「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

To accurately execute temperature compensation of the gain of an analog signal processing unit over a wide temperature range with an extremely simple structure, in a wireless terminal device including an analog signal processing unit such as a transmission circuit.例文帳に追加

送信回路などのアナログ信号処理部を備えた無線端末装置において、きわめて簡単な構成で、広い温度範囲に渡って精度よくアナログ信号処理部におけるゲインの温度補償を行う。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for processing a plastic film (1) having a layer sealable at a predetermined sealing temperature or higher by passing the film (1) heated to a processing temperature along the surface of a deflection roll (5).例文帳に追加

本発明は加工温度に加熱されたフィルム（１）をデフレクションロール（５）に通して行う所定の封着温度以上で封着可能な層を有する多層プラスチックフィルム（１）の加工方法及び加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide a processing refrigerator capable of refrigerating directly and rapidly by cold air from an evaporator even if temperature of the whole refrigerating chamber does not reach refrigerating temperature and performing refrigerating processing at low cost in a short time.例文帳に追加

本発明は冷凍室内全体を冷凍温度にならなくても、エバポレータからの冷風で直接急速に冷凍することができる、短時間で低コストで冷凍加工が可能な加工冷凍装置を得るにある。 - 特許庁

When the server apparatus having a low temperature state less than the proper temperature is present, the server processing distribution device 100A suspends the server apparatus, and next adjust the load distribution to integrate the processing.例文帳に追加

他方、サーバ処理分散装置１００Ａは、適正温度を下回っている低温状態のサーバ機器が存在するときは、該当サーバ機器の休止、次に負荷配分の調整を行い、処理の集約化を図る。 - 特許庁

If the temperature of the fluid L in the processing vessel 40 is not higher than the threshold temperature "SV(t)+α", the amount of heat applied to the fluid L in the processing vessel 40 is controlled based on the value of the PID calculation.例文帳に追加

一方、処理槽４０内の流動物Ｌの温度が、閾値温度「ＳＶ（ｔ）＋α」以下の場合には、ＰＩＤ演算の値に基づいて、処理槽４０内の流動物Ｌに加えられる熱量が制御される。 - 特許庁

To provide a thin-film transistor manufactured by processing at a relatively low temperature, and a display device manufactured by processing at a relatively low temperature with use of the thin-film transistor, and a manufacturing method of the display device.例文帳に追加

本発明は、相対的に低温工程で製造された薄膜トランジスターと、前記薄膜トランジスターを使用して相対的に低温工程で製造された表示装置と、前記表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve a combustion processing effect by forming a fire-resisting heat-resisting material layer having a heat storing characteristic on the inside wall of a rotary furnace to keep the temperature in the furnace above a temperature capable of igniting and burning a processing object.例文帳に追加

回転炉内壁に蓄熱特性を有する耐火耐熱材層を設けて、炉内温度を被処理物が着火燃焼できる温度以上に維持できるようにして燃焼加工処理効果を向上させる。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus, on which a temperature sensing mechanism can be easily mounted and which can sense temperature accurately and with stability, and thus can stably perform satisfactory vacuum processing.例文帳に追加

温度検出機構の取り付けを容易に行うことができ、かつ、精度良く安定した温度検出を行うことによって、良好な真空処理を安定して行うことのできる真空処理装置を提供する。 - 特許庁

This color filter manufacturing device having a processing part 11 in which a dyeing and fixing process is performed by use of a formalin solution includes a heating means 16 for heating tbe formalin solution and a temperature control means 17 for controlling the temperature of the formalin solution in the processing part.例文帳に追加

ホルマリン溶液を用いて染色固着処理を行う工程を備えるカラーフィルターの製造方法において、加熱ホルマリン溶液を使用し、染色固着処理を行うホルマリン溶液の温度を制御する。 - 特許庁

To provide a wafer processing device that can uniformly maintain the temperature distribution in a wafer and can suppress the temperature rise of the wafer by removing heat inputted to the wafer at the time of processing the wafer with plasma, and to provide a wafer stage.例文帳に追加

ウエハの温度分布を均一に保つことができ、プラズマで処理する際にはウエハへの入熱を取り除くことによりウエハの温度上昇を抑えることができるウエハ処理装置、およびウエハステージを提供する。 - 特許庁

The ECU 8 includes a motor temperature specification part for specifying the temperature of the motor 3 by measurement or estimation; and a motor high temperature time processing part for, when the temperature of the motor 3 specified by the motor temperature specification part is a prescribed temperature or more, controlling the first clutch C1 to hold the connected state of the engine 2 and the motor 3.例文帳に追加

ＥＣＵ８は、電動機３の温度を測定又は推定により特定する電動機温度特定部と、電動機温度特定部で特定した電動機３の温度が所定温度以上の場合に、第１クラッチＣ１によりエンジン２と電動機３とを接続状態に保持するように制御する電動機高温時処理部とを有する。 - 特許庁

