「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an egg inspection device capable of highly accurately detecting an abnormal egg even in the case that the temperature of the device processing transmission light fluctuates.例文帳に追加

透過光を処理するデバイスの温度が変動した場合であっても、異常卵を高精度に検出し得る検卵装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image reading apparatus that can suppress a reduction in read processing speed while suppressing a rise in the temperature of a paper feeding motor.例文帳に追加

給紙用のモータの温度上昇を抑制しつつ、読取処理速度の低下をも抑制することが可能な画像読取装置を提供する。 - 特許庁

To improve the state where ON-OFF frequency in a heater for temperature control to a development processing liquid is made incessant, and to improve the service life of the heater.例文帳に追加

現像処理液の温度調整のためのヒーターのＯＮ−ＯＦＦ回数が頻繁になる状態を改善し、ヒーターの寿命向上を図る。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING REFLECTIVITY AND TEMPERATURE, AND FOR PROCESSING SUBSTRATE HEAT例文帳に追加

反射率計測装置、温度計測装置および基板熱処理装置ならびに反射率計測方法、温度計測方法および基板熱処理方法 - 特許庁

The transmitter 3 is provided with a pressure sensor 10, a temperature sensor 11, a processing part 12, a transmission circuit 13, an antenna part 14 and a monitoring circuit 15.例文帳に追加

送信機３は、圧力センサ１０と温度センサ１１と処理部１２と送信回路１３とアンテナ部１４とモニタ回路１５とを備えている。 - 特許庁

Measurement processing is activated to decide that the user is touching the device in advance on the basis of sensed data from an optical sensor, a pressure sensor, and a temperature sensor (S3).例文帳に追加

計測処理を起動して光センサ、圧力センサ、温度センサからのセンシングデータに基づき、接触しているか否かを判断しておく（Ｓ３）。 - 特許庁

To provide a styrene resin laminated sheet having excellent laminated sheet moldability, secondary processing moldability and excellent high temperature rigidity of a final product.例文帳に追加

積層シート成形性、二次加工成形性に優れ、且つ最終製品の高温剛性にも優れたスチレン系樹脂積層シートを提供する。 - 特許庁

A driving apparatus 1 includes: a planet roller type power transmission unit; a temperature sensor 5b; a delay time deciding part 103; and an image processing control part 104.例文帳に追加

駆動装置１は、遊星ローラ式動力伝達ユニット、温度センサ５ｂ、遅延時間決定部１０３及び画像処理制御部１０４を含む。 - 特許庁

To provide a substrate processing method for forming a silicon nitride film having a small etching grade against an HF system solution without raising a film forming temperature.例文帳に追加

ＨＦ系溶液に対するエッチングレートが小さいシリコン窒化膜を、成膜温度を上げることなく形成する基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of supplying a sulfic acid/hydrogen peroxide mixture solution having a liquid temperature suitable for peeling of a resist to a substrate.例文帳に追加

レジストの剥離に適した液温の硫酸過酸化水素水を基板に供給することができる、基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

The high-temperature exhaust gas extracted from the ash treatment furnace 8 for processing the incineration ash, is blown into a combustion chamber 3 of the waste incinerator 70.例文帳に追加

廃棄物焼却炉７０の燃焼室３内に、焼却灰の処理を行う灰処理炉８内から抜き出した高温排ガスを吹き込む。 - 特許庁

The resin solution for processing a rubber is prepared by dissolving a novolac phenolic resin having a softening temperature of ≥84°C in an organic solvent.例文帳に追加

軟化点が８４℃以上であるノボラック型フェノール系樹脂を有機溶媒に溶解してなることを特徴とするゴム加工用樹脂溶液。 - 特許庁

A capacitor dielectric film 110 employed for a storage capacitor 1 as a trench capacitor is formed of successive layers subjected to a temperature processing.例文帳に追加

トレンチキャパシタとしてのストレージキャパシタ１に用いられるキャパシタ絶縁膜１１０は、温度処理が施された連続する層から形成される。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus capable of highly precisely controlling the temperature of a surface of a shower head facing a processing space to a setup value.例文帳に追加

処理空間に面するシャワーヘッドの表面の温度を設定温度に精度よく制御することができる成膜装置を提供すること。 - 特許庁

A signal processing section 26 multiplies the gain with the fixed pattern noise at the standard temperature and subtracts the product from an output signal of the CCD 22.例文帳に追加

信号処理部２６は、標準温度の固定パタンノイズに対してゲイン値を乗算し、この積をＣＣＤ２２の出力信号から引き算する。 - 特許庁

To improve convergent performance to the target temperature of indoor air, in an air-conditioning system composed of a latent heat load processing system having an adsorption heat exchanger and mainly processing an indoor latent heat load and a sensible heat load processing system having an air heat exchanger and mainly processing an indoor sensible heat load.例文帳に追加

