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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > temperature processingに関連した英語例文

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temperature processingの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2994



例文

A thermal processing step of forming new vacancies in a silicon wafer W by thermally processing it in an atmospheric gas G is provided, and the atmospheric gas in the thermal processing step contains a nitrided gas, having a decomposition temperature which is lower than the temperature at which N_2 can be decomposed.例文帳に追加

雰囲気ガスG中でシリコンウェーハWを熱処理して内部に新たに空孔を形成する熱処理工程を有し、該熱処理工程の前記雰囲気ガスは、N_2 が分解可能な温度よりも低い分解温度の窒化ガスを含む。 - 特許庁

With this setup, the wafer W is transferred to the application unit C, accurately keeping it at a certain temperature, and then a resist liquid is applied on the wafer W, so that unevenness of processing caused by a temperature changed of the wafer W can be restrained, and a substrate processing device can be improved in processing uniformity.例文帳に追加

これによりウエハWは温度を高精度に維持した状態で塗布ユニットCに搬送され、レジスト液が塗布されるので、温度変化が原因となる処理ムラの発生が抑えられ、処理の均一性の向上を図ることができる。 - 特許庁

To provide a photographic processing device which is capable of urging an operator to make the measurement of a supply rate of a replenishing liquid and the correction of a processing liquid temperature when the specifications of the processing liquid are changed.例文帳に追加

処理液の仕様を変更した場合に、オペレータに補充液の供給量の測定乃至処理液温度の補正を促すことの出来る写真処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide equipment and a method for processing a substrate in which poor processing of a substrate resulting from temperature drop of processing liquid being supplied from a nozzle to a substrate can be prevented sufficiently.例文帳に追加

ノズルから基板に供給される処理液の温度低下に起因する基板の処理不良を十分に防止できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

例文

To enhance the washing effect to a substrate or the processing effect of etching rate, etc., by suppressing the temperature drop of treatment liquid, when the substrate is carried into a substrate processing part such as a processing vessel or the like.例文帳に追加

基板が処理槽などの基板処理部へ搬入された際に、処理液の温度低下を抑制させて、基板に対する洗浄効果やエッチングレート等の処理効果を向上させる。 - 特許庁


例文

To provide a technology capable of shortening its processing time, while serving as baking processing and low temperature annealing processing, in a method for manufacturing a spring of painting a surface.例文帳に追加

表面が塗装されたばねを製造する方法において、焼付け処理と低温焼鈍処理とを兼ねながら、その処理時間を短縮することができる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a thermal processing apparatus that speedily cools a substrate after thermal processing with simple constitution and keeps constant a temperature history of the substrate in the thermal processing.例文帳に追加

簡易な構成にて加熱処理後の基板を迅速に冷却することができ、しかも熱処理時の基板の温度履歴を一定に維持することができる熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device and a substrate processing method which can inject liquid drips having a desired temperature on the substrate surface and can improve the substrate processing efficiency thereby.例文帳に追加

所望の温度の液滴を基板表面に噴射することができ、これにより基板処理効率を高めることができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method useful for controlling the physical properties of a ceramic layer, lowering the processing temperature, shortening the processing time and controlling the distribution of cermet concentration on an interface in the direct modification of a metal surface into the cermet.例文帳に追加

金属表面の直接改質サーメット化加工におけるセラミックス層の物性制御、加工温度の低下、加工時間の短縮と界面でのサーメット濃度分布の制御。 - 特許庁

例文

In a second process, the processing object is put in a processing container and heated up to the predetermined specified in-plane temperature distribution, and normal plasma processing is carried out.例文帳に追加

載置台に第二の工程では処理容器に処理対象物を入れ、処理対象物を予め定められた特定の面内温度分布まで加熱した後、通常のプラズマ処理を行う。 - 特許庁

例文

In Step S7 of a flowchart indicating a processing procedure of the temperature rise control to warm-up the automatic transmission 3 of the vehicle drive system, when an oil temperature Tb to be a temperature of the automatic transmission 3 reaches a predetermined temperature rise control termination temperature Tb, the warm-up operation is terminated and switched to normal operation.例文帳に追加

