「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an in-line type processing apparatus for a substrate (glass substrate), which keeps the substrate uniformly at a prescribed temperature in a short period of time.例文帳に追加

基板（ガラス基板）に対し、短時間のうちに均一な温調を行えるインライン式処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide coating equipment which can efficiently use the thermal energy of exhaust gas discharged from high-temperature processing equipment.例文帳に追加

高温処理設備から排出される排気の熱エネルギを効率的に活用できる塗装設備を提供すること。 - 特許庁

A silver wire 20 which goes through final plasticity processing is heated to a treatment temperature T1 that is ≥700°C but less than the melting point thereof.例文帳に追加

最終の塑性加工を経た銀線２０を７００℃以上融点未満の処理温度Ｔ１にまで昇温する。 - 特許庁

A white balance adjustment/λ processing part 112 adjusts image data to a white balance corresponding to the color temperature of the flash light.例文帳に追加

ホワイトバランス調整・γ処理部１１２では閃光の色温度に応じたホワイトバランスに画像データが調整される。 - 特許庁

To provide a temperature measuring tool which can convey a semiconductor wafer by an automatic conveyer in the same manner as an ordinary semiconductor wafer and can easily and precisely measure temperature during processing of a semiconductor wafer, to provide a method of measuring temperature for a semiconductor manufacturing apparatus using the temperature measuring tool, and to provide a semiconductor manufacturing apparatus which measures temperature by using the temperature measuring tool.例文帳に追加

通常の半導体ウェハと同様に自動搬送装置により搬送することができて、半導体ウェハ処理時における温度を容易に且つ精密に測定できる半導体製造装置用温度測定具、その温度測定具を用いた半導体製造装置の温度測定方法、及びその温度測定具を用いて温度を測定する半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

After the saturation steam pressure (P), the saturation temperature (t) and the temperature (T) in the processing chamber 19 are settled at specified levels (H2), annealing work is started while sustaining the saturation temperature (t) and the saturation steam pressure (P) at constant levels.例文帳に追加

次に、飽和蒸気圧力（Ｐ）と、飽和温度（ｔ）と、処理室１９内の温度（Ｔ）と、が所定の値になった後（Ｈ２）に、飽和温度（ｔ）と、飽和蒸気圧力（Ｐ）と、を一定の値に維持しながらアニール処理作業に入る。 - 特許庁

Thus the temperature of the developer is accurately detected, and the temperature of the developer is controlled on the basis of this detection result to keep the developer at a temperature for proper processing of the PS plate even in the standby state.例文帳に追加

これにより、現像液の正確な液温検出が可能となり、この検出結果に基づいて現像液の温調を行うことにより、スタンバイ状態であっても、ＰＳ版を適切に処理できる温度に維持することができる。 - 特許庁

Subsequently, in the analysis processing (CAE), a temperature change Δt of each candidate point of each time series in giving a predetermined temperature change to the machine tool body, and temperature data of a displacement δ in the machining point are calculated (S33).例文帳に追加

次いで、解析処理（ＣＡＥ）により、工作機械本体に所定の温度変化を与えた際の、時系列毎の各候補点の温度変化Δｔ、及び加工点における変位量δの温度データが算出される（Ｓ３３）。 - 特許庁

A control means executes processing for associating the operational position of the light quantity adjusting means with the signal from the position detecting means, when the temperature detected by the temperature detecting means 4 is different from the temperature stored in a storage means.例文帳に追加

制御手段は、温度検出手段４による検出温度と記憶手段に記憶された温度とが異なる場合に、光量調節手段の動作位置と位置検出手段からの信号とを対応させるための処理を行う。 - 特許庁

The output of a comparator 54 and the on/off signals of a heater from an MPU (Micro Processing Unit) 1 are inputted to an AND gate circuit 55 and control is performed so that the detection temperature of a thermistor 18 is held for a preheating temperature, a fixing temperature or the like.例文帳に追加

ＡＮＤゲート回路５５にはコンパレータ５４の出力とＭＰＵ１からのヒータのオン／オフ信号が入力され、サーミスタ１８の検出温度が予熱温度あるいは定着温度などに保持されるように制御される。 - 特許庁

The temperature setting control means 14 determines a second set temperature as the target temperature by performing an arithmetic processing on the basis of one or more set values and one or more first set temperatures set on each zone Z1-Z5.例文帳に追加

同温度設定制御手段１４は、一以上の設定値とゾーンＺ１〜Ｚ５に関して設定されている一以上の第１設定温度とに基づく演算処理を行うことにより、目標温度である第２設定温度を求める。 - 特許庁

The invention solves the problem of continuously monitoring wafer temperature during processing by using an optical temperature sensor or a fluoro-optical temperature sensor including an optical fiber having an end next to and facing the backside of the wafer.例文帳に追加

