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temperature processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2994件
Thus, temperature determining processing of the fixing apparatus is performed (S403).例文帳に追加
これにより、定着器の温度確定処理が行われる(S403)。 - 特許庁
THERMAL PROCESSING OF SUBSTRATE WITH PRE- AND POST-SPIKE TEMPERATURE CONTROL例文帳に追加
プレスパイクおよびポストスパイク温度制御をともなう基板の熱処理 - 特許庁
The workpiece temperature is maintained at a high value at the end of processing.例文帳に追加
工作物温度は、加工の終了時に高い値に維持される。 - 特許庁
The processing temperature is below the melting point of the fully fluorinated polymer.例文帳に追加
加工温度は完全にフッ素化したポリマーの融点未満である。 - 特許庁
METHACRYLIC RESIN COMPOSITION EXCELLENT IN LOW TEMPERATURE PROCESSING CHARACTERISTIC AND SCRATCH RESISTANCE例文帳に追加
低温加工特性、耐擦り傷性に優れるメタクリル系樹脂組成物 - 特許庁
The wafer is heated to a processing temperature and then maintained at or near the processing temperature with a coating of phosphoric acid on the wafer.例文帳に追加
ウエハを、処理温度まで加熱した後に、ウエハ上にリン酸を被覆した状態で、処理温度で又は処理温度付近で維持する。 - 特許庁
SUBSTRATE SURFACE TEMPERATURE MEASUREMENT METHOD, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
基板表面温度計測方法、及び、これを用いた基板処理装置 - 特許庁
To provide a technique related to temperature management in a data processing system.例文帳に追加
データ処理システム内の温度管理に関する技術を提供する。 - 特許庁
To provide an apparatus for controlling the temperature in a semiconductor processing system.例文帳に追加
半導体処理システム内の温度を制御する装置の提供。 - 特許庁
PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING TEMPERATURE例文帳に追加
プラズマ処理装置及び温度測定方法並びに温度測定装置 - 特許庁
CATALYST TEMPERATURE CONTROL METHOD IN DETOXIFICATION PROCESSING DEVICE FOR STERILIZATION GAS例文帳に追加
滅菌ガス無害化処理装置における触媒温度制御方法 - 特許庁
The substrate processing apparatus has a primary temperature sensor that is arranged outside a processing chamber and measures temperature of a heating means, a secondary temperature sensor that is arranged closer to the substrate than the primary temperature sensor and measures the temperature inside the processing chamber, and a control means that controls the heating means based on the measured temperatures of the primary and secondary temperature sensors.例文帳に追加
処理室外に配置され加熱手段の温度を測定する第1温度センサと、第1温度センサよりも基板近傍に配置され処理室内の温度を測定する第2温度センサと、第1及び第2温度センサの測定温度に基づき加熱手段を制御する制御手段とを備える。 - 特許庁
Since temperature rise of the radiation thermometer is prevented, the temperature in the processing chamber is measured adequately.例文帳に追加
放射温度計の温度上昇を防止できるので処理室内の温度を適正に測定できる。 - 特許庁
A controller receives information on the temperature of a processing solution from a temperature sensor after the end of night operation.例文帳に追加
制御部は、夜間運転終了後に温度検出センサから処理液の温度情報を取得する。 - 特許庁
For example, the processing part activates operation by audio input at low temperature when the ambient temperature is below a threshold.例文帳に追加
例えば周囲温度がしきい値以下となる低温時に音声入力による操作を有効にする。 - 特許庁
The temperature of the nonlinear optical crystal 1 is controlled to be constant by a temperature control means (laser device for processing).例文帳に追加
非線形光学結晶1の温度は、図示しない温度制御手段により一定に制御される。 - 特許庁
To provide an absorption chiller heater, which performs lowering processing of high-temperature regenerator temperature during heating operation.例文帳に追加
暖房運転時に高温再生器温度の下降処理を行う吸収式冷温水機を提供する。 - 特許庁
The control period update means 8 updates the control period of temperature correction processing according to the temperature level difference.例文帳に追加
制御周期更新手段8は温度レベル差に応じて温度補正処理の制御周期を更新する。 - 特許庁
METHOD FOR MEASURING TEMPERATURE OF HEATING PLATE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND COMPUTER PROGRAM FOR MEASURING TEMPERATURE OF HEATING PLATE例文帳に追加
加熱プレートの温度測定方法、基板処理装置及び加熱プレートの温度測定用のコンピュータプログラム - 特許庁
To eliminate temperature cycling, growth stops, and additional processing which are necessary to form a nuclear layer at a low temperature.例文帳に追加
低温核生成層に必要とされる温度サイクリング、成長停止、及び付加的な処理を排除する。 - 特許庁
The fuel consumption display device (a) comprises: a temperature sensor (exhaust gas temperature sensing means) 20; a data processing device (data processing means) 21 for processing the exhaust gas temperature sensed by the temperature sensor 20; and a display device 22 for displaying the fuel consumption state based on the data processed by the data processing device.例文帳に追加
