「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a fuel processing system having a stable carbon monoxide removing characteristics, through holding a selective oxidation catalyst at a proper temperature at all times.例文帳に追加

選択酸化触媒を、構造的に常時適正温度に保つことができるため、安定した一酸化炭素除去特性を得る。 - 特許庁

To provide a combustion device capable of performing combustion improving processing by predicting the occurrence of oscillating combustion on the basis of the flame temperature of a combustion part.例文帳に追加

燃焼部の炎温度に基づいて振動燃焼発生を予測し燃焼改善処理し得る燃焼装置を提供する。 - 特許庁

To improve polymerization hardenability during exposure, and to form a pattern structure and a protective film at a low heating temperature or without heating processing.例文帳に追加

露光時の重合硬化性を向上し、低い加熱温度又は加熱処理無しでパターン構造物や保護膜を形成できるようにする。 - 特許庁

To provide drying technology for a laminate film capable of surely drying an adhesive agent with small power consumption at a low processing temperature.例文帳に追加

小さな電力消費量で、しかも低い処理温度で、確実に接着剤を乾燥できるラミネートフィルムの乾燥技術を提供する。 - 特許庁

To provide a means for controlling the temperature of a semiconductor wafer at a high speed and uniformly in-plane, in etching processing at a largely applied heat.例文帳に追加

大入熱エッチング処理時における半導体ウエハの温度を、高速かつ面内均一に制御するための手段を提供する。 - 特許庁

A method of manufacturing a plant finished product, comprises the step of processing plants or the processed material thereof with high temperature and high pressure liquid, gas, or fluid under an oxygen concentration of 0 to 1 μg/ml.例文帳に追加

植物又はその処理物を、高温高圧の液体、気体又は流体で処理する植物加工品の製造方法。 - 特許庁

This electronic equipment is provided with a CPU 51, a temperature sensor 76 for detecting the temperature of an image-processing unit 75 and a microprocessor unit 74 for controlling power supply from a power supply unit 12 to the CPU 51 and the unit according to the temperature detected by the sensor 76.例文帳に追加

ＣＰＵ５１、画像処理ユニット７５の温度を検出する温度センサ７６と、この温度センサ７６で検出された温度に応じて、電源ユニット１２からＣＰＵ５１、画像処理ユニット７５への電力の供給を制御するマイクロプロセッサユニット７４とを備える。 - 特許庁

To provide a furnace structure refined in a high temperature gasifying furnace and hence improve durability of a furnace structure and stabilize furnace conditions in a gasifying processing apparatus that includes a low temperature gasifying furnace, a high temperature gasifying furnace, and a gas cleaning tower for cleaning product gas.例文帳に追加

低温ガス化炉と高温ガス化炉と生成ガスの洗浄を行うガス洗浄塔とを備える有機性廃棄物のガス化処理装置において、前記高温ガス化炉の改善された炉構造を提供し、炉況の安定化と共に炉体の耐久性の向上を図る。 - 特許庁

To provide a heat treatment apparatus and method for semiconductor wafers capable of increasing a time for processing substrates at a desired treat ment temperature, by accurately estimating the temperature of a holding plate surface and thus quickly heating the holding plate surface to the desired treat ment temperature.例文帳に追加

正確に保持板表面の温度を推定し、基板の熱履歴とは無関係に、保持板表面が短時間で所望の処理温度に達し、基板を所望の処理温度で処理する時間を長くできる半導体ウエハの熱処理装置及び方法の提供。 - 特許庁

Next, the temperature of the first optical element is leveled in a high temperature tank with a temperature of 60°C (S02) and the surface shape error of the first optical element is subsequently measured (S03) to perform the correction processing of the temporary mirror surface piece 4 in the setting-off direction of the obtained surface shape error (S04).例文帳に追加

次にその第一の光学素子について、温度６０℃の高温槽で温度ならしを行って（Ｓ０２）から、面形状誤差の測定を行い（Ｓ０３）、得られた面形状誤差を相殺する方向に仮鏡面駒４を修正加工する（Ｓ０４）。 - 特許庁

In a fuel cell power generation system, a low-temperature coolant water outward line 27 and a low-temperature coolant water homeward line 34, which circulate water for heat exhaustion, are connected between a condenser 22 for water recycling and a low-temperature side cooler 40 of a heat exhaustion processing device 33.例文帳に追加

