「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

PLATE, DEVICE FOR ADJUSTING TEMPERATURE OF SUBSTRATE HAVING THE PLATE AND APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE HAVING THE DEVICE例文帳に追加

プレート、これを有する基板温度調節装置及びこれを有する基板処理装置。 - 特許庁

To perform surer fixation processing of toner, by taking the temperature of a pressure roller into consideration.例文帳に追加

加圧ローラの温度を考慮することによりトナーのより確実な定着処理を実現する。 - 特許庁

To provide an apparatus for heating substrates for uniformizing the temperature distribution of a substrate that is subjected to heat processing.例文帳に追加

基板加熱装置において加熱処理される基板の温度分布を均一化する。 - 特許庁

ULTRASONIC DIAGNOSTIC APPARATUS, ULTRASONIC PROBE, TEMPERATURE CALCULATION METHOD AND SIGNAL PROCESSING METHOD例文帳に追加

超音波診断装置、超音波探触子、温度算出方法及び信号処理方法 - 特許庁

In the unit 2, the substrate W is housed in a processing space of a processing chamber 21, and the liquid film is freezed with the temperature in the processing space lowered to the temperature lower than a freezing point of the pretreatment liquid.例文帳に追加

凍結処理ユニット２では、基板Ｗは処理室２１内の処理空間に収容され、処理空間の温度が前処理液の凝固点よりも低い温度に低下されることで液膜が凍結される。 - 特許庁

When a temperature TLNC of the NOx cleaning device exceeds an upper side determination temperature TRHL during the regeneration processing by the post injection (S14, S15), the processing is shifted to regeneration processing by increasing an amount of main injection (S17).例文帳に追加

ポスト噴射による再生処理中にＮＯｘ浄化装置の温度ＴＬＮＣが上側判定温度ＴＲＨＬを超えると（Ｓ１４，Ｓ１５）、主噴射量の増量による再生処理に移行する（Ｓ１７）。 - 特許庁

Next, a batch processing sequence candidate preparing part 42 prepares one or more kinds of candidates to which a processing sequence about a batch processing number at each temperature is allocated according to a temperature pattern (=energy=cost) being a constraint condition.例文帳に追加

次に、バッチ処理順序候補作成部４２が、各温度でのバッチ処理数を、制約条件である温度パターン（＝エネルギー＝コスト）に従って処理順序を割振った候補を１または複数通り作成する。 - 特許庁

A memory 102 stores the initial reference location of a transfer arm, a first correlation between the processing recipe and the sidewall temperature of a processing chamber, and a second correlation between the sidewall temperature of the processing chamber and the corrected value of a reference location.例文帳に追加

記憶部１０２は、搬送アームの初期基準位置と、処理レシピと処理チャンバの側壁温度との第１の相関と、処理チャンバの側壁温度と基準位置の補正値との第２の相関とが記憶されている。 - 特許庁

When temperature acquired from a temperature sensor is set as center temperature Tm, waveform data corresponding to each temperature by change unit temperature ΔTu in a temperature range of center temperature Tm±α°C is stored in a waveform memory 46, and updating (rewriting) processing of the waveform data stored in the waveform memory is performed in accordance with the temperature detected by the temperature sensor at regular updating intervals.例文帳に追加

温度センサーから取得した温度を中心温度Ｔｍとして当該中心温度Ｔｍ±α℃の温度範囲における変化単位温度ΔＴｕ刻みの各温度に対応する波形データを波形メモリー４６に記憶させ、規定の更新間隔で、温度センサーによって検出される温度に応じて波形メモリーに記憶されている波形データの更新（書き替え）処理を実行する。 - 特許庁

Regarding the temperature required to fix the toner image in the fixing unit AA, particularly, in fixing the toner image to the first recording paper after starting the image forming processing, a prescribed temperature is added to a predetermined target temperature, and the fixation temperature is controlled for a prescribed time so as to reach the temperature obtained by adding the prescribed temperature to the target temperature.例文帳に追加

定着ユニットＡＡで行われるトナー像を定着させる際の温度について、特に、画像形成処理開始後１枚目の記録用紙にトナー像を定着させる場合、予め定められた目標温度に所定温度を加算し、所定時間、当該目標温度に所定温度を加算した温度になるよう制御する。 - 特許庁

