「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a wafer-processing apparatus which can suppress variations in wafer temperature, when the wafer has been processed continuously.例文帳に追加

連続的にウエハを処理した場合のウエハ温度の変動を抑えることができるようにしたウエハ処理装置を提供する。 - 特許庁

Bias is applied to a base current of a power amplifier by a control circuit (355) which maintains linearity against temperature changes or processing.例文帳に追加

パワーアンプのベースの電流に、温度変化および処理において直線性を維持する制御回路（３５５）によりバイアスをかける。 - 特許庁

To provide ferritic stainless steel having both characteristics of secondary processing brittleness resistance and high temperature fatigue characteristics at the same time in a weld zone.例文帳に追加

溶接部の耐二次加工脆性および高温疲労特性の両特性を兼ね備えたフェライト系ステンレス鋼を提供する。 - 特許庁

The sensor also includes a color temperature processing circuit for generating a first processed signal related to a ratio between the first and second signals.例文帳に追加

センサはまた、第１及び第２の信号の比に関連する第１の処理信号を生成する色温度処理回路を含む。 - 特許庁

To provide a polyether ester elastomer fiber improved a yarn breakage in a covering processing of the elastomer fiber at a low temperature.例文帳に追加

低温時の弾性繊維のカバリング加工時の糸切れ防止特性が改良されたポリエーテルエステル系弾性繊維の提供する。 - 特許庁

The first cleaning roller 75 is heated at a higher temperature than the fixing roller 71 by a halogen heater 751 during first maintenance processing.例文帳に追加

第１クリーニングローラ７５は、第１保守処理時にハロゲンヒータ７５１によって定着ローラ７１よりも高温に加熱される。 - 特許庁

At this time, the phase transformation film contains a specific element to make a processing temperature lower than the melting point of the phase transformation film.例文帳に追加

この際、相変化膜は、熱処理工程の工程温度を相変化膜の熔融点より低くする特定元素を含む。 - 特許庁

To provide a processing method for preserving fishes in an area having high air temperature, particularly Rastrelliger kanagurta.例文帳に追加

この出願発明は、気温の高い地域における魚、とくに、グルクマを保存するための加工方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

A signal detecting/processing circuit 19 generates a thermal image data based on the temperature distribution thus detected.例文帳に追加

信号検出・処理回路１９は、赤外線イメージセンサ９が検出した温度分布に基づいて熱画像データを作成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which is capable of oxidation-processing an insulating material embedded in a groove for a component isolation region etc. at a low temperature.例文帳に追加

素子分離領域などの溝に埋め込んだ絶縁物を低温で酸化処理できる半導体装置のを提供する。 - 特許庁

The CPU implements an interruption processing routine of the highest level 3, obtains an engine speed and water temperature (S110), decides which processing unit to implement at which interruption level and stores them to a processing level table (S120).例文帳に追加

ＣＰＵは最も高いレベルであるレベル３の割り込み処理ルーチンを実行し、エンジン回転数と水温を求め（Ｓ１１０）、どの処理単位をどの割り込みレベルで実行するかを決定して処理レベルテーブルへ保存する（Ｓ１２０）。 - 特許庁

Then a nickel brazing material is supplied to the burring processing part 2 in the high-temperature condition to braze to burring processing part 2 to the tube 5, and a nickel dispersion layer 10 is formed on the outer surfaces of the burring processing part 2 and the tube 5.例文帳に追加

次いで、高温のもとでバーリング加工部２にニッケルろう材を供給して、バーリング加工部２とチューブ５との間をろう付けすると共に、バーリング加工部２およびチューブ５の外面にニッケル拡散層10を形成させる。 - 特許庁

The control processing part 7 performs the first correction processing for correcting a time clocked by the clocking part into the standard time and the second correction processing for correcting a time clocked by the clocking part based on the temperature.例文帳に追加

制御処理部７は、計時部により計時されている時刻を標準時刻に修正する第１の修正処理と、温度に基づいて計時部により計時されている時刻を修正する第２の修正処理とを行う。 - 特許庁

The vertical vibration dryer has the processing container 16 tightly sealable and having a temperature control jacket 12 and a pressure reduction exhausting means 14 to perform drying processing, and a vibrating means 18 for applying tilt torsional vibration to the processing container 16.例文帳に追加

温調ジャケット１２及び減圧排気手段１４を具備して乾燥処理を行う密閉可能な処理容器１６と、該処理容器１６に傾斜ねじり振動を付与する加振手段１８とを備えている竪型振動乾燥機。 - 特許庁

To provide a film forming apparatus that can not only suppress generation of particles during film forming processing but facilitates cleaning processing at a temperature higher than that during conventional cleaning processing, and thereby can improve a throughput.例文帳に追加