車両駆動系の自動変速機3を暖機運転する昇温制御の処理手順を示すフローチャートのステップS7において、自動変速機3の温度になる油温Tbが所定の昇温制御終了温度Tbに達すると前記暖機運転を終了して通常運転に切り替える。 - 特許庁

The metal layer 4b can be provided at a low temperature and scattering matters accompanied by high-temperature processing can be suppressed, reducing objects sticking to the surface of the light-transmitting member.例文帳に追加

金属層4bを低温で被着でき、高温処理に伴う飛散物を少なくできるので、透光性部材表面の付着物を少なくできる。 - 特許庁

The fiberboard excellent in bending performance and dimensional stability in the length direction is obtained by simple processing with such high-temperature water or room-temperature water before steaming.例文帳に追加

このような高温水や常温水による蒸煮前の簡易な処理により、曲げ性能と長さ方向の寸法安定性能に優れた繊維板が得られる。 - 特許庁

A temperature sensor 6 detects a temperature of the easily-cooled foodstuff 12 or an easily-cooled part of the foodstuff received in the processing tank 2.例文帳に追加

温度センサ6は、処理槽2内に収容される食材の内、冷却され易い食材12または冷却され易い箇所の温度を検出する。 - 特許庁

After completion of generating processing for a reset signal and clock signal during a period T1, a reset state is kept until an internal temperature reaches a temperature B.例文帳に追加

期間T1においてリセット信号およびクロック信号の生成処理が完了した後に、内部温度が温度Bへ到達するまでリセット状態を保つ。 - 特許庁

Trimming processing is carried out in one or a small number of pressure sensors W, in the ambient temperature trimming device 2 and the high temperature trimming device 4.例文帳に追加

そして、室温トリミング装置2及び高温トリミング装置4においては、1つ又は少数の圧力センサWに対してトリミング処理を行うようにしている。 - 特許庁

A data processing device detects the temperature of a polished portion during polishing and detects a predetermined physical quantity other than temperature which is related to the rate of polishing (S1).例文帳に追加

研磨中における研磨部分の温度を検出すると共に、温度以外の、研磨レートと関係のある所定の物理量を検出する(ステップS1)。 - 特許庁

To provide a low-temperature steam cooker which carries out uniform treatment of a number of processing objects, attempting generation of low-temperature steam and homogeneous diffusion in the steaming treatment chamber.例文帳に追加

低温蒸気の生成とその蒸し処理室内の均質拡散を図って、多数の処理対象物を均等処理する低温蒸し器を提供する。 - 特許庁

To stably and efficiently generate vapor of a temperature suitable for a processing temperature which contains no liquid component, while shortening the generation time of vapor.例文帳に追加

蒸気の生成時間の短縮が図れると共に、液分を含まない処理温度に適した温度の蒸気を安定かつ効率良く生成すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor processing device which is capable of keeping a substrate support uniform in temperature distribution and of detecting the temperature of the substrate support with high accuracy.例文帳に追加

基板支持体の温度分布を均一にすることができ、かつ正確に温度を検出することができる半導体処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a heat treatment apparatus in which the temperature in a processing container can be converged to a target temperature with high accuracy while reducing the convergence time.例文帳に追加

処理容器内の温度を精度良く目標温度まで収束させ、かつ収束時間を短縮することができる熱処理装置を提供する。 - 特許庁

Picture conversion processing for deleting the heat source whose temperature is not less than the prescribed threshold temperature is executed to the heat source in the image pickup picture in a step S6.例文帳に追加

ステップS6では、撮像画像中の熱源に対して所定しきい値温度以上の熱源を削除する画像変換処理を実行する。 - 特許庁

This processing solution heating device 8 is equipped with the heater 41, and the linear protection tube 42 inside which a temperature fuse 43 functioning as the temperature detection part is disposed.例文帳に追加

