「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

As the temperatures in the chamber fluxuate between a processing temperature and a downtime temperature, the shields may expand and contract.例文帳に追加

チャンバ内の温度は処理温度とダウンタイム温度の間で変動するため、シールドは膨張及び収縮する。 - 特許庁

A coil temperature estimating means estimates the temperature of the coil while controlling the electromagnetic actuator while processing a feedforward control.例文帳に追加

また、コイル温度推定手段は、電磁アクチュエータをフィードフォワード制御する間に、コイルの温度を推定する。 - 特許庁

The control circuit 22 is equipped with a temperature correcting arithmetic processing part 28, an instrumental error correcting arithmetic processing part 30, and a remote control processing part 32.例文帳に追加

制御回路２２は、温度補正演算処理部２８と、器差補正演算処理部３０と、リモコン処理部３２とが実装されている。 - 特許庁

To properly control the temperature of processing solution stored in tanks.例文帳に追加

タンタ内に収容した処理液の温度を適切に管理できるようにする。 - 特許庁

SUBSTRATE PLACING TABLE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND TEMPERATURE CONTROL METHOD FOR SUBSTRATE TO BE PROCESSED例文帳に追加

基板載置台、基板処理装置及び被処理基板の温度制御方法 - 特許庁

To prevent the temperature reduction of an expansion member for retaining an airtightness of a processing chamber.例文帳に追加

処理室の気密を保持する伸縮部材の温度低下を防止する。 - 特許庁

To provide an inexpensive thermal processing device free from irregularities in processing even in the case an in-machine temperature is changed due to an environmental temperature change, etc., and capable of facilitating the maintenance.例文帳に追加

環境温度変化等により機内温度が変化しても処理ムラの生じない、メンテナンスのし易い、コスト安の熱処理装置を提供する。 - 特許庁

Further, the hydrogen releasing processing is performed at a temperature of ≥200°C and ≤350°C.例文帳に追加

また、水素放出処理を２００℃以上３５０℃以下の温度下で行う。 - 特許庁

To provide a plasma processing method which controls the distribution of a temperature on the face of a stage, uniforms the temperature of a substrate and performs a highly precise plasma processing.例文帳に追加

ステージの面上の温度分布を制御して基板の温度の均一化を図り、精度の良いプラズマ処理を行えるプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

The stage 11 is so worked at room temperature as to keep the flatness at the plasma processing by supporting the deformation at the temperature at which the apparatus is used for the plasma processing.例文帳に追加

ステージ１１を、プラズマ処理時の装置使用温度での変形を想定しプラズマ処理時に平坦面を確保するように、常温で加工する。 - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING POLYMERIC POSITIVE TEMPERATURE COEFFICIENT CONDUCTIVE MATERIAL例文帳に追加

ポリマー性で正の温度係数の伝導性物質をプロセシングするための方法 - 特許庁

To provide a system for processing substrate in which temperature control of units for processing substrates in the vicinity of normal temperature can be performed precisely.例文帳に追加

常温付近で基板に対して処理を行うための処理ユニットにおける温度制御を精密に行うことができる基板処理装置の提供。 - 特許庁

To provide a temperature control mechanism capable of performing the temperature control of a chamber wall or the like of a processing device with high accuracy, and to provide a processing device using the same.例文帳に追加

処理装置のチャンバ壁等の温度制御を高精度で行うことができる温度制御機構およびそれを用いた処理装置を提供すること。 - 特許庁

To precisely detect a temperature by simple processing.例文帳に追加

本発明は、簡易な処理によって高精度に温度を検出できるようにする。 - 特許庁

The second operation processing section 36g executes the uneven temperature eliminating operation.例文帳に追加

第２運転処理部３６ｇは、当該温度ムラ解消運転を実行する。 - 特許庁

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND TEMPERATURE CONTROLLING METHOD例文帳に追加

基板処理装置および半導体装置の製造方法、温度制御方法 - 特許庁

A melt viscosity of the first hot-melt resin at its processing temperature is higher than a melt viscosity of the second hot-melt resin at its processing temperature.例文帳に追加

