and be set at a new target temperature even when transient heat exchange is generated between a chamber and a plate at the time of changing the target temperature of a temperature adjustment plate inside a semiconductor processing chamber.例文帳に追加

半導体処理チャンバ内の温度調節プレートの目標温度を変更したときに、チャンバとプレートとの間に過渡的な熱交換が生じても、プレート温度を速やかに新しい目標温度に到達させて整定させる。 - 特許庁

When a set mode is attained, the processing circuit 14a drives a fixing heater 11 so as to start raising the temperature of the heat roller 12 and to perform sweeping from temperature much lower than predetermined temperature used for fixing up to the predetermined temperature.例文帳に追加

処理回路１４ａは、設定モードとなると、定着ヒータ１１を駆動してヒートローラ１２の温度上昇を開始し、定着に用いる所定温度よりも充分に低い温度からその所定温度まで掃引させる。 - 特許庁

A preheating temperature setting part 55 sets the preheating temperature being the initial temperature for making the dry part 13 a target dry temperature within a time, until the photosensitive material reaches the dry part 13 after starting image recording processing.例文帳に追加

プレヒート温度設定部５５は、画像記録処理が開始されてから感光材料が乾燥部１３に到達するまでの時間内に、乾燥部１３を目標乾燥温度にするための初期温度であるプレヒート温度を設定する。 - 特許庁

A processing part of the mobile terminal device acquires the ambient temperature detected by the ambient temperature detection part and activates predetermined operation means preliminary set depending on the range of the ambient temperature when the ambient temperature falls within a predetermined range.例文帳に追加

携帯端末装置の処理部は、温度検出部で検出された周囲温度を取得し、該周囲温度が所定の範囲にあるとき、周囲温度の範囲に応じて予め設定された所定の操作手段を有効にする。 - 特許庁

To obtain a substrate processing equipment, facilitated in the estimation of a wafer temperature and capable of reducing overshoot in the wafer by the estimated temperature of the wafer, and capable of stabilizing a temperature in the surface of the wafer at a predetermined temperature with an excellent accuracy within a short period of time.例文帳に追加

ウェーハ温度の推定が容易であり、ウェーハの推定温度によりウェーハでのオーバーシュートが軽減でき、ウェーハ面内の温度を精度良く、短期間で所定の温度に安定させることができる基板処理装置を得る。 - 特許庁

The signal processing part 16 corrects the electric signal outputted from the temperature characteristic setting part 13 on the basis of the temperature detected by the temperature sensor 14 and the temperature characteristic of the torque sensor 12 and outputs the result to the PS Device 18.例文帳に追加

信号処理部１６は、温度センサ１４によって検出された温度及びトルクセンサ１２の温度特性に基づき、温度特性設定部１３から出力された電気信号を補正してＰＳ装置１８へ出力する。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes a step of performing the HMDS processing within the range of y≥-0.16x+32, 100≤x≤170 when a processing temperature in the HMDS processing is set to x [°C] and a processing time in the HMSD processing is set to y [min].例文帳に追加

ＨＭＤＳ処理における処理温度をｘ［℃］とし、ＨＭＤＳ処理における処理時間をｙ［分］としたとき、ｙ≧−０．１６ｘ＋３２，１００≦ｘ≦１７０の範囲内で、ＨＭＤＳ処理する半導体装置の製造方法とする。 - 特許庁

A workstation temperature control device 42 displays the temperature from a workstation temperature sensor 40, compares it with a desired temperature, and performs a proper processing for regulating the temperature of a workstation 28 to the desired temperature.例文帳に追加

複数のワークステーションの温度コントローラは所定の温度以下の温度のクーラントの供給源と、各ワークステーションに対応する複数のクーラント供給流路と、各ワークステーションの温度を検出するための複数のワークステーション温度センサと、各ワークステーションに対応する複数のワークステーション温度制御装置とを有する。 - 特許庁

In normal times, the temperature indication processing part 21 calculates and outputs an average value of the detected temperatures for a certain period of the temperature sensor 10, but when the detected temperatures of the temperature sensor 10 exceed a predetermined temperature, and then turns to dropping and becomes lower than the average value, a detected temperature of the temperature sensor is outputted as is.例文帳に追加

常時は、温度表示処理部２１は、温度センサ１０の検出温度の一定期間の平均値を算出して出力するが、温度センサ１０の検出温度が所定温度を超えた後、低下に転じて前記平均値より低くなった時は、温度センサの検出温度をそのまま出力する。 - 特許庁

When the main processing inlet temperature reaches the upper limit value (step S40: YES), the rotational frequency of a supply rotor is increased to the upper limit value to raise the main processing outlet temperature (step S60).例文帳に追加

主処理入口温度が上限値になった場合（ステップＳ４０：ＹＥＳ）、上限値まで供給ロータの回転数を増加させることで、主処理出口温度を上昇させる（ステップＳ６０）。 - 特許庁

The uniformity of wafer processing being influenced by wafer temperature is ensured by controlling the temperature in the wafer plane and unevenness in the wafer plane of the machining accuracy of the wafer processing, for example, is eliminated.例文帳に追加

このようにしてウエハ面内の温度制御を図ることで、ウエハ温度に影響されるウエハ処理の均一性を確保し、結果としてウエハ処理の加工精度等のウエハ面内不均一性を解消する。 - 特許庁