温度センサー(排気ガス温度検出手段)20、温度センサー20により検出された排気ガス温度データを処理するデータ処理器(データ処理手段)21、データ処理器により処理されたデータに基づき燃費状態を表示する表示器22からなる燃費表示装置aとした。 - 特許庁
The processing circuit carries out first processing when the first temperature is lower than a first threshold value, and carries out processing different from the first processing when the first temperature is higher than the first threshold value.例文帳に追加
処理回路は、第1温度が第1しきい値未満である場合には、第1処理を実行し、第1温度が第1しきい値以上である場合には、第1処理とは異なる処理を実行する。 - 特許庁
The piping 21 passes through the inside of a processing liquid tank TA, so that the processing liquid flowing through the piping 21 is controlled in temperature by the processing liquid in the processing liquid tank TA.例文帳に追加
配管21は処理液タンクTA内を通過するので、配管21を流れる処理液は、処理液タンクTA内の処理液によって温調される。 - 特許庁
The softening temperature is lower than that of the core by 100-250°C, and the processing is performed at a temperature of 50-200°C higher than at the softening temperature of the core.例文帳に追加
軟化温度がコアの軟化温度より100から250℃低く、コアの軟化温度より50から200℃高い温度で処理される。 - 特許庁
Based on the temperature measured by the temperature measurement apparatus 10, a substrate processing apparatus adjusts the temperature of the substrate 9d to be processed.例文帳に追加
基板処理装置は温度測定装置10で測定した温度に基づいて処理対象基板9dの温度調整を行う。 - 特許庁
In an impurity activating thermal processing method, in an impurity activating thermal processing after an impurity introducing process with respect to a processing body is implemented, the temperature rises at a temperature rising speed from a first setting temperature T_1 to a second setting temperature T_2.例文帳に追加
不純物活性化熱処理方法は、被処理体に対して不純物導入工程を実施した後の不純物の活性化熱処理において、第1の設定温度T_1から第2の設定温度T_2まで、昇温速度で昇温する。 - 特許庁
The processing device for processing a substrate with processing solution comprises a chamber for processing the substrate with processing solution, and a Peltier element 13 for making the temperature of the substrate which is carried-in to be processed into the chamber lower than the temperature in the chamber.例文帳に追加
基板を処理液によって処理する処理装置であって、 基板を処理液によって処理するチャンバと、チャンバ内に搬入されて処理される基板の温度を、上記チャンバ内の温度よりも低くするペルチェ素子13を具備する。 - 特許庁
To provide a single wafer processing lamp heating arrangement with which a temperature of a wafer can correctly be controlled in a temperature region of a wide range from a low temperature region to a high temperature region.例文帳に追加
その目的は、低温領域から高温領域までの広範囲の温度領域で正確にウェーハの温度を制御することができる枚葉式ランプ加熱装置を得る。 - 特許庁
To provide a photographic processing device which is capable of performing a temperature adjusting operation by which the temperature of a processing solution is adjusted so as not to be lowered too much.例文帳に追加
本発明は、処理液の温度が低下し過ぎない温度調節の可能な温調運転ができる写真処理装置を提供する。 - 特許庁
To process high temperature workpieces discharged from plural processing machines in a first process by processing machines in a second process without lowering their temperature.例文帳に追加
前工程の複数の加工機より排出された高温のワークを、温度を低下させずに、後工程の加工機により加工しうるようにする。 - 特許庁
To obtain a temperature required for forced regeneration processing of a DPF.例文帳に追加
DPFの強制再生処理に必要な温度を得られるようにする。 - 特許庁
TEMPERATURE-CONTROLLED CHAMBER, AND VACUUM PROCESSING APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加
温度制御室、及びその温度制御室を用いた真空処理装置 - 特許庁
To solve a problem that there is a case where molding processing is performed at a high temperature and a novel polymer stabilizer being excellent in processing stability under a high temperature is required.例文帳に追加
成形加工を高温で行う場合があり、高温下での加工安定性に優れる新規なポリマー安定剤が求められている。 - 特許庁
To provide a plasma processing apparatus which can improve processing efficiency by accelerating temperature change of a wafer, thereby improving precision of temperature adjustment.例文帳に追加
ウエハの温度の変化を高速化し温度の調節の精度を向上して処理の効率を向上できるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
TEMPERATURE SETTING METHOD OF THERMAL PROCESSING PLATE, PROGRAM OF SAME METHOD, READABLE RECORDING MEDIUM BY COMPUTER HAVING RECORDED PROGRAM, AND TEMPERATURE SETTING APPARATUS OF THERMAL PROCESSING PLATE例文帳に追加