この際、第１のホットメルト樹脂の処理温度における溶融粘性率が第２のホットメルト樹脂の処理温度における溶融粘性率より高い。 - 特許庁

SUBSTRATE HOLDING DEVICE, SUBSTRATE HOLDER, VACUUM PROCESSING DEVICE AND TEMPERATURE CONTROL METHOD FOR SUBSTRATE例文帳に追加

基板保持装置、基板ホルダ、真空処理装置、基板の温度制御方法 - 特許庁

AUTOMATIC DEVELOPING DEVICE FOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL HAVING PROCESSING LIQUID TEMPERATURE CONTROL MEANS例文帳に追加

処理液温度制御手段を有する感光材料用自動現像装置 - 特許庁

Through this processing, it becomes possible to store sake for a long period at a natural temperature. 例文帳に追加

これにより酒は常温においても長期間の貯蔵が可能になる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The above mentioned processing is repeated until a decided temperature θn is displayed.例文帳に追加

この処理を確定した温度データθｎが表示されるまで繰り返す。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of controlling temperature of a processing liquid in a reservoir tank at a low cost.例文帳に追加

低コストで貯留槽内の処理液の温度を調整することが可能な基板処理装置を提供する。 - 特許庁

A substrate is washed in a processing solution with an ultrasonic wave while the temperature of the processing solution is ≤18°C.例文帳に追加

処理溶液の温度が１８℃以下である状態で、処理溶液内で基板の超音波洗浄が行われる。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus suppressing variation in temperature of a liquid used for processing an object to be processed.例文帳に追加

被処理体の処理に用いられる液の温度変動を抑制することができる液処理装置を提供する。 - 特許庁

To reduce damages to a substrate or the like when processing the substrate utilizing plasma and to lower a substrate processing temperature.例文帳に追加

プラズマを利用して基板を処理する際に基板等へのダメージを小さくし、しかも基板処理温度を低くする。 - 特許庁

To provide a processing liquid supply device which can supply processing liquid, whose temperature is made sufficiently uniform.例文帳に追加

温度が十分に均一化された処理液を供給することができる処理液供給装置を提供する。 - 特許庁

When temperature abnormality is canceled during recording processing, broadcast contents are played back by time-shift playback processing.例文帳に追加

録画処理中に温度異常が解消した場合には，タイムシフト再生処理により放送コンテンツの再生を行う。 - 特許庁

To provide a food processing machine preventing a worker from touching a high-temperature processing vessel wall and getting burned.例文帳に追加

高温の処理槽壁へ作業者が触れることで火傷してしまうことを防止する食品機械の提供。 - 特許庁

Therefore, ununiform processing due to temperature change can be prevented, resulting in improved uniformity of processing.例文帳に追加

このため温度変化が原因となる処理ムラの発生が抑えられ、処理の均一性の向上を図ることができる。 - 特許庁

The data processing system may further include a second sensor that determines an actual temperature of a component of the data processing system.例文帳に追加

一例では、データ処理システムは、データ処理システムのコンポーネントの実温度を判断する第２のセンサを更に含む。 - 特許庁

To efficiently cool signal processing parts for processing input image signals, without using a temperature sensor.例文帳に追加

温度センサを用いることなく、入力された画像信号を処理する信号処理部を効率の良く冷却する。 - 特許庁

To exactly and suitably estimate temperature of a processing target without directly arranging a sensor on the processing target.例文帳に追加

処理対象にセンサを直接配置しなくとも、処理対象の温度を適切、正確に推定できるようにする。 - 特許庁

To determine the leakage of a fuel processing device while the temperature of the fuel processing device is lowered.例文帳に追加

燃料処理装置の温度が低下している途中に、燃料処理装置の漏洩を判定することである。 - 特許庁

To provide a temperature regulator that can shorten the temperature raising time and temperature lowering time by means of thermal treatment equipment, and to provide a temperature regulation system and a substrate processing apparatus equipped with the system.例文帳に追加