An disk device 1 includes: an optical pickup 20 that projects light onto an optical disk D and receives the light reflected from the optical disk D; a temperature sensor 40 for detecting ambient temperature of the optical pickup 20; and a temperature control processing unit 55 that executes temperature control processing based on temperature information obtained from the temperature sensor 40.例文帳に追加

光ディスク装置１は、光ディスクＤに光を照射するとともに光ディスクＤで反射された反射光を受光する光ピックアップ２０と、光ピックアップ２０の周辺温度を検出するための温度センサ４０と、温度センサ４０から得られる温度情報に応じた温度制御処理を実行する温度制御処理部５５と、を備える。 - 特許庁

To provide a plasma processing device further correctly managing a temperature condition, and a plasma processing method.例文帳に追加

本発明は、温度状態の管理をより正確に行うことができるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To carry out the plasma beam processing in vacuum status for the material sensitive to the influence of temperature at a high discharge power and high processing speed.例文帳に追加

高い放電パワー及び処理速度で、温度の影響を受けやすい材料の真空でのプラズマビームの処理を行なう。 - 特許庁

RACK SYSTEM FOR INFORMATION PROCESSING APPARATUS HAVING FUNCTION OF CONTROLLING AIR CONDITIONING BASED ON TEMPERATURE OF RACK STORING INFORMATION PROCESSING PACKAGE例文帳に追加

情報処理パッケージ類を収容するラックの温度を基に空調を制御する機能を設けた情報処理装置用ラックシステム - 特許庁

To provide a chemical processing tank requiring no temperature control unit in the processing tank, and to provide a chemical processor using it.例文帳に追加

処理槽に温度制御部を必要としない薬液処理槽及びそれを用いた薬液処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To realize an ultrasonic processing apparatus which can prevent lowering in substrate processing by a liquid chemical even when the liquid chemical of high temperature is used.例文帳に追加

高温の薬液を用いても、薬液による基板処理の低下を防止できる超音波処理装置を実現すること。 - 特許庁

TARGET VALUE PROCESSING UNIT, TEMPERATURE CONTROLLER, CONTROL PROCESS IMPLEMENTING SYSTEM, PROCESS CONTROLLING METHOD, TARGET VALUE PROCESSING PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

目標値加工装置、温度調節器、制御プロセス実行システム、プロセス制御方法、目標値加工プログラムおよび記録媒体 - 特許庁

At the same time, demodulation processing for temperature information based on a period of time of the logic "H" or a period of time of the logic "L" is performed as software processing.例文帳に追加

一方、論理「Ｈ」である期間や論理「Ｌ」である期間に基づく温度情報の復調処理を、ソフトウェア処理とする。 - 特許庁

An inert gas is introduced into the processing chamber so that the metal vaporized material is not vaporized in a stage of raising the temperature in the processing chamber.例文帳に追加

処理室内の昇温過程で金属蒸発材料が蒸発しないように処理室内に不活性ガスを導入する。 - 特許庁

Photolithographic processing including PEB processing of the corrected heating temperature is performed to form a resist pattern on the wafer (a step S5).例文帳に追加

補正された加熱温度のＰＥＢ処理を含むフォトリソグラフィー処理を行い、ウェハ上にレジストパターンを形成する（ステップＳ５）。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus that enhances the reproducibility of wafer processing precision by monitoring the secular change of a temperature sensor.例文帳に追加

温度センサの経時変化を監視することにより、ウエハ加工精度の再現性を向上したプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

Thus, the processing speed does not fall off with intermittent processing performed in accordance with the temperature rise of the device like the conventional photographing device, and since one of the ASICs 8a, 8b at lower temperature continuously performs image processing, fall off of the processing speed by the temperature rise of the ASICs 8a, 8b is prevented.例文帳に追加

このため、従来の撮影装置のように、装置の温度上昇に伴って処理を間欠的に行うことで処理速度が低下することもなく、低温な一方のＡＳＩＣ８ａ、８ｂが継続して画像処理を行うため、ＡＳＩＣ８ａ、８ｂの温度上昇による処理速度の低下を防ぐことができる。 - 特許庁