To provide a fuel supplying system restraining or blocking fuel flowing into a heat processing device without conducting any electrical control when heat with a temperature higher than a prescribed temperature is generated at the heat processing device.例文帳に追加

熱処理装置が予め設定された設定温度よりも高い温度で発熱したときに電気的な制御をおこなわずに熱処理装置への燃料の流入を抑制又は遮断する。 - 特許庁

Atmospheric gas 7, introduced into a processing chamber 1, is controlled so as to realize quick rise or quick drop in the temperature, and especially, a cooled gas is introduced into the processing chamber 1 in a temperature drop process.例文帳に追加

高速昇降温を実現するため処理室１に導入する雰囲気ガス７の温度調節を行って、とくに降温過程において冷却したガス７をチャンバーに導入できるようにする。 - 特許庁

The present method repeatedly executes return air temperature calculation processing (steps 104 to 108) and air supply temperature calculation processing (steps 109 to 113) alternately I the interval of set cycle time(e.g. 1 sec.).例文帳に追加

還気温度計算処理（ステップ１０４〜１０８）と給気温度計算処理（ステップ１０９〜１１３）とを、例えば、設定されたサイクル時間（例えば、１秒間）間隔で交互に繰り返し実行する。 - 特許庁

Then, the battery charge 20 performs a third attachment detection processing, and when it is determined that the battery is connected, ends a single temperature scan and repeats the routine, starting from the first temperature estimation processing.例文帳に追加

更に、バッテリ充電器２０は、第３装着検知処理を実行し、バッテリが接続されていると判定された場合、１つの温度スキャンを終了し、１回目の温度評価処理から繰り返す。 - 特許庁

Also before they are introduced into the melting oven, the preliminary treatment for briquettes, lump minerals and the like and also the preliminary processing or the preliminary treatment and the preliminary processing for them at the temperature higher than the normal temperature are applied for melting.例文帳に追加

さらに、溶融炉に投入される前に混合や、ブリケットや団鉱などの事前処理及び事前加工もしくは、常温より高い温度で事前処理及び事前加工して溶融する。 - 特許庁

When the temperature of the processing liquid drops to a previously-set predetermined value N1 or below, the processing liquid in the processing liquid tank TB is returned to the processing liquid tank TB through the piping 18, 19 and 21 by the operation of the pump P2.例文帳に追加

処理液の温度が予め定められた規定値Ｎ１以下になると、処理液タンクＴＢ内の処理液は、ポンプＰ２の動作により配管１８，１９，２１を通して処理液タンクＴＢに戻される。 - 特許庁

To provide an information processing device which is capable of preventing malfunction due to high temperature by controlling power consumption while minimizing decrease of processing capacity.例文帳に追加

処理能力をできるだけ下げずに、消費電力を制御し、高温による誤動作を防ぐことができる情報処理装置を得ること。 - 特許庁

To advance processing while a temperature of processing liquid on a substrate is kept to be more appropriate and to make an apparatus structure to be simple and inexpensive.例文帳に追加

基板上の処理液の温度をより適正に保ちながら処理を進めることができ、しかも、装置構成を簡単、かつ安価とする。 - 特許庁

Therefore, the estimation processing of the cetane number is executed while temperature in a combustion chamber is made to be generally constant, and the correct estimation processing is enabled.例文帳に追加

これにより、燃焼室内の温度をほぼ一定とした状態でセタン価推定処理が実行され、正確な推定処理が可能となる。 - 特許庁

A processing means 14 applies white balance processing to the image data configuring each region according to the color temperature estimated by the estimate means 14.例文帳に追加

処理手段１４は、推定手段１４により推定された色温度に応じて、各領域を構成する画像データにホワイトバランス処理を行う。 - 特許庁

To provide a substrate surface processing apparatus which can achieve a high temperature carrier gas and can realize higher homogeneity processing.例文帳に追加

キャリアガスの高温化を実現することができ、よってより高い均質処理を実現することができる基板表面処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of suppressing a rise of a substrate temperature and thermal budget, and heating and processing the substrate uniformly.例文帳に追加

基板温度の上昇を抑えサーマルバジェットを抑制しつつ、基板を均一に加熱処理することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide substrate processing equipment which can enhance drying efficiency of a substrate by lowering the temperature of processing solution through decompression.例文帳に追加

減圧して処理液の温度を低下させることにより、基板の乾燥効率を向上させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for processing capable of securely supplying a processing liquid heated at predetermined temperature to a substrate.例文帳に追加

この発明は基板に所定温度に加熱された処理液を確実に供給することができるようにした処理装置を提供することにある。 - 特許庁

(1) The photosensitive material processing device having the processing solution coating means has a temperature control means for the coating means.例文帳に追加

（１）処理液の塗布手段を有する感光材料の処理装置において、前記塗布手段の温調手段を有する感光材料の処理装置。 - 特許庁

In the liquid exchanging process for exchanging the processing liquid stored in the processing tank 10 to the sulfuric acid from the pure water and adjusting the liquid temperature of the sulfuric acid after exchange to the predetermined temperature; the pure water is exhausted first from the processing tank 10 and an external tank 20.例文帳に追加

処理槽１０に貯留される処理液を、純水から硫酸に交換するとともに、交換後の硫酸の液温を所定温度に温調する液交換処理において、まず、処理槽１０および外槽２０から純水を排出する。 - 特許庁