処理液加熱装置8は、ヒータ41と、その内部に温度検出部としての温度ヒューズ43が配設された直線状の保護管42とを備える。 - 特許庁

The notification portion 42 outputs an error signal to the image processing apparatus 13 if the temperature around the logarithmic transformation type image pickup device 22 exceeds the permissible temperature.例文帳に追加

通知部42は、対数変換型撮像素子22の周囲の温度が許容温度を超えている場合、画像処理装置13にエラー信号を出力する。 - 特許庁

To perform an accurate white balance processing when a face is detected, without erroneously recognizing a human skin color in a high color temperature as white in a low color temperature.例文帳に追加

顔検出時に高色温度下の肌色を低色温度下の白色と誤認識することなく、正確なホワイトバランス処理を行うことを可能にする。 - 特許庁

Meanwhile, when the panel temperature is >0°C (NO) in the step S102, processing advances to a step S106 and a black display insertion rate is set in accordance with the panel temperature.例文帳に追加

一方、ステップS102にて、パネル温度が0℃より高ければ(NO)、ステップS106に進み、パネル温度に応じて黒表示挿入率を設定処理する。 - 特許庁

To miniaturize a construction concerned with the measurement and accurately measure a flow rate and temperature, by simplifying signal processing for flow rate and temperature measurement.例文帳に追加

流量測定および温度測定の信号処理を簡素化し、測定に係る構成の小型化を図り、流量と温度とを正確に測定する。 - 特許庁

The device is provided with the temperature sensor 56 for detecting the temperature T in the power control unit 42 and inputting the detected signal to the central processing unit 39.例文帳に追加

パワー制御部42の温度Tを検出してその検出信号を中央処理装置39に入力させる温度センサー56を設ける。 - 特許庁

The electronic still camera 100 conducts white balance correction processing corresponding respectively to the reference color temperature and 1st and 2nd shift color temperatures different from the reference color temperature.例文帳に追加

電子スチルカメラ100は基準色温度および基準色温度と異なる第1、第2シフト色温度にそれぞれ対応したホワイトバランス補正処理を行う。 - 特許庁

To provide a variable nozzle control device of a turbocharger capable of performing proper processing at failure by detecting the failure of a temperature sensor for measuring a temperature.例文帳に追加

温度を計測する温度センサの故障を検知して、適切な故障時の処理を実施することができるターボチャージャーの可変ノズル制御装置を提供する。 - 特許庁

In that case, the recovery processing is performed provided that the recording head temperature which rises owing to the preliminary discharge of the recording head is below a predetermined temperature.例文帳に追加

その際に、記録ヘッドの予備吐出によって上昇する記録ヘッドの温度が所定温度以下であることを条件として、回復処理を行う。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which enables accurate and easy control of the temperature of a substrate even if a plurality of heaters have effects on a plurality of temperature meters.例文帳に追加

複数の発熱体の複数の温度測定器に対する影響があっても、基板の温度を正確かつ容易に制御することを可能にする。 - 特許庁

To provide: a semiconductor substrate processing device improved in a temperature transition characteristic in raising/lowering the temperature of the semiconductor substrate, and temperature uniformity in a substrate surface; and a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体基板の昇降温時の温度過渡特性および、基板面内の温度均一性を向上させた半導体基板処理装置および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

When the detection temperature of the temperature sensor 12 becomes equal to or higher than the preset temperature, an interpolation processing part 8 interpolates an actual acceleration on the basis of low acceleration determined by an acceleration determining part 10.例文帳に追加

温度センサ12の検出温度が予め設定した温度以上になるときには、加速度決定部10が決定した軽加速度に基づいて、補間処理部8が実際の加速度を補間する。 - 特許庁

The electronic cooler having a detecting means for cooling temperature is characterized by having an arithmetic processing means to judge the operating condition of the cooler from the cooling temperature and the ambient temperature.例文帳に追加

冷却温度の検出手段を有する電子冷却器であって、該冷却温度および周囲温度から該冷却器の作動状態を判断する演算処理手段を有することを特徴とする。 - 特許庁

The heat source decision part of the heat source decision part 320 decides whether or not the factor of the abnormal high temperature lies in a main processing part 330 based on the change over time of the temperature acquired by the temperature measurement part.例文帳に追加