燃料電池発電システムにおいて、水回収用凝縮器２２と排熱処理装置３３の低温側冷却器４０との間に排熱用の循環水を循環させる低温冷却水往ライン２７及び低温冷却水復ライン３４を接続する。 - 特許庁

An electronic control unit estimates the temperature of a motor 15 by program processing using the temperature of a circuit board 30 detected by a temperature sensor 31 provided thereon and a current flowing through the steering assist motor 15 detected by a current sensor.例文帳に追加

電子制御ユニットは、プログラム処理により、回路基板３０上に設けた温度センサ３１によって検出された基板温度と、電流センサによって検出されて操舵アシスト用の電動モータ１５に流れる電流とを用いて電動モータ１５の温度を推定する。 - 特許庁

The bar code reader integrated with the temperature sensor comprises a bar code reading means for reading bar codes put on commodities, a temperature and other measurement means for measuring the temperature of the commodities subject to temperature measurement, and an information processing means for storing or transferring information including the temperature determined by the measurement means and information acquired by the bar code reading means as correlated with each other.例文帳に追加

物品等に付されたバーコードを読み取るためのバーコード読み取り手段と、温度測定対象となる物品等の温度を測定する温度などの測定手段と、測定手段によって得られた温度などの情報と、バーコード読み取り手段によって得られた情報とを対応づけて記憶または転送する情報処理手段とを備えるセンサ一体型のバーコードリーダ。 - 特許庁

The substrate holder for supporting a substrate in a processing system includes: a temperature-controlled support base having a first temperature; a substrate support opposing the temperature-controlled support base and provided to support the substrate; and one or more heating elements coupled to the substrate support and provided to heat the substrate support to a second temperature above the first temperature.例文帳に追加

処理システム内で基板を支持する基板ホルダは、第１温度を有する温度制御された支持体基盤、該温度制御された支持体基盤に対向し、かつ基板を支持するように備えられた基板支持体、及び該基板支持体と結合し、かつ前記基板支持体を第１温度よりも高温である第２温度に加熱するように備えられた１以上の加熱素子、を有する。 - 特許庁

The controlling cabin temperature calculator S6 calculates the controlling cabin temperature by performing delay processing which slows a change of a detection value detected by the internal air sensor 51, and the transmitting cabin temperature calculator S5 calculates the transmitting cabin temperature so that a slowing degree with respect to the change of the detected value detected by the internal air sensor 51 becomes lower than the controlling cabin temperature.例文帳に追加

制御用室内温度算出手段Ｓ６では、内気センサ５１で検出する検出値の変化を鈍化させる遅れ処理を施すことで制御用室内温度を算出し、発信用室内温度算出手段Ｓ５は、制御用室内温度よりも内気センサ５１で検出する検出値の変化に対する鈍化度合いが小さくなるように発信用室内温度を算出する。 - 特許庁

This image forming apparatus comprises a recording section for forming an image on a medium according to prescribed image data, a temperature detection section for detecting temperature of a prescribed component, a printing condition setting processing means for setting a printing condition according to the detected temperature and a remaining amount for printing, and a printing processing means for performing the printing according to the printing condition.例文帳に追加

所定の画像データに従って媒体に画像を形成する記録部と、所定の部品の温度を検出する温度検出部と、検出された温度及び残り印刷量に基づいて印刷条件を設定する印刷条件設定処理手段と、印刷条件に基づいて印刷を行う印刷処理手段とを有する。 - 特許庁

If a detecting signal from the device 3 or 4 is present, a central processing unit 1 considers an outside temperature control value obtained by delay processing an outside temperature control value from operation start to operation release of the devices, and performs the air conditioning in the vehicle compartment based on the conditions inside and outside the vehicle containing the outside temperature control value.例文帳に追加

そして、いずれかの装置３又は４からの検出信号があれば、中央処理装置１は、遅延処理により得られる外気温度制御値を、前記各部材の操作開始から操作解除まで外気温度制御値とみなし、該外気温度制御値を含む車内外諸条件に基づいて車内の空調制御を行う。 - 特許庁

To provide a transfer device which can accurately transfer parts placed in a processing chamber without undergoing effects of heat transfer even when processing at a relatively high temperature is performed in the processing chamber under a reduced pressure, and has good assembling workability of component parts.例文帳に追加

減圧下の処理室内で比較的高温となる処理が行われるような場合でも伝熱の影響を受けずに、処理室内に配置される部品を精度よく移動でき、構成部品組付の作業性が良い移動装置を提供する。 - 特許庁