本発明は、ウェーハの裏面のすぐ隣にあって裏面に面する端部を有する光ファイバを含む光温度センサ、又は、蛍光・光温度センサを使用することにより、処理中にウェーハ温度を連続的に監視する問題を解決する。 - 特許庁

When the temperature of the row bar 11 reaches a first temperature equal to a vapor temperature in the vapor area 25 by the cleaning processing, the same organic solvent as the organic solvent 23 is jetted from a jet nozzle 30 to the row bar 11.例文帳に追加

この洗浄処理に伴いローバ１１の温度が蒸気エリア２５内の蒸気温度と等しい第１の温度になったとき、噴射ノズル３０から前記有機溶剤２３と同一の有機溶剤をローバ１１に向け噴射する。 - 特許庁

To properly control diagnostic processing on an evaporation system even if a correlation between the fuel temperature in the evaporation system and the cooling water temperature for estimating the fuel temperature is varied by pre-air-conditioning during stop of an internal combustion engine.例文帳に追加

内燃機関停止中にプレ空調などでエバポ系内の燃料温度とこれを推定するための冷却水温との相関関係が変動しても適切にエバポ系に対する診断処理を制御できるようにする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of accurately performing fixing temperature correction control on the basis of temperature detected by a temperature sensor existing in the image forming apparatus without being influenced by heat generated when printing processing is performed.例文帳に追加

印刷処理の際に発生する熱の影響を受けることなく、画像形成装置に既存の温度センサーの検知する温度に基づいて、定着温度の補正制御を的確に行うことが可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Meanwhile, in the case the shell temperature T0 is below α (in the case of NO decision at S5) and the shelf temperature T0 reaches or exceeds β (in the case of YES decision at S9), when the food temperature Tx reaches or exceeds Tf, heating is stopped (processing of S11, etc).例文帳に追加

一方、棚温度Ｔ_0 がα未満であって（Ｓ５でＮＯ判断時）、棚温度Ｔ_0 がβ以上である場合（Ｓ９でＹＥＳ判断時）、食品温度Ｔ_x がＴ_f 以上となると加熱が停止される（Ｓ１１等の処理）。 - 特許庁

To provide a thin film resistor excellent in the specific resistance, resistance temperature characteristics, high-temperature stability, and salt water resistance even by thermal processing at relatively low temperature, a resistor material for manufacturing the same, and a manufacturing method.例文帳に追加

相対的に低い温度の熱処理によっても、比抵抗、抵抗温度特性、高温安定性、耐塩水性のいずれにも優れた薄膜抵抗器、およびその製造のための抵抗体材料および製造方法を提供する。 - 特許庁

A temperature detection element such as a thermocouple is used in this standby state to detect a temperature to be measured T and starts power supply from the battery for the measurement communication processing part when a change in the temperature to be measured T is detected.例文帳に追加

この待機状態で熱電対などの温度検知素子を用いて計測温度Ｔを検知し、この計測温度Ｔの変化を検出した時点で、計測通信処理部への電池からの電源の供給を開始させる。 - 特許庁

The plasma processing system comprises a processing chamber for forming a silicon nitride film on the surface of an article to be processed, having a silicon oxide film on a silicon substrate by plasma processing, a susceptor contained in the processing chamber and mounting the article to be processed, and a temperature regulator connected with the susceptor and sustaining the temperature thereof at about 250-350°C.例文帳に追加

本発明のプラズマ処理装置は、シリコン基板上にシリコン酸化膜を有する被処理体の表面にシリコン窒化膜をプラズマ処理によって形成する処理室と、処理室に収納されて被処理体を載置可能なサセプタと、サセプタに接続されてサセプタの温度を約２５０乃至約３５０℃に維持する温度調節装置とを有する。 - 特許庁

The silicon nitride film 23 is deposited by supplying a processing gas containing a silane gas, a nitrogen gas and a hydrogen gas to a processing vessel of a plasma deposition apparatus, exciting the processing gas to generate plasma while maintaining the temperature of the substrate inside the processing vessel at 100°C or lower and the pressure inside the processing vessel at 20-60 Pa, and applying plasma processing using the plasma.例文帳に追加

シリコン窒化膜２３は、プラズマ成膜装置の処理容器内にシランガス、窒素ガス及び水素ガスを含む処理ガスを供給し、処理容器内の基板の温度を１００℃以下に維持し、且つ処理容器内の圧力を２０Ｐａ〜６０Ｐａに維持した状態で、処理ガスを励起させてプラズマを生成し、当該プラズマによるプラズマ処理を行って成膜される。 - 特許庁