熱源判定装置320の熱源判定部は、温度測定部が取得する温度の経時変化に基づき、異常高温の原因が主処理部330にあるか否かを判定する。 - 特許庁

The power supply control part of the heat source decision device 320 stops power supply to the main processing part 330 when the temperature acquired by the temperature measurement part is decided to be an abnormal high temperature.例文帳に追加

熱源判定装置320の電力供給制御部は、温度測定部が取得した温度が、異常高温であると判定したときは、主処理部330への電力供給を停止する。 - 特許庁

To provide a heating processing apparatus that can start heating a matter to be heated, without raising the temperature of a heating chamber.例文帳に追加

加熱室を昇温することなく被加熱物の加熱を開始できる加熱処理装置を提供する。 - 特許庁

FLEXIBLE COMPOSITE MATERIAL WITH INTEGRAL FLIGHT USED FOR HIGH TEMPERATURE FOOD PROCESSING EQUIPMENT, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

高温食品加工機器に用いられる一体フライト付きの可撓性複合材及びその製造方法 - 特許庁

To avoid the deterioration of the performance of vibration reducing control processing due to the abnormality of a temperature sensor.例文帳に追加

温度センサの異常によって振動低減制御処理の処理性能が低下することを回避する。 - 特許庁

To provide a semiconductor element manufacturing device and a method by which a MOS interface of high quality can be formed at a low processing temperature.例文帳に追加

低いプロセス温度で高品質のMOS界面を形成可能な製造装置および製造方法。 - 特許庁

In such a manner, failure due to temperature variation is removed and making the effect possible the proper exposure processing is obtained.例文帳に追加

これにより、温度変化による不具合を無くし、適切な露光処理が可能となる効果がある。 - 特許庁

In first arithmetic processing, temperature distributions inside the first member and the second member are computed.例文帳に追加

第1の演算処理では、第1の部材および第2の部材の部材内部の温度分布を演算する。 - 特許庁

To reduce the amount of a processing gas component attached to a discharging electrode unit that is lower in temperature than a substrate region.例文帳に追加

基板領域よりも低温の放電用電極部への処理ガス成分の付着量を低減する。 - 特許庁

To prevent destruction by temperature change by a simple structure suppressing man hour in processing.例文帳に追加

温度変化による破壊を、加工工数を抑制した簡単な構造により防止することを可能とする。 - 特許庁

This radio communication terminal includes: a radio processing portion; a thermometer for measuring temperature in a housing; and a control portion for stopping the operation of the radio processing portion, and performing a calculation process in which outputting a signal to the other composition portions including the radio processing portion is not carried, when the temperature measured by the thermometer is below a first predetermined temperature.例文帳に追加

無線通信端末は、無線処理部と、筐体内の温度を測定する温度計と、温度計において測定された温度が第1所定温度以下となる場合に、無線処理部の動作を停止させ、かつ、無線処理部を含む他の構成部に信号を出力しない演算処理を行う制御部と、を備える。 - 特許庁

To provide a heating furnace reducing the unevenness of temperature distribution in the heating furnace and a method of heating processing materials.例文帳に追加

加熱炉内の温度分布のムラを低減した加熱炉及び処理材の加熱方法を提供する。 - 特許庁

INFORMATION PROCESSOR, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, TEMPERATURE RISE SUPPRESSING METHOD FOR INFORMATION PROCESSOR AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加

情報処理装置、情報処理システム、情報処理装置の昇温抑制方法、及び記憶媒体 - 特許庁

The substrate processing apparatus is equipped with an airconditioning unit that adjusts the temperature of air within a coating unit.例文帳に追加

基板処理装置は、塗布処理ユニット内の空気の温度を調整する空調ユニットを備えている。 - 特許庁

例文

To provide a thermoplastic polyurethane which is processed into a film by a sintering step even at a low processing temperature.例文帳に追加

低い加工温度においてでさえも焼結工程でフィルムに加工できる熱可塑性ポリウレタンの提供。 - 特許庁




  
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