While the temperature of the internal wall of the vacuum processing container 1 is set higher than that of a processed base body 2 during the RIE processing, the deposited film formed on the internal wall of the vacuum container 1 during the IRE processing is removed by plasma.例文帳に追加

真空処理容器１の内壁の温度を、ＲＩＥ加工時の被処理基体２の温度よりも高い温度に設定した状態で、ＲＩＥ加工時に真空処理容器１の内壁に形成された堆積膜をプラズマにより除去する。 - 特許庁

To provide a thermoplastic polyurethane (TPU) which has very good mechanical surface resistance and at the same time excellent technical processability, particularly a wide processing means in regard to processing temperature and does not exhibit surface faults, particularly delamination during processing.例文帳に追加

極めて良好な機械表面抵抗を有し、同時に優れた技術加工性、特に加工温度に関して広い加工手段を有し、並びに加工中に表面障害、特に層間剥離を有さない熱可塑性ポリウレタン（ＴＰＵ）を提供する。 - 特許庁

Furthermore, the processing temperature and processing time for the semiconductor substrate and the mol concentration ratio between ammonia and hydrogen peroxide in the cleaning liquid may satisfy the processing conditions shown by formula III.例文帳に追加

また、その洗浄液を用いて、下記条件式［４］で算出される制御値（Ｅ）を基板表面汚染物に対する洗浄力および基板表面に対するダメージの指標として基板の洗浄処理を行なう半導体基板の洗浄方法を提供する。 - 特許庁

The existence of melt-sticking to the tank inner wall due to the toner aggregation of the processing cartridge and the deterioration of residual toner are confirmed without disassembling by the detection of the temperature history, so that selection processing to perform reuse processing is efficiently performed.例文帳に追加

温度履歴の検出によりプロセスカートリッジのトナー凝集によるタンク内壁へ溶着の有無や、残存するトナーの劣化を分解することなく確認することができ、再利用処理を行うための選別処理を効率的に行うことができる。 - 特許庁

This method for treating a semiconductor processing component includes exposing the semiconductor processing component to a halogen gas at an elevated temperature, oxidizing the semiconductor processing component to form an oxide layer, and removing the oxide layer.例文帳に追加

半導体加工用部品を処理する方法は、この半導体加工用部品を高温度においてハロゲン気体に曝露することと、酸化物層を形成するために半導体加工用部品を酸化させることと、この酸化物層を除去することとを含む。 - 特許庁

The method for processing a metallic component includes: a material forming step 13 of forming a metallic member 11 into a predetermined shape by hot forging 12; and a roller plastic forming processing step of processing a pre-processing material 14 formed in the material forming step into a predetermined finished component shape by a roller plastic forming processing in an ambient temperature environment.例文帳に追加

金属部材１１を熱間鍛造１２によって所定形状に成形する素材成形工程１３と、上記素材成形工程で形成された加工前素材14を、室温環境下において、ローラー塑性成形加工によって所定の完成部品形状に加工するローラー塑性成形加工工程とを備えた構成とする。 - 特許庁

Then, whether the temperature estimation processing during the power supply autonomous holding is normally finished or not is stored in advance and when the temperature estimation processing is not normally finished, a control amount of steering assistance force control is limited for a prescribed period of time when the ignition is turned on next time.例文帳に追加

そして、この電源自己保持中の温度推定処理が正常終了したか否かを記憶しておき、当該温度推定処理が正常に終了しなかった場合には、次回のイグニッションＯＮ時の操舵補助力制御の制御量を所定期間制限する。 - 特許庁

To provide a semiconductor substrate capable of suppressing the warpage occurring thereon due to high temperature processing without depending on a thick film on the substrate, even when high temperature processing is required after forming a contact electrode film that covers substantially the whole rear surface of the substrate, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

基板裏面の略全面を覆うコンタクト電極膜の成膜後に高温処理を必要とする場合であれ、基板の膜厚によることなく同処理の加熱に起因する基板の反りを抑制することのできる半導体基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

A radiation-detecting value when the processing liquid is discharged really from the nozzle 5 to detect its temperature by the radiation thermometer 6 is stored in a memory in association with a thermocouple-detecting value when the temperature of the processing liquid is measured by means of a thermocouple thermometer.例文帳に追加

ノズル５から実際に処理液を吐出させ、その処理液の温度を放射温度計６により検出したときの放射検出値が、当該処理液の温度を熱電対温度計により測定したときの熱電対検出値に対応付けて、メモリに記憶されている。 - 特許庁

