「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

Then, a raising temperature forecasting section 67 anticipates the raising temperature of the driver IC 52 when performing a printing processing to a following sheet of paper, then a resumption section 68 decides a resumption temperature Ton below a temperature which is an upper limit temperature Toff minus a raising temperature.例文帳に追加

その後、上昇温度予測部６７が、次の用紙に対して印刷処理を行ったときのドライバＩＣ５２の上昇温度を予測し、その後、再開部６８が、上限温度Ｔｏｆｆから上昇温度を引いた温度以下の再開温度Ｔｏｎを決定する。 - 特許庁

The information calculation processing part 3a determines a cooling standard temperature by adding the correction temperature to the cooling setting temperature, collates the cooling standard temperature with an indoor temperature and controls an air conditioner 1 on the basis of the collation result.例文帳に追加

情報演算処理部３ａは、冷房設定温度に補正温度を加算して冷房基準温度を求め、冷房基準温度と室内温度とを照合し、その照合結果に基づいて空調装置１を制御する。 - 特許庁

Subsequently, an external controller delivers a temperature correction value to a CPU 7 based on the output from a thermal head temperature measurement sensor 12 an ambient temperature sensor 13 in order to take account of temperature correction in the processing conditions.例文帳に追加

この後、外部制御装置６がサーマルヘッド温度計測センサー１２、周囲温度計測センサー１３からの出力にもとづき温度補正値をＣＰＵ７に送り、処理条件に温度補正を加味する。 - 特許庁

To provide an optical fiber temperature distribution measuring apparatus capable of simplifying temperature correction processing and improving correction accuracy.例文帳に追加

温度補正処理を簡略化するとともに補正精度の向上が図れる光ファイバ温度分布測定装置を提供すること。 - 特許庁

The pressure in the processing tank 2 is reduced by the pressure reducing means 3 until the temperature sensor 6 detects a cooling target temperature T1.例文帳に追加

温度センサ６が冷却目標温度Ｔ１を検出するまで、減圧手段３により処理槽２内を減圧する。 - 特許庁

This torque detector 10 comprises a torque sensor 12, a temperature characteristic setting part 13, a temperature sensor 14, a signal processing part 16 and the like.例文帳に追加

トルク検出装置１０は、トルクセンサ１２、温度特性設定部１３、温度センサ１４、信号処理部１６等を備えている。 - 特許庁

To provide a wafer processing apparatus capable of reliably contacting a temperature measuring means for measuring the temperature of a wafer to the wafer.例文帳に追加

ウエハの温度を測定するための温度測定手段を確実にウエハに接触させ得るウエハ処理装置を提供する。 - 特許庁

Brazing joint processing is executed by setting the brazing joint processing temperature of a constituent member such as a hydrogen permeable metal layer having hydrogen permeability at a processing temperature Tk satisfying T1>Tk>T2 when it is assumed that the recrystallization temperature of the hydrogen permeable metal layer is T1 and the upper limit temperature of a use environment of the hydrogen permeable metal layer is T2 lower than the recrystallization temperature T1.例文帳に追加

水素透過性を有する水素透過性金属層などの構成部材のロウ付け接合処理温度を、水素透過性金属層の再結晶化温度をＴ１とし、電池やモジュールの使用環境の上限温度を再結晶化温度Ｔ１より低いＴ２としたとき、Ｔ１＞Ｔｋ＞Ｔ２を満たす処理温度Ｔｋで実行することとした。 - 特許庁

To provide an image processor which can set a stand-by temperature with good energy efficiency and control the timing of the temperature control when the stand-by temperature is applied in a processing part including a drying part and a processing tank.例文帳に追加

乾燥部および処理槽を含む処理部においてスタンバイ温度を適用した場合に、エネルギー効率が良いスタンバイ温度の設定や温度調節のタイミング制御が可能な画像処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus capable of highly accurately measuring the temperature of a substrate or the like and capable of highly accurately and efficiently performing plasma processing of the substrate, and to provide a temperature measuring method and a temperature measuring apparatus.例文帳に追加

基板等の温度を精度良く測定することができ、より精度良くかつ効率良く基板のプラズマ処理を行うことのできるプラズマ処理装置及び温度測定方法並びに温度測定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus of high energy efficiency excellent in temperature control accuracy of object of temperature control, and a temperature controlling device used for this substrate processing apparatus.例文帳に追加

本発明は、エネルギー効率が高く且つ、温度制御対象の温度制御精度のより優れた基板処理装置、及びそのような基板処理装置に用いられる温度調節装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus, along with a method of controlling the same, for stabilizing wafer processing characteristics, by measuring the temperature of a plasma resistant wall material so as to carry out temperature control, even in such arrangement that the materials of the same quality are in a line without changing the plasma resistant wall material in a processing chamber of the plasma processing apparatus.例文帳に追加

プラズマ処理装置の処理室内の耐プラズマ壁材を変えず、同材質が並ぶ配置のままでも耐プラズマ壁材温度を測定し温度制御を行ってウェハ処理特性を安定化するプラズマ処理装置及び制御方法とする。 - 特許庁