To provide a workpiece cooling apparatus for a machine tool, which improves processing accuracy for workpiece and shortens processing preparation time by previously maintaining a workpiece waiting for being processed, in the same temperature conditions as in the processing by using its waiting time.例文帳に追加

加工待ちの待機ワークをその加工待ち時間を利用して予め加工時の温度状態に維持させることにより、ワークの加工精度の向上と加工準備時間の短縮を図る。 - 特許庁

To provide a substrate processing system and a heat treating method in which an article can be subjected to processing with high uniformity by making uniform the surface temperature of the article in a processing chamber.例文帳に追加

プロセス処理室内の被処理体の表面の温度分布を均一にして、被処理体に対して均一性の高いプロセス処理を施すことのできる基板処理装置と熱処理方法を提供すること。 - 特許庁

To improve productivity in substrate processing by promoting heat dissipation occurring when lowering a temperature of a substrate, and to improve quality of substrate processing by inhibiting foreign materials from occurring in a processing chamber during deposition.例文帳に追加

基板を降温させる際の放熱を促進させて基板処理の生産性を向上させたり、成膜時における処理室内での異物の発生を抑制して基板処理の品質を向上させたりする。 - 特許庁

By executing the fuel increasing processing and the EGR processing, the catalyst temperature Tc gets lower than the threshold Tref, so that the increasing processing of the fuel injection amount is released in an early stage.例文帳に追加

そして、燃料増量処理及びＥＧＲ処理を実行することにより、触媒温度Ｔｃが閾値Ｔｒｅｆを下回るため、燃料噴射量の増量処理が早期に解除される。 - 特許庁

An article T of aluminum alloy to be processed in a processing chamber 2 is set at a specified temperature and oxygen gas mixed with argon or krypton is introduced from a processing gas source 13 into the processing chamber 2.例文帳に追加

処理容器２内のアルミニウム合金からなる被処理体Ｔの温度を所定温度にし，処理容器２内に処理ガス供給源１３から，酸素ガスにアルゴンやクリプトンを混入したガスを導入する。 - 特許庁

In order to rise the temperature of devices in the electronic equipment serving as an object of the thermic test to a junction temperature, rotational frequency of a cooling fan is computed (processing 504) from a prepared temperature control table and controls the cooling fan so as to rotate at the computed rotational frequency (processing 505).例文帳に追加

温度試験の対象となる電子機器内のデバイスの温度をジャンクション温度まで高めるため、予め作成しておいた温度制御テーブルから、冷却ファンの回転数を算出し（処理５０４）、算出した回転数で冷却ファンが回転するように制御する（処理５０５）。 - 特許庁

A fixing temperature, that is a surface temperature of the fixing roller 1 in fixing processing, is set in every group classified in response to a rotary shaft-directional width of the fixing roller 1 in a recording material for the fixing processing, and the fixing temperature is set to get lower along with the width getting narrower in the groups.例文帳に追加

定着処理を行う記録材における定着ローラ１の回転軸方向の幅に応じて分類されるグループ毎に定着処理時における定着ローラ１の表面温度である定着温度を設定し、上記幅が狭いグループほど定着温度を低く設定する。 - 特許庁

A temperature of the semiconductor substrate arranged in the processing chamber 10 is acquired based on the relationship of emissivity which is previously acquired in accordance with the measured temperature of the sidewall 1 and an actual temperature of the semiconductor substrate disposed in the processing chamber 10.例文帳に追加

次いで、測定された側壁１の温度に対応してあらかじめ取得されている上記放射率と処理室１０内に設置された半導体基板の実温度との対応関係に基づいて、処理室１０内に設置された半導体基板の温度が取得される。 - 特許庁

The rolling operation is conducted by having the controller 6, based on the information on measurement data by the sensor 5, control the temperature regulator 4 to obtain a target temperature meeting this information and supplying the processing liquid H with its temperature being regulated to the rolling dies 11, 12 through the processing liquid feeder 3.例文帳に追加

制御装置６は、センサ５の計測で得た計測情報に基づき、この情報に応じた目標温度となるように温度調節装置４を制御して温度調節された加工液Ｈをロールダイス11,12に加工液供給装置３を介して供給させながら転造作業を行なわせる。 - 特許庁

To provide a fuel vapor processing device liquefying and collecting fuel vapor as required in working temperature range.例文帳に追加

使用温度範囲において随時、燃料蒸気を液化回収する燃料蒸気処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma generator capable of enhancing processing efficiency by generating a high-temperature reaction field.例文帳に追加

高温の反応場を生成して処理効率を高めることができるプラズマ発生装置を提供すること。 - 特許庁

To compensate the difference of appearance of a color caused by the difference of a color temperature, in image data of a processing object.例文帳に追加

処理対象の画像データについて、色温度の差によって発生する色の見えの違いを補正する。 - 特許庁

To provide a substrate-processing device capable of suppressing locally decreasing of the temperature at the center of rotation of a substrate.例文帳に追加