成膜処理の際にパーティクルの発生を抑制することができるのみならず、従来のクリーニング処理時よりも高い温度でのクリーニング処理が可能となり、その分、スループットを向上させることができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method and a processing apparatus for removing oxides formed on the front surface of a metal material at the temperature not giving any damage on a metal material of the base material, or an area near the metal material using the processing gas including vapor.例文帳に追加

水蒸気を含む処理ガスを用いて、下地の金属やその近傍の部位にダメージを与えない温度で金属の表面に形成された酸化物を除去することができる処理方法および処理装置を提供すること。 - 特許庁

To easily realize temperature compensation of a parameter, such as an amplifier gain of a transmitting and receiving circuit of an analog processing portion of a digital radio terminal, without altering the analog processing portion by using a parameter memory provided to a digital processing portion.例文帳に追加

デジタル無線端末において、アナログ処理部の送受信回路におけるアンプゲイン等のパラメータの温度補償を、当該アナログ処理部に手を加えることなく、デジタル処理部に設けられているパラメータメモリを用いて簡単に実現する。 - 特許庁

In an exemplary embodiment, the oxide layer may be a graded structure formed using two distinct processing operations, a first operation at a relatively low temperature, and a final operation at a temperature above the viscoelastic temperature of the oxide film.例文帳に追加

例示的な実施形態では酸化層を、比較的に低い温度での第１の操作と酸化膜の粘弾性温度よりも高い温度での最終操作との２つの異なった処理操作を使用して形成された傾斜構造とすることができる。 - 特許庁

If the surface temperature T 1 is higher by the prescribed temperature ΔE than the temperature suitable for fixing processing, the microcomputer judges that the heating roll is in the overheated state and the microcomputer outputs a signal of a low level to an AND circuit 81 to turn a heater 41 off.例文帳に追加

表面温度Ｔ１が、定着処理に適した温度よりも所定温度ΔＥだけ高い温度以上であると、加熱ロールが過熱状態であると判断し、アンド回路８１へローレベルの信号を出力し、ヒータ４１をオフさせる。 - 特許庁

In this case, the internal pressure of the chamber 111 is raised, so that the internal temperature and the internal pressure (processing pressure) of the chamber 111 keep a relation of "(internal pressure)=(atmospheric pressure)×(273+internal temperature)/(273+initial temperature)".例文帳に追加

このとき、処理室１１１の内部温度と処理室１１１の内部圧力（処理圧力）とが、「内部圧力＝大気圧×（２７３＋内部温度）／（２７３＋開始温度）」で示される関係が保持されるように、処理室１１１の内部圧力を上昇させる。 - 特許庁

The web feeder 3 includes a temperature controller 52 for controlling the temperature of the recording medium 2, a drive 17 for adjusting the tension of the recording medium 2, and an arithmetic processing unit 51 for controlling the temperature controller 52 and the drive 17.例文帳に追加

ウェブ搬送装置３は、記録媒体２の温度を調節する温度調節器５２と、記録媒体２の張力を調節するための駆動装置１７と、温度調節器５２及び駆動装置１７を制御する演算処理装置５１とを備える。 - 特許庁

The signal processing part 16 corrects the electrical signal output from the torque sensor 12 to be output to the PS device 18, based on the temperatures detected by the temperature sensor 14, a temperature characteristic of the torque sensor 12 and a temperature characteristic of the PS device 18.例文帳に追加

信号処理部１６は、温度センサ１４によって検出された温度、トルクセンサ１２の温度特性及びＰＳ装置１８の温度特性に基づき、トルクセンサ１２から出力された電気信号を補正してＰＳ装置１８へ出力する。 - 特許庁

An arithmetic processing unit 11 receives respective signals on water to be cooled by a water side heat exchanger 1 from an inlet temperature sensor 8 of an inlet pipe 6 and an outlet temperature sensor 9 of an outlet pipe 7 and calculates a temperature difference ΔT between the outlet and the inlet.例文帳に追加

演算処理装置１１は、水側熱交換器１で冷却される水について、入口配管６の入口温度センサ８と、出口配管７の出口温度センサ９とから信号を各々受け、出口と入口との温度差ΔＴを算出する。 - 特許庁

To provide a substrate processing technique which accurately measures temperatures of an overall substrate in vacuum, and can attain temperature distribution management required to give a uniform temperature distribution on the entire surface of a substrate, and temperature control of the substrate based on the measurement result.例文帳に追加

真空中で基板全体の温度を正確に測定しその測定結果に基づいて、基板全面で均一な温度分布を与えるための温度分布の管理と、基板の温度制御と、が可能な基板処理技術を提供すること。 - 特許庁