In the second place, a correction of keeping a dimension in the reference temperature being the basis of determining accuracy of the work firmly in mind, is reflected on positioning of first processing from a linear expansion coefficient proper to a construction material of the processing work W, the length of the processing work and the temperature of the processing work.例文帳に追加

第２に、加工ワークＷの材質固有の線膨張係数と、加工ワークの長さ、加工ワークの温度から、ワークの精度判定の基礎となる基準温度における寸法を見据えた補正を、第１の加工時の位置決めに反映させる。 - 特許庁

The treating method comprises heating the same processing oil 4 as that used in processing the workpiece 12 to a temperature higher than the oil temperature during processing so as to lower the viscosity and bringing the heated processing oil 4 into contact with the workpiece 12 adhered with the processing oil during processing to lower the viscosity of the processing oil adhered to the workpiece 12 so as to reduce the amount of the processing oil adhered.例文帳に追加

被加工物12の加工作業に使用した加工油と同じ加工油4を、前記加工作業時の油温よりも高温に加熱して粘度を低下させ、この加熱した加工油4を、前記加工作業により加工油が付着した被加工物12に接触させることにより、被加工物12に付着している加工油の粘度を低下させ、その付着量を減少させる。 - 特許庁

When an alarm signal such as a temperature abnormality of the inside of the chamber 6 is detected, not only is temperature control is stopped but also normal temperature returning processing is carried out automatically.例文帳に追加

チャンバ内部の温度異常などのアラーム信号が検出された場合に、温度制御を単に停止させるのみでなく、自動的に常温復帰処理を行う。 - 特許庁

A filter unit 543 is provided to perform signal filtering before input of the temperature information detected by the temperature sensor 40 in the temperature control processing unit 55.例文帳に追加

温度センサ４０で検出された温度情報が温度制御処理部５５に入力されるまでの間に、信号のフィルタリングを行うフィルタ部５４３が設けられている。 - 特許庁

After that, the processing process S114 including heating and tension impression is performed, in which tension impression is made by letting the temperature reach a second temperature not exceeding the first temperature.例文帳に追加

その後に、第１の温度を超えない第２の温度に到達させながら張力を印加する、加熱および張力印加を伴う処理工程Ｓ１１４等が行われる。 - 特許庁

This temperature measuring apparatus is provided with an infrared-type temperature measurement unit 6 for measuring the temperature of a board 10 in a predetermined processing tank.例文帳に追加

本発明の温度測定装置は、所定の処理槽内における基板１０の温度を測定する赤外線型温度測定ユニット６を備えた温度測定装置である。 - 特許庁

A portable information processing device 16 acquires the predicted highest temperature from a server 20, and compares the predicted highest temperature with a preliminarily set comfortable temperature at a predetermined time.例文帳に追加

携帯型情報処理装置１６は、サーバ２０から予想最高気温を取得し、その予想最高気温と予め設定された快適温度とを所定の時間に比較する。 - 特許庁

In the operation processing part 7, operation expressions for calculating the air flow rates on the higher temperature side and on the lower temperature side, compared with a prescribed boundary temperature, are set to be different respectively.例文帳に追加

演算処理部７では、空気流量を算出する演算式が所定の境界温度より高温側と低温側とでそれぞれ異なるように設定されている。 - 特許庁

In the exhaust gas purification system of the internal combustion engine which performs the temperature rise processing to raise the temperature of the exhaust gas purification device disposed in an exhaust passage of the internal combustion engine more than its activity temperature, when the activity temperature of the exhaust gas purification device changes from the initial value, the value of a temperature parameter used for executing the temperature rise processing is changed according to the activity temperature after the change.例文帳に追加

本発明は、内燃機関の排気通路に配置された排気浄化装置を活性温度以上に昇温させる昇温処理を行う内燃機関の排気浄化システムにおいて、排気浄化装置の活性温度が初期値から変化した場合に、変化後の活性温度に応じて昇温処理実行時に用いられる温度パラメータの値を変更するようにした。 - 特許庁

REFRACTORY WITH VENT HOLES FOR GLASS SECONDARY PROCESSING AT ELEVATED TEMPERATURE, AND GAS PERMEABLE VESSEL例文帳に追加

高温でのガラス二次成形のための通気孔を持つ耐火物および通気性容器 - 特許庁

To suppress unevenness of exposure due to temperature quenching characteristics while sustaining a high processing capacity.例文帳に追加

高い処理能力を維持しつつ、温度消光特性に起因した露光ムラを抑制する。 - 特許庁

CONTINUOUS MANUFACTURE OF HIGH INTERNAL PHASE RATIO EMULSION USING RELATIVELY LOW-SHEAR AND LOW-TEMPERATURE PROCESSING STEP例文帳に追加

比較的低剪断・低温加工段階を用いた高内相比エマルジョンの連続製造 - 特許庁

To obtain a polyester decorative material having flexibility and permitting a processing for a curved surface at ordinary temperature.例文帳に追加