基板の回転中心で温度が局所的に低下するのを抑制する基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a differential pressure measuring system capable of excluding a measurement error resulting from a temperature change, without requiring computer processing.例文帳に追加

計算機処理を必要とせず、温度変化による測定誤差を排除可能な差圧測定システムを提供する。 - 特許庁

To provide a transparent resin composition excellent in transparency, heat resistance and heat stability in processing at high temperature.例文帳に追加

透明性、耐熱性などに優れ、高温加工時の熱安定性に優れる透明性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a device and method for vacuum processing, capable of uniforming temperature of a sample within a surface of the sample.例文帳に追加

試料温度を面内で均一にすることのできる真空処理装置および真空処理方法を提供する。 - 特許庁

The surface recovering processing for recovering surface property of a fixing member is controlled based on temperature of the fixing member.例文帳に追加

定着部材の表面性を回復する表面回復処理を定着部材の温度に基づいて制御する。 - 特許庁

Further, the ambient temperature is selected to be 100 °C or below, and the time for the stabilizing processing is selected to be 100 hours or below.例文帳に追加

また、前記周囲温度を１００℃以下、前記安定化処理を行う時間を１００時間以下とする。 - 特許庁

The frequency response may be a configuration which does not change according to conditions of a temperature, a power supply voltage or processing.例文帳に追加

周波数応答は、温度、電源電圧、処理といった条件に応じて変化しない構成であってもよい。 - 特許庁

The process sensor may be for example a pressure sensor and/or a temperature sensor for measuring the processing conditions.例文帳に追加

プロセスセンサは、例えば、加工条件を計測するための圧力センサおよび／または温度センサであってもよい。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which achieves an improved throughput by adjustment of the temperature of an inner side wall of a process chamber.例文帳に追加

処理室の内側壁の温度を調節してスループットを向上させたプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an analog signal processing apparatus capable of executing temperature correction while avoiding the missing of measured data.例文帳に追加

測定データの欠落を回避しながら温度補正の実行が可能なアナログ信号処理装置を提供する。 - 特許庁

Voltage fed to the cooling fan is adjusted in accordance with a measured temperature around a central processing unit.例文帳に追加

中央処理装置付近の測定温度に対応させて、冷却用ファンに供給する電圧を調整する。 - 特許庁

A heater 6 is provided in the intermediate chamber 4 to heat the substrates to a prescribed temperature prior to the processing.例文帳に追加

中間チャンバー４内には、処理に先だって基板を所定温度まで加熱するヒータ６が設けられている。 - 特許庁

To provide a stable detection output by improving the temperature characteristics of a signal processing circuit of an acceleration sensor.例文帳に追加

加速度センサの信号処理回路の温度特性を改善し、安定した検出出力を得られるようにする。 - 特許庁

To provide a semiconductor composition which has stability at room temperature along with suitable processing characteristics.例文帳に追加

加工に適した加工特性を保持しつつ、室温における安定性が維持された半導体組成物を提供する。 - 特許庁

The first operation processing section 36c executes a first uneven temperature eliminating operation on the basis of the plurality of wind direction patterns.例文帳に追加

第１運転処理部は、複数の風向パターンに基づいて第１温度ムラ解消運転を実施する。 - 特許庁

To solve a problem of a processing error caused by rise of an internal temperature due to loading a radio function on a compact portable equipment.例文帳に追加

小型携帯機器に無線機能が搭載されると、内部温度が上昇し、処理エラーの原因となる。 - 特許庁

To improve the uniformity in film thickness by preventing temperature drop at the peripheral part of a wafer in a substrate-processing state.例文帳に追加

基板処理状態でのウェーハ周辺部の温度低下を防止し、膜厚の均一性の向上を図る。 - 特許庁

In a middle portion of the processing liquid supply piping 4, a pump 6, a temperature control heater 7 and a filter 8 are provided.例文帳に追加

処理液供給配管４の途中部には、ポンプ６、温調用ヒータ７、フィルタ８が設けられている。 - 特許庁

To provide a binder resin for fiber processing, which has a holding force at high temperature and having a fiber scattering resistance.例文帳に追加

高温時の保持力が損なわれず、なおかつ耐繊維飛散性を併せ持つ繊維加工用のバインダー樹脂を得る。 - 特許庁

The controller 30 comprises a room temperature control means, a combustion mode recording means, and a post-processing operation means.例文帳に追加

制御装置３０は、室温制御手段と、燃焼モード記録手段と、後処理運転手段とを備える。 - 特許庁

The reactant gas supply member 9 supplies the reactant gas to the processing chamber 4 via a temperature-controlled piping 5.例文帳に追加

反応ガス供給部材９は、温度制御された配管５を介して処理室４に反応ガスを供給する。 - 特許庁

To provide a plasma processing system in which the temperature distribution of a mounting table can be controlled in a short time with high accuracy.例文帳に追加

載置台の温度分布を短時間にかつ高精度に制御することのできるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