The difference between growth temperature of a GaInNAs layer and maximum temperature of a thermal hysteresis (processing temperature of an epitaxial growth step and a metallization step) after the GaInNAs layer is grown is closely related to the life of a laser diode.例文帳に追加

ＧａＩｎＮＡｓ層の成長温度と、このＧａＩｎＮＡｓ層を成長した後の熱履歴（エピタキシャル成長工程およびメタライズ工程における処理温度）における最大温度との差が、レーザダイオードの寿命と密接に関連している。 - 特許庁

In a temperature calculating means 21 in a signal processing part 20, a quadratic approximation curve is obtained from 4 measured points detected by the temperature detecting means 51-54, and pseudo-detected temperature of each well is obtained from the quadratic approximation curve.例文帳に追加

測定時には、信号処理部２０の温度演算手段２１において、温度検知手段５１〜５４から検知された４つの測定点に基づいて２次近似曲線を求め、この２次近似曲線から各ウェルにおける擬似検知温度を得る。 - 特許庁

In the formula (1), MI-A is the melt flow index of the component A at the processing temperature and MI-B is the melt flow index of the component B at a temperature between 180°C and 250°C (the measuring temperature of MI-A is same as that of MI-B).例文帳に追加

（ＭＩ−Ａ）／（ＭＩ−Ｂ）≧１０ 式（１） ここでＭＩ−Ａは（Ａ）の加工温度でのメルトフローインデックス、ＭＩ−Ｂは（Ｂ）の１８０〜２５０℃でのいずれかの温度（但し、ＭＩ−Ａ、ＭＩ−Ｂは同じ温度とする）でのメルトフローインデックスを表す。 - 特許庁

Article 249 The employer shall, in order to prevent steam explosions, as regards molten high-temperature minerals (hereinafter referred to as "molten high-temperature substance") handling pit (excluding those processing high-temperature slag with water), take the following measures: 例文帳に追加

第二百四十九条　事業者は、水蒸気爆発を防止するため、溶融した高熱の鉱物（以下「溶融高熱物」という。）を取り扱うピツト（高熱の鉱さいを水で処理するものを除く。）については、次の措置を講じなければならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

When an ignition is turned off, steering assistance force control is stopped, and temperature estimation processing of the electric motor 12 is continued by autonomically holding power supply via a power supply relay circuit 30 until a temperature t of the electric motor 12 is lowered to a prescribed temperature t1 or below.例文帳に追加

イグニッションＯＦＦとなったとき、操舵補助力制御を中止し、電動モータ１２の温度ｔが所定温度ｔ１以下となるまで、電源リレー回路３０で電源を自己保持して電動モータ１２の温度推定処理を継続する。 - 特許庁

Furthermore, when the temperature inside the image forming apparatus 1 becomes equal to or under operation permission temperature even before it becomes equal to or under the operation restart temperature, the operation of the printing processing part 12 is restarted according as a user inputs an instruction to restart operation.例文帳に追加

さらに、画像形成装置１の内部の温度が動作再開温度以下になる前であっても、この温度が動作許可温度以下になったときには、ユーザによる動作再開指示の入力に応じて印刷処理部１２の動作を再開させる。 - 特許庁

In the wafer thermometer, the upper surface of the wafer 1 is classified into a plurality of domains, and a plurality of temperature sensors 21, 22, etc., are arranged on each classified domain, and each output signal from the plurality of temperature sensors 21, 22, etc., is converted into temperature data and processed by a conversion processing circuit 4.例文帳に追加

ウェハ１の上面を複数の領域に区分し、区分された各領域に複数の温度センサ２１，２２…２ｎを配置し、複数の温度センサ２１，２２…２ｎの出力信号を変換処理回路４により温度データに変換して処理する。 - 特許庁

Temperature at a part to be cooled by the mist channel is detected by means of a temperature sensor and mist of water, for example, is fed into the mist channel when the detected temperature exceeds a predetermined level in order to cool the processing vessel with the evaporation heat thereof.例文帳に追加

そしてミスト流路により冷却されることになる部位の温度を温度センサで検出し、温度検出値が所定温度を越えたときに前記ミスト流路に例えば水のミストを流入させ、その気化熱によって処理容器を冷却する。 - 特許庁

In the step of applying the auxiliary agent in the method of processing the rubber using the auxiliary agent for processing the rubber, the temperature of the surface 8 of the roll 4a is preferably controlled to ≥45°C and ≤80°C.例文帳に追加