フレキシビリティがあり、常温において曲面加工が可能なポリエステル化粧材を得る。 - 特許庁

A heating temperature of PEB processing is corrected using expression (2) ΔT=1/α×F-1(ΔXt-ΔX1) (steps S7, S8).例文帳に追加

下記式（２）を用いてＰＥＢ処理の加熱温度を補正する（ステップＳ７、Ｓ８）。 - 特許庁

An information processing device according to one embodiment includes a temperature sensor, a power supply circuit and a control section.例文帳に追加

実施形態の情報処理装置は、温度センサと、電源回路と、制御部とを備える。 - 特許庁

Therefore, dependence on temperature of etching rate can be utilized without remarkable increase of the processing time.例文帳に追加

したがって、処理時間をあまり増加させずにエッチングレートの温度依存性を利用できる。 - 特許庁

To restrain reduction in throughput of vacuum processing by temperature leveling without enlarging a device.例文帳に追加

装置を大型化することなく、温度ならしによる真空処理のスループット低下を抑える。 - 特許庁

LOCAL TEMPERATURE ADJUSTING DEVICE, SHORT-SUNSHINE LOCAL NIGHT-COOLING PROCESSING SYSTEM, AND STRAWBERRY CULTIVATION SYSTEM例文帳に追加

局所温度調節装置、短日局所夜冷処理システム及びイチゴ栽培システム - 特許庁

METHOD OF REDUCING TEMPERATURE OF SUBSTRATE PLACING TABLE, COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM, AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

基板載置台の降温方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体および基板処理システム - 特許庁

TEMPERATURE ADJUSTMENT CONTROLLER FOR A PLURALITY OF TARGETS AND SUBSTRATE PROCESSING EQUIPMENT COMPRISING THE CONTROLLER例文帳に追加

複数ターゲット用の温度調節コントローラ及び同コントローラを備えた基板処理装置 - 特許庁

To improve the quality of plasma processing by correctly measuring the surface temperature of an electrode plate.例文帳に追加

電極板の表面温度を正確に測定して、プラズマ処理の品質を向上させる。 - 特許庁

To execute appropriate white balance processing even at an illumination condition of an extreme color temperature.例文帳に追加

極端な色温度の照明条件であっても適切なホワイトバランス処理を行う。 - 特許庁

To perform temperature control for multiple substrate processing sections in a plant on a space-saving and energy-saving basis.例文帳に追加

工場内の複数の基板処理部の温度調節を，省スペース，省エネルギで行う。 - 特許庁

To accurately calibrate a probe for measuring the temperature of a substrate in a substrate processing chamber.例文帳に追加

基板処理チャンバ中の基板の温度を測定するためのプローブを正確に較正する。 - 特許庁

Exhaust gas 14a lowered with the temperature is exhaust gas processed by a collection-ash processing apparatus 19.例文帳に追加

低温になった排気ガス（１４ａ）は集塵・灰処理装置（１９）で排ガス処理される。 - 特許庁

To obtain a high-quality poly-Si film and MOS interface at a low processing temperature.例文帳に追加

低いプロセス温度で高品質のｐｏｌｙ−Ｓｉ膜およびＭＯＳ界面を得る。 - 特許庁

To provide a high-quality polysilicon film and high-performance transistor at a low processing temperature.例文帳に追加

低いプロセス温度で高品質のポリシリコン膜及び高性能トランジスタを提供する。 - 特許庁

TEMPERATURE REGULATING METHOD FOR LASER LIGHT SCANNER, LASER LIGHT SCANNER, AND PHOTOGRAPHIC PROCESSING DEVICE例文帳に追加

レーザ光走査装置の温度調節方法、レーザ光走査装置、及び写真処理装置 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR ADJUSTING TEMPERATURE OF PROCESSING SOLUTION IN AUTOMATIC DEVELOPING SYSTEM例文帳に追加

自動現像システムの処理液温度調整装置及びその処理液温度調整方法 - 特許庁

To provide a temperature compensating device of a terminal block capable of executing low-cost, high-accuracy and high-speed processing.例文帳に追加

低コスト、高精度、高速処理が出来る端子台の温度補償装置を提供する。 - 特許庁

Thus, extremely stable currents can be generated (concerning a temperature and IC processing).例文帳に追加

これにより、（温度とＩＣ処理に関して）非常に安定した出力電流を作り出す。 - 特許庁

The low temperature heat treatment is preferably conducted by batch processing in a state that the foil is coiled.例文帳に追加

前記低温熱処理は箔をコイルに巻いた状態でバッチ処理することが好ましい。 - 特許庁

In this case, since regeneration processing is performed by a plurality of regeneration steps different in regeneration processing temperature selected depending on the exhaust-temperature-related parameter and a regeneration elapsed time, one of the plurality of steps is selected to change the regeneration processing temperature.例文帳に追加

この場合に、再生処理は、排気温度関連パラメータ及び再生経過時間により選択される再生処理温度が異なる複数の再生ステップにより行うので、再生処理温度を変化させるために、前記複数の再生ステップの中から１つを選択する。 - 特許庁