熱処理装置による昇温時間および降温時間を短縮することができる温度調整器、温度調整システムおよびそれを備えた基板処理装置を提供する。 - 特許庁

In this case, the CPU 10 causes a temperature sensor 12 to monitor the temperature of a drive and when the drive is brought into a low temperature state less than a specified temperature, the CPU 10 inhibits the alternate processing.例文帳に追加

このとき、ＣＰＵ１０は、温度センサ１２によりドライブの温度を監視し、当該温度が規定値未満の低温状態の場合には、ＣＰＵ１０は代替処理を禁止する。 - 特許庁

A load cell unit 420 includes the first temperature sensor 428 measuring the temperature of a load cell 429 and the second temperature sensor 427a measuring the temperature of a weight signal processing substrate 427.例文帳に追加

ロードセルユニット４２０は、ロードセル４２９の温度を計測する第１温度センサ４２８と、計量信号処理基板４２７の温度を計測する第２温度センサ４２７ａとを有する。 - 特許庁

The temperature of SCCO_2 passing a filter FF prepared in a high pressure piping 26 is raised by a temperature controller TC1 to a filtration temperature T2 higher than a processing temperature T1.例文帳に追加

高圧配管２６に設けられたフィルタＦＦを通過するＳＣＣＯ_２の温度を温度調節部ＴＣ１により処理温度Ｔ１より高い濾過温度Ｔ２に上昇させる。 - 特許庁

In the processing method for a silver halide photographic material, when the material is repeatedly passed in a processing solution at a temperature suitable for processing, it expends most of the processing time at the outside of the processing solution and the viscosity of the processing solution at the processing temperature is in the range of 0.7-5 cP.例文帳に追加

ハロゲン化銀写真材料を処理に適した温度の処理液内に繰り返し通す際、該材料がその処理時間の大部分を処理液外で費やし、そして該処理液の処理温度における粘度が０．７〜５ cPの範囲内にあることを特徴とするハロゲン化銀写真材料の処理方法。 - 特許庁

While the surface temperature of the semiconductor wafer is kept at an almost constant processing temperature T2, also a temperature at a position slightly deeper from the surface is raised by some extent.例文帳に追加

半導体ウェハーの表面温度を概ね一定の処理温度Ｔ２に維持しつつも、表面よりやや深い位置をもある程度昇温することができる。 - 特許庁

To improve accuracy of temperature control for temperature management object or temperature control unit without alteration of control constant in a substrate processing apparatus.例文帳に追加

基板処理装置において、制御定数を変更することなく温度管理対象または温度調節部に対する温度制御の精度を向上する。 - 特許庁

To provide a temperature measuring apparatus for performing a cheap temperature measurement with a high accuracy, and a placement table structure and a thermal processing apparatus using the temperature measuring apparatus.例文帳に追加

安価で且つ精度の高い温度測定を行うことが可能な温度測定装置、これを用いた載置台構造及び熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a temperature measuring device and a temperature measuring method that can simultaneously measuring temperatures of temperature measurement objects in a plurality of processing chambers.例文帳に追加

複数の処理チャンバー内の温度測定対象物の温度を同時に測定することのできる温度測定装置及び温度測定方法を提供する。 - 特許庁

A part of a first flow passage 16 which circulates a first temperature controlling fluid 15 for controlling temperature of an object of temperature control passes trough a substrate processing part.例文帳に追加

温度調節対象の温度を調節する第１の温調流体１５を循環させる第１の流路１６の一部は基板処理部を通る。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of securing uniformity of processing in a substrate surface and between substrates even in the case of processing at a high temperature.例文帳に追加

高温度の処理でも基板面内および基板相互間の処理均一性を確保することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device where a substrate temperature in the middle of a processing can precisely and easily be measured, and a temperature control mechanism can precisely be controlled on the basis of a measured temperature thus obtained.例文帳に追加

処理中の基板温度を正確かつ簡便に測定することができ、得られた測定温度に基づいて正確な温調機構の制御を行うことができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