吸着熱交換器を有し主として屋内の潜熱負荷を処理する潜熱負荷処理システムと、空気熱交換器を有し主として屋内の顕熱負荷を処理する顕熱負荷処理システムとからなる空気調和システムにおいて、屋内の空気の目標温度に対する収束性を向上させる。 - 特許庁

The wafer case housing wafers is set in the processing chamber of the processing device after it is cooled, the pressure of the processing chamber is reduced so that the temperature of the wafer case may be transmitted to the wafer, and the processing chamber is heated in vacuum state.例文帳に追加

冷却が可能で熱源からの光エネルギーを透過するウエハーケースと減圧から加圧まで調整可能な処理室を用意し、ウエハーを収納したウエハーケースを冷却後熱処理装置の処理室にセットし、ウエハーケースの温度がウエハーに伝わらないよう処理室の圧力を下げ真空状態にして加熱する。 - 特許庁

To suppress the production variation between lots in a method of forming a coating film by applying a liquid crystalline compound dissolved in an organic solvent, keeping the compound at a temperature higher than a coating temperature and after that, performing aligning and fixing processing.例文帳に追加

有機溶媒に溶解した液晶性化合物を塗布したのち、塗布温度より高い温度に保持し、その後に配向固定処理を行う塗布フィルムの製造方法において、ロット間の製造ばらつきを抑制する - 特許庁

Then, after a lapse of time of a prescribed length tb, the system waits for operation of a operation button (258, 260), and when the operation button is pressed, the current room temperature T0 is substituted into the transmission room temperature T (262) and then the processing returns to the step 254.例文帳に追加

その後、所定時間ｔ_bの経過待ち及び操作ボタンの操作待ちを行ない（258,260）、操作ボタンが操作された場合は送出室温Ｔに現在の室温Ｔ_0を代入した（262）後にステップ254へ戻る。 - 特許庁

A heater 9 of a resistance heating type is provided around the outer periphery of a processing chamber 3 to heat an atmosphere within the chamber 3 and to increase the temperature of the entire semiconductor substrate 1 to a level nearly corresponding to the temperature (HF: 50°C) of the chemical solution.例文帳に追加

処理チャンバー３の外周に抵抗加熱方式のヒーター９を配置し、処理チャンバー３内の雰囲気を熱し、半導体基板１全体を薬液温度（ＨＦ：５０℃）と同じ５０℃相当にまで上昇させる。 - 特許庁

To provide a fuel cell system that prevents a cooling medium whose temperature is equal to or lower than a first predetermined temperature from being sent in a fuel cell during sweeping processing, and also prevents generated water from freezing in the fuel cell.例文帳に追加

掃気処理で第１所定温度以下の冷却媒体が燃料電池に送り込まれるのを防止し、燃料電池の内部で生成水が凍結するのを防止できる燃料電池システムを提供する。 - 特許庁

In toast course processing, the temperature of a range baking dish which is installed in a heating chamber and on which a food is placed is detected at starting heating and a preheating time Y:TM for the range baking dish is determined in accordance with the detected temperature (S302).例文帳に追加

トーストコース処理では、加熱開始時に、加熱室内に設置され食品を載置するレンジ焼き皿の温度が検知され、当該検知温度に基づいてレンジ焼き皿の予熱時間Ｙ：ＴＭが決定される（Ｓ３０２）。 - 特許庁

To provide a temperature adjustment controller wherein, related to substrate processing equipment comprising a plurality of process chambers, the temperature adjustment process for all chambers are controlled by one unit, while easily coping with addition of a chamber and specification change.例文帳に追加

複数の処理チャンバをもつ基板処理装置において、全チャンバの温度調節プロセスを１台で制御でき、かつチャンバの増設や仕様変更にも容易に対応できる温度調節コントローラを提供する。 - 特許庁

To provide a white balance control apparatus for applying the linear interpolation of a color temperature by strobe light and a color temperature of external light to pixels imaged at strobe lighting so as to obtain a white balance coefficient by each pixel thereby carrying out proper white balance processing.例文帳に追加

ストロボ発光時に撮像された画素に対して、ストロボ光による色温度と外光の色温度の線形補間を施してホワイトバランス係数を画素毎に求め、適切なホワイトバランス処理を施す。 - 特許庁

In processing for temperature measuring position determination, at first, a 3D model for analysis of a machine tool body is created (S21), and when a temperature measurement block is set, a plurality of candidate points are set in every block (S22).例文帳に追加