In an automatic developing device 1 for a sensitive material for carrying an exposed sensitive material to a processing part 2 and processing the sensitive material with a processing liquid of the processing part, three or more stabilization vessels are successively arranged and provided in the processing part 2 and only the stabilization vessel on a center side among the three or more stabilization vessels is temperature-controlled by using a heating processing part.例文帳に追加

露光済の感光材料を処理部２に搬送し、この処理部の処理液で感光材料を処理する感光材料用自動現像機１において、処理部２に、安定処理槽を３槽以上連続して配置して備え、この３槽以上の安定処理槽のうち中央側の安定処理槽のみを加熱処理部を用いて温調する。 - 特許庁

To provide a liquid processing device and liquid processing method for a substrate, which can sufficiently perform high-temperature processing of a substrate when performing processing of a peripheral part of the substrate, and can sufficiently prevent particles from adhering to a surface of the substrate.例文帳に追加

基板の周縁部分の処理を行う場合において、基板の高温処理を十分に行うことができるとともに基板の表面にパーティクルが付着することを十分に抑制することができる基板の液処理装置および液処理方法を提供する。 - 特許庁

The reaction rate of the process can be increased, since the process temperature can be made almost the same as that of the substrate surfaces, while preventing lowering of the dissolved concentration of ozone due to temperature rise of the processing liquid.例文帳に追加

処理液の温度上昇によるオゾンの溶存濃度の低下を防止しつつ処理温度を基板表面の温度とほぼ同じにできるので処理の反応速度を高められる。 - 特許庁

A combination of this high output and low temperature processing enables formation of a high quality of film which is free of impurities, resulting from a material gas with high efficiency comparable to an existing high-temperature plasma CVD.例文帳に追加

この高出力、低温処理の組み合わせにより、材料ガス由来の不純物がない良質の膜を既存の高温プラズマＣＶＤ並みの高効率で形成できる。 - 特許庁

To provide a paved road surface temperature prediction system capable of predicting a road temperature with accuracy necessary for actual use, independently of statistical processing, and independently of a numerical solution.例文帳に追加

統計処理によることなく、また、数値解によることなく、実際の利用に必要な精度で路温の予測を行うことができる舗装路面温度予測システムを提供する。 - 特許庁

Furthermore, this system can be provided with at least one temperature detecting device structured to provide an output showing temperature in one or more positions of a working material of the exhaust processing device.例文帳に追加

さらに、本システムは、排気処理装置の作業材の１つ以上の位置の温度を示す出力を提供するように構成された少なくとも１つの温度検知装置を備え得る。 - 特許庁

Then, a temperature of the substrate W supported by the contact member 42 is adjusted by adjusting a temperature of the mounting table 40 in a state in which the processing chamber 32 is set to a predetermined pressure.例文帳に追加

そして，処理室３２を所定の圧力にした状態で，載置台４０の温度を調節することにより，当接部材４２に支持された基板Ｗの温度を調節する。 - 特許庁

To provide an image processing device of detecting, from a temperature image obtained by imaging a subject having a different temperature of a sound part according to its position, detecting a state-change part of the subject.例文帳に追加

場所によって健全部分の温度が異なる被撮像物を撮像して得た温度画像から、その被撮像物の変状部分を検出する画像処理装置を提供する。 - 特許庁

A main controller 40 detects an expansion or contraction amount of the mask 2 from the processing result of the image signal processor 30 and sets a target temperature of a chuck 10 by a temperature controller 14.例文帳に追加

主制御装置４０は、画像信号処理装置３０の処理結果から、マスク２の伸縮量を検出し、温度制御装置１４にチャック１０の目標温度を設定する。 - 特許庁

When the operating temperature of the γ voltage generator varies above (or below) the room temperature, the data processing unit selects applicable digital data and outputs the data to the digital-to-analog conversion unit.例文帳に追加

γ電圧発生器の動作温度が室温より高く（または低く）変化すると、データ処理ユニットは適用可能なデジタルデータを選択し、デジタル・アナログ変換ユニットに出力する。 - 特許庁

To provide a chlorine-containing thermoplastic resin composition holding low-temperature impact resistance and high-temperature mechanical characteristics, having good processing characteristics, and providing a molded product having good surface appearance and color development.例文帳に追加

低温衝撃強度及び高温機械特性を保持し、良好な加工特性、成形物表面外観及び発色性を有する塩素含有熱可塑性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

An apparatus for heat treating the substrate comprises a DCC processing unit 13 for curing a coating liquid coating a wafer W, capable of forming two treating chambers of a high-temperature heating chamber 23 and a temperature-lowering chamber 24.例文帳に追加