When the resist correction process is performed, on condition that the measured temperature is lower than the reference temperature by a set temperature or above (No in S2), the measured temperature when the resist correction processing is started is stored as a reference temperature (S21).例文帳に追加

なお，測定温度が基準温度に比べて設定温度以上低くなったことを条件に（Ｓ２のＮｏ側），レジスト補正処理が実行された場合には，該レジスト補正処理の実行開始時における測定温度を基準温度として記憶する（Ｓ２１）。 - 特許庁

To provide an apparatus for raising/lowering a temperature which raises or lowers the temperature of numerous semiconductor devices at a time in a handler for performing high temperature test and low temperature test to realize high-speed processing as the whole apparatus, and also to provide the high and low temperature test handler.例文帳に追加

高温テスト及び低温テストを実施するハンドラにおいて、一度に大量の半導体装置の高温化又は低温化を可能とし、装置全体としての高速処理を実現した高低温化装置及び高低温テストハンドラを提供する。 - 特許庁

To provide a wafer holder applicable to processing of a wafer at a temperature not higher than normal temperature and especially suitable for use in a CVD system.例文帳に追加

常温以下の温度でのウエハの処理に適用することができ、特にＣＶＤ装置での使用に適したウエハ保持体を提供する。 - 特許庁

To quickly increase the temperature of a heat source for a fixing processing up to a prescribed temperature with less energy consumption at an initial power supply stage.例文帳に追加

通電初期時において、定着処理のための熱源をより少ない消費エネルギーで所定の温度まで速く上昇させる。 - 特許庁

When the temperature is the prescribed temperature or more in the step S3, whether operation in processing (step S1) is emergency communication or not is checked (step S4).例文帳に追加

ステップＳ３で所定温度以上であれば、次に、処理中の動作（ステップＳ１）が緊急通信であるかをチェックする（ステップＳ４）。 - 特許庁

A main motor is switched to rotate at low speed when starting up the heater, and rotate at processing speed when the temperature of the heater comes to the vicinity of the target temperature.例文帳に追加

メインモータは、ヒータ立ち上げ時は低速で、ヒータが目標温度付近まで来たときにプロセススピードで回転するよう切り替える。 - 特許庁

To provide substrate processing equipment capable of preventing decrease in temperature around a terminal part of a heating body in the inside of a chamber to improve temperature uniformity across the entire circumference of the heating body.例文帳に追加

炉内端子部付近の発熱体の温度低下を防ぎ、発熱体全周に亘って温度の均一性を向上させる。 - 特許庁

A press board is made of the meta-type wholly aromatic polyamide fiber restrained from shrinkage in high-temperature processing and during use at high temperature.例文帳に追加

高温加工時または高温使用中における収縮が抑制されたメタ型全芳香族ポリアミド繊維を用いてプレスボードを得る。 - 特許庁

Therefore, a temperature difference between the processing gas and the shower plate 21 is controlled and the uniformity of the inplane temperature of the shower plate 21 is improved.例文帳に追加

これによって、処理ガスとシャワープレート２１との温度差が抑えられ、シャワープレート２１の面内温度の均一性が向上する。 - 特許庁

To decrease the number of processing times at high temperature (600°C or higher) to realize further low-temperature processing (600°C or lower), realizing simplified process to improve throughput.例文帳に追加

高温（６００℃以上）の加熱処理回数を低減し、さらなる低温プロセス（６００℃以下）を実現するとともに、工程簡略化及びスループットの向上を実現することを課題とする。 - 特許庁

To provide a substrate processing method which reduces to the utmost an influence of time required for a temperature adjusting process on decrease of throughput, and to provide a substrate processing apparatus which achieves temperature control accurately in a process unit for conducting a liquid process to the substrate.例文帳に追加

基板の温調処理に要する時間がスループットの低下に与える影響を極力減らすことができる基板処理装置及び基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

To decrease the number of processing times at high temperature (600°C or higher) to realize further low temperature processing (600°C or lower), realizing simplified process to improve throughput.例文帳に追加

高温（６００℃以上）の加熱処理回数を低減し、さらなる低温プロセス（６００℃以下）を実現するとともに、工程簡略化及びスループットの向上を実現することを課題とする。 - 特許庁

A control processing part of the multi-screen display 100 monitors the temperature of the respective LEDs 12 measured by the temperature sensors 13 and adjusts the common setting value so that the temperature does not exceed the highest allowable temperature.例文帳に追加