このゴムの加工用補助剤を用いたゴムの加工方法では、補助剤の塗布工程において、ロール４ａの表面８の温度が４５℃以上８０℃以下とされるのが好ましい。 - 特許庁

As shown in Fig.1, a vapor-phase processing apparatus 1 includes a processing chamber 4, a reactant gas supply section (reactant gas supply member 9), a gas inlet section (gas guide section 2), and a temperature control section 3.例文帳に追加

気相処理装置１は、図１に示すように、処理室４と、反応ガス供給部（反応ガス供給部材９）と、ガス導入部（導入部２）と、温度制御部３とを備える。 - 特許庁

The detector comprises the sensor part 100 comprising a rotation sensor 60 and a temperature sensor 70, and the processing part 110 for control processing according to output signals from the sensors 60 and 70.例文帳に追加

検知装置は、回転センサ６０と温度センサ７０とを備えるセンサ部１００と、これらのセンサ６０，７０からの出力信号に基づいて制御処理をする処理部１１０とを備える。 - 特許庁

Prior to processing, pure water of reference temperature is stored in a processing tank 1, a pressure detecting section 24 converts the pressure into a voltage under that state, and a reference voltage is stored in a storage section 26.例文帳に追加

処理に先立って基準温度の純水を処理槽１に貯留し、この状態で圧力検出部２４が圧力を電圧に変換し、基準電圧して記憶部２６に記憶する。 - 特許庁

To provide a signal processing device for processing the signal of a sensor, which has high resolution for temperature, and has a dynamic range compatible with a detection range for humidity, and to provide a liquid-droplet ejection device.例文帳に追加

温度の分解能が高く、かつ、湿度の検出範囲に対応したダイナミックレンジを有する、センサの信号を処理する信号処理装置、及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

In the ribbon discard processing apparatus, a freezing processing apparatus 2 is composed of a pressure-proof tank 23 containing liquid nitrogen 22 for immersing the used ink ribbons 10, and the used ink ribbons 10 are frozen to a temperature equal to or less than a brittle point.例文帳に追加

凍結処理部２は、使用済みインクリボン１０を浸漬させる液体窒素２２が収容された耐圧タンク２３からなり、使用済みインクリボン１０を脆化点以下に凍結させる。 - 特許庁

A cooling pipe 273 is installed in each tank 104, and when the temperature of a processing solution 228 exceeds a fixed value, cooling water is passed through the cooling pipe to cool the processing solution 228.例文帳に追加

また、タンク１０４内に冷却パイプ２７３を設置し、処理液２２８の温度が所定値以上になると冷却パイプ２７３内に冷却水を通して処理液２２８を冷却する。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus which keeps an electrode for vacuum processing at a fixed temperature range by balancing heating and cooling and ensures the efficient maintainability thereof.例文帳に追加

加熱と冷却とをバランスさせて、真空処理用電極を一定の温度範囲に保持するとともに、効率的なメンテナンス性を確保することのできる真空処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an electrode plate for a plasma processing apparatus, along with a plasma processing apparatus, capable of improving in-plane uniformity in a plasma process by reducing a temperature difference that occurs on an electrode plate.例文帳に追加

電極板に生じる温度差を小さくして、プラズマ処理の面内均一性を向上させることができるプラズマ処理装置用電極板及びプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electrode plate for a plasma processing apparatus, that can improve in-plane uniformity of plasma processing by reducing a temperature difference between a center part and an outer peripheral part of the electrode plate.例文帳に追加

電極板の中央部と外周部に生じる温度差を小さくして、プラズマ処理の面内均一性を向上させることができるプラズマ処理装置用電極板を提供する。 - 特許庁

To estimate a temperature rise in a processing resource to which the job is allocated, by using a method that facilitates implementation, in a system in which a scheduler allocates a job to a plurality of processing resources.例文帳に追加

スケジューラにより複数の処理リソースに対してジョブを割り当てるシステムにおいて、実装容易の手法で、ジョブが割り当てられた処理リソースの温度上昇を推定できるようにする。 - 特許庁

To provide a processing apparatus which washing a substrate without damaging it by preventing the temperature of processing liquid given ultrasonic vibrations from rising.例文帳に追加

この発明は超音波振動が与えられる処理液の温度上昇を防止することで、基板にダメージを与えずに洗浄処理できるようにした処理装置を提供することにある。 - 特許庁

When the server apparatus having an overheat state higher than a proper temperature is present, the server processing distribution device 100A adjusts load distribution, and next adds the server apparatus to distribute processing.例文帳に追加

サーバ処理分散装置１００Ａは、適正温度より高い過熱状態のサーバ機器が存在するときは、負荷配分の調整、次にサーバ機器の追加を行い、処理の分散化を図る。 - 特許庁