熱処理板の温度設定方法、プログラム、プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体及び熱処理板の温度設定装置 - 特許庁
Subsequently, the cooling medium temperature of the temperature controller is controlled so as to become the calculated optimum cooling medium temperature (S6) and the set value of cooling medium temperature is outputted to the temperature controller (S7) and the processing of steps S4-S7 is repeated until molding processing is completed.例文帳に追加
次いで、算出された最適冷媒温度となるように温調機の冷媒温度を制御し(S6)、温調機に対して冷媒温度の設定値を出力し(S7)、成形加工が終了するまでステップS4〜ステップS7の処理を繰返す。 - 特許庁
When resist correction processing is performed, on condition that a measured temperature is higher than a reference temperature by a set temperature or above (Yes in S2), the measured temperature when the resist correction processing is finished is stored as a reference temperature (S5).例文帳に追加
測定温度が基準温度に比べて設定温度以上高くなったことを条件に(S2のYes側),レジスト補正処理が実行された場合,該レジスト補正処理の実行終了時における測定温度を基準温度として記憶する(S5)。 - 特許庁
A temperature compensation processing section 40 directly applies digital signal processing to a digital modulation signal being an output of a modulation signal generating circuit 30 in response to a temperature detected by a temperature detector 10 to carry out temperature compensation.例文帳に追加
温度補償処理部40は、温度検出器10で検出した温度に応じて、変調信号生成回路30の出力であるデジタル変調信号を直接的にデジタル信号処理して温度補償を行う。 - 特許庁
The temperature control-processing unit 20 controls the heating current supplied to a heater 51 so that the obtained actual column temperature becomes the target temperature, indicated by a control-processing part 7, to adjust the temperature of the column.例文帳に追加
温度制御・処理ユニット20は、得られた実際のカラム温度が制御・処理部7から指示された目標温度になるようにヒータ51へ供給する加熱電流を制御することによりカラムを温調する。 - 特許庁
In inactive processing, as well as the charge processing, first temperature is checked and then full charge amount is corrected.例文帳に追加
休止処理では充電処理と同様に、温度チェックを行ってから満充電量修正を行う。 - 特許庁
To provide a jig cooling structure for a processing machine, capable of significantly restraining a temperature rise during processing.例文帳に追加
加工中の温度上昇を十分に抑えることができる加工機用治具の冷却構造の提供。 - 特許庁
To provide a substrate processing apparatus which is capable of controlling the temperature of a processing liquid accurately.例文帳に追加
処理液を精度良く温調することができる基板処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
When a rice cooking button is pressed, temperature sensor abnormality detecting processing is started simultaneously with rice cooking processing.例文帳に追加
炊飯ボタンが押下されると、炊飯処理と同時に、温度センサ異常検出処理が開始される。 - 特許庁
To execute temperature rise processing appropriate for an activity temperature after temperature change even when the activity temperature changes because of the use environment etc. of an exhaust gas purification device, in an exhaust gas purification system of an internal combustion engine which performs the temperature rise processing to raise the temperature of the exhaust gas purification device more than its activity temperature.例文帳に追加
本発明は、排気浄化装置の温度を活性温度以上まで昇温させる昇温処理を行う内燃機関の排気浄化システムにおいて、排気浄化装置の使用環境などによって活性温度が変化した場合であっても、変化後の活性温度に適した昇温処理を実行することを課題とする。 - 特許庁
To provide a processing device and a processing system, wherein the temperature of an object to be temperature adjusted is controlled uniformily, when the object is subjected to a prescribed processing.例文帳に追加
被処理体に所定の処理を施す際に、温度調節の対象となる被処理体等の温度を均一に制御することができる処理装置及び処理システムを提供する。 - 特許庁
The image forming apparatus is equipped with a target fixing temperature changing means for changing a target fixing temperature during fixing processing and a gray scale processing means for subjecting image information to gray scale processing.例文帳に追加
画像形成装置は、定着処理時の定着目標温度を変更する定着目標温度可変手段と、画像情報を階調処理する階調処理手段とを備える。 - 特許庁
Thereafter, a reaction tube of the thermal processing apparatus 101 has its internal temperature raised to baking temperature, to perform baking for predetermined time.例文帳に追加
ロード後、熱処理装置101の反応管内を焼成温度まで上昇させ、所定時間焼成させる。 - 特許庁
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