To provide a compact, thin, light and flexible dye-sensitized solar cell having a dye sensitized semiconductor electrode wherein a semiconductor film with excellent electron transfer performance is formed and high generation efficiency by a comparatively low-temperature processing without requiring high temperature processing.例文帳に追加

高温処理を要することなく比較的低温の処理で、電子の授受性能に優れた半導体膜が形成された色素増感型半導体電極を有し、発電効率が高く、しかも、小型、薄肉軽量化、フレキシブル化が可能な色素増感型太陽電池を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming device where the magnification of an image is made correct on both sides of paper where double-sided printing processing has been performed after the temperature of the paper is restored to ambient temperature and where also arithmetic processing time for such adjustment is easily secured and which has few restrictions in terms of constitution.例文帳に追加

両面プリント処理を受けた用紙の温度が周囲温度に戻った後にその用紙の両面で画像の倍率が正しくなる上、その調整のための演算処理時間を容易に確保でき、かつ構成上の制約が少ない画像形成装置を提供する。 - 特許庁

When housing a substrate 5 with the insulating film damaged by plasma processing inside a chamber 1, introducing restoration agent steam into the chamber, heating the inside of the chamber and executing the damage restoration processing of the insulating film, the temperature of the inner wall of the chamber 1 is made higher than the temperature of the substrate.例文帳に追加

プラズマ処理によりダメージを受けた絶縁膜が存在する基板５をチャンバー１内に収め、チャンバー内に回復剤蒸気を導入し、チャンバー内部を加熱して、前記絶縁膜のダメージ回復処理を行う際に、チャンバー１の内壁の温度を基板の温度よりも高温とする。 - 特許庁

The inner wall of an reactor is heated up to optimal temperature by plasma discharging prior to etching processing, and while taking a period of etching operation stoppage (idling) into account, the generation of plasma 402 is intermittently repeated during idling, so as to keep the surface temperature of inner wall of a vacuum processing chamber.例文帳に追加

エッチング処理に先立ってプラズマ放電による加熱によってリアクタ内壁温度を最適な温度にまで加熱し、エッチング処理動作停止（アイドリング）中を判断して、アイドリング中にも間欠的にプラズマ生成４０２を繰り返して、真空処理室の内壁表面温度を維持する。 - 特許庁

Further the heating control means 33 stops the combustion in the burner 2, and operates an air supplying and exhausting fan 6 with a rotating frequency lower than that in a post-purging processing in stopping the heating operation, to perform the post-purging processing, when the temperature of the glass top plate 4 becomes higher than the upper limit temperature.例文帳に追加

そして、ガラス天板４の温度が前記上限温度よりも高くなったときに、加熱制御手段３３は、バーナ２の燃焼を停止して、給排気ファン６を加熱運転停止時のポストパージ処理における回転数よりも低い回転数で作動させてポストパージ処理を行う。 - 特許庁

Also, a transfer function identification processing part 180 is configured to perform the identification processing of each transfer function G when the detected temperature T is included in each temperature range, and to make the estimated transfer function storage part 160 store the calculated estimate Gh of the transfer function.例文帳に追加

また、伝達関数同定処理部１８０は、検出温度Ｔがそれぞれの温度範囲に含まれる場合にそれぞれの伝達関数Ｇの同定処理を行い、算出されたそれぞれの伝達関数の推定値Ｇｈを推定伝達関数記憶部１６０に記憶させる。 - 特許庁

The exposure device is provided with a first blowout part 150a for blowing out a temperature-controlled gas toward a measurement processing region 120a in the alignment station 120, and a second blowout part 150b for blowing out a temperature-controlled gas toward an exposure processing region 111a in the exposure station 111.例文帳に追加

露光装置は、アライメントステーション１２０内の計測処理領域１２０ａに向けて温調された気体を吹出す第１吹出部１５０ａと、露光ステーション１１１内の露光処理領域１１１ａに向けて温調された気体を吹出す第２吹出部１５０ｂとを備える。 - 特許庁

A plurality of tanks 104 for storing a plurality of processing solution, severally, including, at least, a developing solution and a fixing solution, are provided, a temperature sensor 274 and a heater 272 are disposed in each tank, a reference temperature is set up for each processing solution, and the heaters 272 are each controlled so that the reference temperatures are attained.例文帳に追加

少なくとも現像液および定着液を含む複数の処理液をそれぞれ収容する複数のタンク１０４を備え、各タンクに温度センサ２７４およびヒーター２７２を配置し、処理液ごとに基準温度を設定し、前記基準温度になるようにヒーター２７２を制御する。 - 特許庁