温度測定位置決定の処理にあたっては、まず工作機械本体の解析用の３Ｄモデルが作成され（Ｓ２１）、温度測定ブロックが設定されると共に各ブロック毎に複数個の候補点が設定される（Ｓ２２）。 - 特許庁

The heat treatment apparatus has: a hot plate 50 for placing a substrate W and heating it; a lid 60 for covering the substrate W placed on the hot plate 50 and forming a processing chamber 41; and a temperature sensor 100 for measuring the temperature of the lid 60.例文帳に追加

基板Ｗを載置し加熱する熱板５０と、熱板５０上に載置された基板Ｗを覆い処理室４１を形成する蓋体６０と、蓋体６０の温度を計測する温度センサ１００とを有する。 - 特許庁

Temperature in a reaction chamber for processing silicon wafer in the furnace is kept at a prescribed film-forming temperature and a gas for forming film is introduced into the reaction chamber and prescribed films, such as Poly-Si film on the wafer are formed.例文帳に追加

炉内部でシリコンウェハを処理する反応室内の温度を所定の成膜温度に維持し、反応室内に成膜用ガスを導入してウェハの上に所定のＰｏｌｙ−Ｓｉ膜などの膜を形成する。 - 特許庁

In this temperature detection device 10, a temperature detection element 11 is equipped in a casing 110 with a substrate 120, an optical system 130, an InGaAs photodiode 141, an Si photodiode 142 and a signal processing part 150.例文帳に追加

温度検出装置１０は、温度検出素子１１において、筐体１１０内に、基板１２０，光学系１３０，ＩｎＧａＡｓフォトダイオード１４１，Ｓｉフォトダイオード１４２および信号処理部１５０を備える。 - 特許庁

Constant-temperature water traces a circulation path such as that it is supplied from a built-in tank 21 to a processing part 90 via a temperature regulating part 22, a circulation pump 23, and a pipe 80, and is returned to the built-in tank 21 again via the pipe 80.例文帳に追加

恒温水は内蔵タンク２１から温調部２２、循環ポンプ２３、配管８０を経て処理部９０に送給され、配管８０を経て再び内蔵タンク２１に帰還されるという循環経路を辿る。 - 特許庁

To provide a putting-fold device, a paper post-processing device, an image forming device, and an image forming system that are not affected by air temperature, humidity, a temperature of paper, water content of the paper, and the like, and put a cease without image peeling.例文帳に追加

気温や湿度、用紙の温度や含水率などの影響をうけずに、画像剥れがない折りを行うことができる筋付け装置、用紙後処理装置、画像形成装置、及び画像形成システムを提供する。 - 特許庁

During an interval from plug-in of a power receptacle 151 to a lapse of a prescribed time, when a temperature detected by an atmosphere temperature sensor 13 is low, heaters 11 and 12 are heated and, when it is high, the heaters are non-heated and perform general processing.例文帳に追加

電源コンセント１５１を入れてから所定時間経過までは、雰囲気温度センサ１３による検出温度が低ければヒータ１１，１２を加熱作動し高ければ非加熱とする通常処理を行う。 - 特許庁

Processing is performed by which the substitute gas is made to flow in a space between the rear surface of the substrate and the radiation temperature sensor for a fixed time by low flow rate, so as to allow a temperature difference between the center and the outer periphery of the substrate to become not larger than a prescribed value.例文帳に追加

前記基板裏面と前記放射温度センサとの間の空間に、前記基板の中央部と外周部との温度差が所定値以下になる低流量で一定時間置換ガスを流す処理をする。 - 特許庁

To provide an infrared temperature sensor in which component cost and assembly and processing cost are small, which is inexpensive, but has output variation tolerance, comparable to that of a conventional structure using a metal stem, to environmental temperature change.例文帳に追加

部材費および組立加工費が小さく安価でありながら、かつ、金属ステムを用いた従来構造と同程度の環境温度変化への出力変動耐性を有する赤外線温度センサを提供する。 - 特許庁

Thus, both temperature compensation control of the oscillator 1 and reception processing of the high frequency receiving device can be performed at the same time, and the oscillator having a high temperature coefficient is adaptable to the high frequency receiving device.例文帳に追加

この構成により、発振器１の温度補償制御と高周波受信装置の受信処理を両立させることができ、温度係数の大きい発振器を高周波受信装置に適応することが可能になった。 - 特許庁

To provide a low temperature plasma radiation device suitable for surface modification of a body to be processed in various materials and shapes, especially for surface processing for improving hydrophilicity and the like, and to provide a low temperature plasma radiation method.例文帳に追加