ウェハＷ上に塗布された塗布液を硬化させるためのＤＣＣ処理ユニット１３を高温加熱室２３と降温室２４の２つの処理室が形成できるように構成する。 - 特許庁

Since the polymer 32 discharges the absorbed processing solution and shrinks at a temperature above the 35°C temperature sensing point, a film can be processed.例文帳に追加

吸水性ポリマー３２が感温点３５°Ｃを越えると、吸水性ポリマー３２はいままで吸水保持していた処理液を排出して縮小するので、フィルムの処理が可能となる。 - 特許庁

Since this enables an increase in speed for increasing both the temperature of the first heater substrate and the temperature of the pressure roller, the time necessary for the whole of the erasing processing can be shortened.例文帳に追加

よって、第１ヒータ基板及び加圧ローラの両方を昇温させるスピードを早めることもできるので、消去処理全体に要する時間を短縮することが可能となる。 - 特許庁

The electronic camera 10 demodulates the lighting light received at the light reception circuit to alter a color temperature adjustment reference at the time of color adjustment processing according to color temperature information contained in the demodulated signal.例文帳に追加

電子カメラ１０は、受光回路で受光した照明光を復調し、復調信号に含まれる色温度情報に応じて色調整処理時の色温度調整基準を変える。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a transparent laminated body using an adhesive layer capable of manufacturing a laminated body at room temperature without requiring high-temperature/high-pressure processing by an autoclave.例文帳に追加

オートクレーブによる高温・高圧処理を必要とすることなく、室温で積層体の製造が可能な粘着剤層を使用した透明積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁

When the wax used for processing various kinds of parts is subjected to ultrasonic cleaning by using an electrolytic alkali cleaning water, the temperature of the electrolytic alkali cleaning water is controlled to be at a temperature of 35°C-50°C.例文帳に追加

各種部品類の加工に用いるワックスを電解アルカリ洗浄水を用いて超音波洗浄するに際して、電解アルカリ洗浄水の水温を３５℃〜５０℃に調整する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device which can quickly keep the substrate temperature on a plate, realize a uniform temperature, and has a simplified and compact structure.例文帳に追加

プレート上の基板を迅速に所望の温度に維持することができるとともに、温度の均一性が高く、しかも構造が簡易でかつコンパクトな基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a temperature information measurement method capable of easily and speedily measuring temperature information on an analyte by appropriately processing an output value from detection means.例文帳に追加

検出手段からの出力値を適切に処理することにより、簡易にしかも迅速に被検体の温度情報を計測することができる温度情報計測方法を得ること。 - 特許庁

To provide a substrate holding device with which heating control of a substrate temperature to a prescribed temperature is possible by a simple configuration, and also to provide a substrate processing apparatus.例文帳に追加

簡易な構成によって、基板温度を所定の温度に加熱制御することが可能な基板保持装置、及びこのような基板保持装置を配設した基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

A new toner tank 35 and a waste toner tank 37 are provided and a temperature history detecting means is provided in its vicinity, so that a temperature history for storage and transportation until a processing cartridge is recovered is detected.例文帳に追加

ニュートナータンク３５と廃トナータンク３７、それら近傍に温度履歴検出手段を設け、プロセスカートリッジが回収されるまでの保管、運搬における温度履歴を検出する。 - 特許庁

To provide a method for producing thermally expansible microcapsules having a high maximum foaming temperature, excellent in heat resistance without breaking and shrinking in a high temperature region or during forming processing.例文帳に追加

最大発泡温度が高く、耐熱性に優れ、高温領域や成形加工時においても破裂、収縮することのない熱膨張性マイクロカプセルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a furnace temperature control method for a heat processing furnace equipped with a regenerative burner wherein a combustion load can be sharply reduced with high heat efficiency, and even hunting of furnace temperature is prevented from happening.例文帳に追加

燃焼負荷を従来より大幅に下げることができ、しかも熱効率がよく、炉温のハンチングも生じないリジェネレイティブバーナを備えた熱処理炉の炉温制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a soaking processing apparatus that can carry out heating and cooling while maintaining a uniform temperature distribution in a plane of a substrate with high precision, is thin and lightweight, and has high thermal responsiveness during a rise and a fall in temperature.例文帳に追加

基板の面内で高精度に均一な温度分布を保ちながら加熱・冷却が出来、薄形・軽量で昇降温時の熱応答性の高い均熱処理装置を得る。 - 特許庁

An arithmetic processing part 42 calculates electric energy corresponding to a difference between the target temperature and detected temperature of a load 5, and generates a timing signal for driving a power adjusting part 3.例文帳に追加

演算処理部４２は、負荷５の目標温度と検出温度との差に応じた電力量を算出し、該電力量から、電力調整部３を駆動するタイミング信号を生成する。 - 特許庁