In the logging device 20, the peripheral temperature data sent from the radio communication IC tag by a sensor are stored and held in a memory 24, and thereafter, when the information processing device 40 is connected, the peripheral temperature data stored and held in the memory 24 are outputted to the information processing device 40.例文帳に追加

ロギング装置２０においては、センサ付き無線ＩＣタグ１０から送信されてきた周囲温度データをメモリ２４に記憶・保持しておき、その後、情報処理装置４０が接続された場合に、メモリ２４に記憶・保持された周囲温度データを情報処理装置４０に出力する。 - 特許庁

This device 10 for attaching/detaching the on-vehicle information processing device calls user's attention in order not to attach a CPC 20 to the device 10 for attaching/detaching the on-vehicle information processing device when the temperature inside the vehicle exceeds a prescribed temperature when the CPC 20 is attached.例文帳に追加

車載用情報処理装置の着脱装置１０は、ＣＰＣ２０が取り付けられようとする際、車両内部の温度が所定の温度を超えている場合には、ＣＰＣ２０を車載用情報処理装置の着脱装置１０に取り付けないようにユーザに注意を喚起する。 - 特許庁

The limitation of them decrease the load of the call processing monitor control section 5 and the signal processing section 7, reduces heat generation of the wireless base station apparatus and prevents or relaxes the temperature rise.例文帳に追加

これらの制限により、呼処理監視制御部５と信号処理部７の負荷を減らし、無線基地局装置の発熱量を減少させ、温度上昇を防ぐもしくは緩和することができる。 - 特許庁

To obtain a flexible decorative sheet suppressed in the occurrence of an offensive smell, excellent in cracking resistance and strength, having flexibility and capable of being subjected to bending processing at the normal temperature without requiring special treatment such as watering or heat processing.例文帳に追加

臭気の発生を抑制し、耐クラック性、強度に優れる上、フレキシビリティがあり、水打ちや熱加工等の特殊な処理無し、常温において曲面加工が可能な化粧板を得る。 - 特許庁

In the above cure unit(a cure unit 3), the wafer W on which the application liquid is applied is put on a heat plate 32 in a first processing chamber S1 and bake processing is conducted by heating the wafer at a first temperature.例文帳に追加

前記硬化処理装置（キュアユニット３）において、第１の処理室Ｓ１の加熱プレート３２に塗布液が塗布されたウエハＷを載置して、第１の温度に加熱することによりベーク処理を行う。 - 特許庁

To provide a method for reforming an arbitrary area of the surface of a diamond at room temperature in a short processing time of about 1/10 of the conventional processing time without causing the generation of crystal cracks.例文帳に追加

ダイヤモンド表面の任意の領域を、結晶欠陥を生成することなく、室温で、また従来に比しその１／１０程度の短時間の処理時間で、改質する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a granular solid processing agent by which photographic quality and properties are maintained even when the processing agent is stored in an environment at low temperature and low humidity, and which is hardly broken even by shaking during transit, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

低温低湿度環境に置かれても写真品質特性が維持され、かつ輸送時の揺れにも破損しにくい顆粒型固体処理剤及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The apparatus for the thermal processing of a substrate surface involves irradiating the substrate surface 32 with first and second images 150, 250 to process regions of the substrate surface 32 at a substantially uniform peak processing temperature along a scan path.例文帳に追加

通常基板表面３２を第１および第２像１５０，２５０で照射して基板表面３２の領域をスキャンパスに沿って実質的に均一なピーク処理温度で処理することを含む。 - 特許庁

And by adopting the plasma processing, in which a temperature rise of the shroud tube 18 is smaller as compared with heat-treatment by burner irradiation, cooling time required after the plasma processing can be short enough.例文帳に追加

しかも、バーナ照射による加熱処理に比してシュラウドチューブ１８の温度上昇が小さいプラズマ処理の採用により、プラズマ処理後に必要な冷却時間を十分に短いものとする。 - 特許庁

The load distribution server determines that a computer with lower exhaust temperature has larger load tolerance and controls, upon accepting a processing request from a client, to request the processing to a computer with large load tolerance.例文帳に追加

負荷分散サーバは、排気温度が低いコンピュータほど負荷余裕が大きいと判断し、クライアントからの処理要求を受けた場合には、負荷余裕が大きいコンピュータに処理を依頼するように制御する。 - 特許庁