種々の材料・形状を持つ被処理体の表面改質、特に親水性を高めるための表面処理などに好適な低温プラズマ照射装置及び低温プラズマ照射方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laser beam machine that has small processing load on a controller side and that excels in machining shape and machining positional accuracy, even under temperature variation of an fθ lens caused by heat generation of the apparatus itself and change in ambient temperature.例文帳に追加

装置自体の発熱や環境温度変化によりｆθレンズの温度が変化する場合でも、制御装置側の処理負担が小さく、加工形状や加工位置精度に優れるレーザー加工機を提供すること。 - 特許庁

The processing means 51 having the γ correction ROM changes the γ correction table in accordance with a temperature signal 56 to prevent ink from being supplied too much or too little according to the environmental temperature change.例文帳に追加

γ補正ＲＯＭを有する処理手段５１では、温度信号５６に応じてγ補正テーブルの変更を行い、環境温度の変化に伴いインクが過大または過少に供給されることを防止する。 - 特許庁

When the pressure in the chamber 27 is reduced, pure water stored in a processing tank 1 evaporates and since evaporation heat is taken from the pure water and the temperature of pure water falls off, temperature of the substrate W can be lowered.例文帳に追加

チャンバ２７内を減圧すると、処理槽１に貯留している純水が蒸発し、その時に純水から気化熱が奪われて純水の温度が低下するので、基板Ｗの温度を低くさせることができる。 - 特許庁

The motor driver 34 also has an inner temperature detecting circuit 45 which delivers an HW signal when the inner temperature T exceeds a threshold level Tb (<Ta) just before the thermal shut down processing is actuated.例文帳に追加

また、モータドライバ３４は内部温度検出回路４５を有し、内部温度検出回路４５はサーマルシャットダウン処理が作動する手前で、内部温度Ｔが閾値Ｔｂ（＜Ｔａ）を超える場合にＨＷ信号を出力する。 - 特許庁

When the temperature detected by the temperature detector 4 is low, a frame rate adjustment means 5 in an image processing circuit 2A stepwise thins frames to decrease a frame rate of a moving picture video image imaged by the camera 1.例文帳に追加

温度検出器４で検出した温度が低い場合に、カメラ１で撮像した動画映像について、画像処理回路２Ａ内のフレームレート調整手段５で段階的にフレームを間引いてフレームレートを低下させる。 - 特許庁

To provide thermally expansible microcapsules having a high maximum foaming temperature, excellent in heat resistance without breaking and shrinking in a high temperature region or during forming processing, and a method for producing the thermally expansible microcapsules.例文帳に追加

最大発泡温度が高く、耐熱性に優れ、高温領域や成形加工時においても破裂、収縮することのない熱膨張性マイクロカプセル及び熱膨張性マイクロカプセルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent running loss in a heated object by making heat processing of a predetermined temperature from immediately after the starting of insertion of the object, by avoiding fall of the surface temperature of the heat roller at the time of insertion of the object.例文帳に追加

被加熱体の挿通当初における熱ローラの表面温度の低下を避けて、挿通開始直後から所定の温度どおりの熱加工を可能とし、もって被加熱体のランニングロスを防ぐことを目的とする。 - 特許庁

When it is detected in the step 102 that the temperature of the ramp 25 reaches the set temperature, heating of the ramp 25 is stopped (step 104), execution of load/unload is permitted (step 105), and normal processing is started (step 106).例文帳に追加

ステップ１０２においてランプ２５の温度が設定温度に達したことを検出した場合、ランプ２５の加熱を停止し（ステップ１０４）、ロード／アンロードの実施を許可し（ステップ１０５）、通常の処理を開始する（ステップ１０６）。 - 特許庁

A diving information processing part 22 searches for the depth during diving, a water temperature, a maximum water depth, a diving start time, and a non-decompression diving enabling time based on detection results of the pressure sensor 11 and the temperature sensor 12.例文帳に追加

潜水情報処理部２２は、圧力センサ１１及び温度センサ１２の検出結果に基づいて潜水中の潜水深度、水温，最大水深、潜水開始時間、無減圧潜水可能時間が求められる。 - 特許庁

The method for roasting the fish includes attaching wheat flour on the surface of the pacific saury as a preparatory processing of a roasting step to form a thin film, baking the gluten of the wheat flower on the surface of the pacific saury, and then roasting at a temperature condition of surrounding temperature of 100 to 130°C for three hours.例文帳に追加

また、魚を長時間低温で焼く方法もあるが、焼く工程で榮養分や水分の流出が起こる問題点がありこれらを改善したサンマの小生方法を提供する。 - 特許庁