マルチ画面表示装置１００の制御処理部は、温度センサ１３が測定した各ＬＥＤ１２の温度を監視して、それらの温度が最大許容温度を超えないように共通設定値を調整する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which can increase the rate of temperature increase of a wafer, by suppressing overshoot of a temperature detected by a thermocouple inside a reaction tube, relative to the target temperature during the increase of the wafer temperature.例文帳に追加

ウエハ昇温時における反応管内の熱電対による検出温度が目標温度に対してオーバーシュートするのを抑制し、ウエハの昇温速度を向上させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The control means performs upper limit determination temperature adjustment processing for adjusting the upper limit determination temperature on the basis of a change in temperature detected by the temperature detecting means in the heat insulation mode.例文帳に追加

制御手段が、保温モードにおいて、上記温度検出手段で検出した温度の変化状態に基づいて、上限判定温度を調整する上限判定温度調整処理を行うように構成されている。 - 特許庁

An ECU reads in data Tf from a fuel temperature sensor detecting fuel temperature in a common rail (S2), performs a processing of calculating a fuel temperature weighting coefficient k from a weighting map (S3) and calculates a fuel temperature integration value (S4).例文帳に追加

ＥＣＵは、コモンレール内の燃温を検出する燃温センサからデータＴｆを読み込み（Ｓ２）、重み付けマップから燃温重み付け係数ｋを算出する処理を実行し（Ｓ３）、燃温積算値を算出する（Ｓ４）。 - 特許庁

To provide a photosensitive material processing device and a photosensitive material processing method for stably obtaining the performance of the photosensitive material without being influenced by ambient temperature as a processing device and a processing method using a coating means.例文帳に追加

塗布手段を用いた感光材料の処理装置及び処理方法において、環境温度に左右されず感光材料の性能を安定して得るための処理装置及び処理方法を提供する。 - 特許庁

To avoid very high processing temperature and difficult processing conditions as drawbacks of processing using thermoplastic materials, for example, high material viscosity and very high processing pressure limited thereby.例文帳に追加

熱可塑性材料を用いた加工の欠点である非常に高い加工温度と困難な加工条件、例えば高い材料粘度とそれにより制限される非常に高い加工圧力を回避する。 - 特許庁

The flow measuring processing part 22 acquires pressure data from the Pitot tube 21 arranged inside the piping 100, and a temperature measuring processing part 32 acquires temperature data from a temperature sensor 31 arranged inside the piping 100.例文帳に追加

流量計測処理部２２は、配管１００の内部に配置したピトー管２１により圧力データを取得し、また、温度計測処理部３２は配管１００の内部に配置した温度センサ３１により温度データを取得する。 - 特許庁

Especially, the image forming apparatus includes: an estimation means for estimating inside temperature of the image forming apparatus from the outside air temperature; and a selection means for selecting processing speed in accordance with the estimated inside temperature from the plurality of processing speeds.例文帳に追加

とりわけ、画像形成装置は、外気温度から画像形成装置の内部温度を推定する推定手段と、推定された内部温度に応じたプロセス速度を複数のプロセス速度から選択する選択手段とを含む。 - 特許庁

To achieve a signal processing for reducing the influence of environmental temperature, a signal processing for reducing the influence of the variation of light quantity of a light source, image correction processing, and the like.例文帳に追加

環境温度の影響を低減するための信号処理や、光源の光量変動の影響を低減するための信号処理や、画像補正処理などを、可能にする。 - 特許庁

In the heating processing step S16, a heating temperature of the heating processing is corrected based upon the lapse from the end of first exposure to the start of the heating processing.例文帳に追加

加熱処理工程Ｓ１６において、１回目の露光を終了してから加熱処理を開始するまでの経過時間に基づいて、加熱処理における加熱温度を補正する。 - 特許庁

To prevent thermal deformation of a processing machine at a low cost while suppressing the influence of an exterior temperature change of a cover surrounding the processing machine and improve machining accuracy of the processing machine.例文帳に追加

加工機械を取り囲むカバーの外部の温度変化の影響を抑制しつつ低コストで加工機械の熱変形を防止し、加工機械の加工精度を向上させる。 - 特許庁