「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a substrate processing apparatus, capable of improving the uniformity of substrate processing by enhancing the uniformity of the temperature distribution of a substrate mount member, and to provide a manufacturing method of a semiconductor device employing the same.例文帳に追加

基板載置部材の温度分布の均一性を向上させ、基板の処理の均一性を向上をさせることができる基板処理装置およびそれを使用した半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Data value conversion processing of the detection signal of the throttle sensor 16 is performed by the interruption caused by the completion of A/D conversion, and data value conversion processing of the detection signal of the water temperature sensor 14 is performed by the timer interruption.例文帳に追加

そして、Ａ／Ｄ変換完了による割り込みにてスロットルセンサ１６の検出信号のデータ値変換処理を行ない、タイマ割り込みにて水温センサ１４の検出信号のデータ値変換処理を行なう。 - 特許庁

To provide a processing method for wafers wherein such a highly clean silicon wafer can be obtained having a low resistance that a metal impurity contained inside a silicon wafer is captured by the processing method, without performing any high-temperature heat treatment of the silicon wafer after forming a polysilicon film on the silicon wafer.例文帳に追加

ポリシリコン膜を成膜した後に高温熱処理を行うことなく、シリコンウェーハ内部の金属不純物を捕獲し、高清浄低抵抗のシリコンウェーハが得られるシリコンウェーハの加工方法を提供する。 - 特許庁

In the processing apparatus 1, under a condition that the flow rate of the ozone containing gas is constant, an ignition in the chamber 24 is detected based on a differential pressure between a gas supply line 11 and an exhaust line 12 of the high temperature processing chamber 24.例文帳に追加

プロセス装置１においては前記オゾン含有ガスの流量が一定のもとで高温処理チャンバ２４のガス供給ライン１１と排気ライン１２の差圧に基づき当該チャンバ２４における発火が検出される。 - 特許庁

Next, nitrogen is blown at a high speed into the closed processing vessel 12, placed under the low temperature condition to blow out and discharge the ultrapure water or the like remaining in the closed processing vessel 12 (remaining solution removal step S3).例文帳に追加

つぎに、低温状態下にある密閉処理容器１２内に窒素を高速で吹き込んで、密閉処理容器１２内に残存する超純水等を吹き飛ばして排出する（残存液除去工程 Ｓ３）。 - 特許庁

To provide a technology for supplying cold air to each information processing apparatus stored in a rack in just proportion so that the cold air reaches the upper part of the rack at a temperature required for cooling the information processing apparatuses.例文帳に追加

ラックに収容された各情報処理機器へ冷気を過不足なく、かつラックの上部まで情報処理機器の冷却に必要な温度で到達するように供給する技術を提供することを課題とする。 - 特許庁

To obtain an apparatus and a method for adjusting temperature of a processing solution in an automatic developing system by which energy saving can be attained and deterioration of a prescribed processing solution such as a liquid developer can be suppressed.例文帳に追加

省エネルギー化を図り、現像液等の所定の処理液の劣化を抑えることのできる自動現像システムの処理液温度調整装置及び処理液温度調整方法を得ることを目的とする。 - 特許庁

The method further includes the step of, after that, in the same processing chamber, or after disposing the base material on which the Co film is deposited in another processing chamber, annealing this base material in a mixture gas atmosphere containing ammonia gas and hydrogen gas at another predetermined temperature.例文帳に追加

その後、同一の処理室内で、またはＣｏ膜が成膜された基材を他の処理室内に配置し、この基材をアンモニアガスと水素ガスとを含む混合ガス雰囲気中にて他の所定温度でアニールする。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a semiconductor device in which hydrogen can be supplied sufficiently to the interface of the gate insulating film and the semiconductor substrate of a transistor, without having to elevate the processing temperature, while shortening the processing time.例文帳に追加

処理時間が短く、かつ処理温度を高温にしなくてもトランジスタのゲート絶縁膜と半導体基板の界面に水素を十分に供給することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a water-containing substance drying processing device capable of efficiently and continuously drying water-containing wastes in a uniform state without temperature difference in a tank, though a vertical type drying processing device is applied, and the wastes can be easily discharged from the tank.例文帳に追加

縦型の乾燥処理装置であり、槽内からの廃棄物の排出が容易でありながら、含水した廃棄物を槽内の温度差をなくし均一な状態で効率良く連続的に乾燥処理する。 - 特許庁

To provide a ceramic heater for a semiconductor manufacturing apparatus in which flatness of a wafer placing surface is improved in a high temperature zone for processing a wafer in a semiconductor manufacturing step and the soaking performance on the surface of a wafer during thermal processing is improved.例文帳に追加

半導体製造工程でウエハを処理する高温域においてウエハ載置面の平面度を高め、加熱処理時におけるウエハ表面の均熱性を高めた半導体製造装置用セラミックスヒーターを提供する。 - 特許庁

The printing suspension means waits until the number of printed sheets or the printing time at a time point when it is determined that the end-part temperature is raised reaches the threshold, and executes the printing suspension processing simultaneously with the image quality adjusting processing.例文帳に追加

印刷中断手段は、端部温度が上昇していると判断した時点での印刷枚数または印刷時間が閾値に達するまで待機し、画質調整処理と同時に印刷中断処理を実行する。 - 特許庁

The first processing is a process for lowering a target operation frequency of a humidity-conditioning compressor, and lowering a target evaporation temperature in a user side heat exchanger.例文帳に追加

第１処理は、調湿用圧縮機の目標運転周波数を下げ、かつ、利用側熱交換器における目標蒸発温度を下げる処理である。 - 特許庁

To provide a method for improving uniformity of a processing speed for cooling a wafer supporter at a uniform temperature in a capacitively coupled plasma reactor.例文帳に追加

容量結合プラズマリアクタにおいて、ウエハ支持体を均一な温度で冷却する加工速度の均一性向上をすることができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus capable of more stably improving image quality of an area including a skin color even when a color temperature of a light source is changed.例文帳に追加

光源の色温度が変化しても肌色を含む領域の画質をより安定的に向上させることが可能となる画像処理装置を提供する。 - 特許庁

A bearing device 1 as the rotator device is equipped with an inner ring 2, an outer ring 3, the rolling body 4, a temperature detection part 5, a reception part 6 and a processing device 7.例文帳に追加

回転体装置としての軸受装置１は内輪２と外輪３と転動体４と温度検出部５と受信部６と処理装置７を備えている。 - 特許庁

When pre-heat processing is started, the Tcave rises to TM, and even if the temperature of a microwave oven tray rises more than it, the Tcave becomes constant.例文帳に追加

予熱処理が開始されると、ＴｃａｖｅはＴＭまで上昇した後、それ以上レンジ焼き皿の温度が上昇しても、Ｔｃａｖｅで一定となる。 - 特許庁

To provide a plasma processing device which is capable of monitoring and controlling the state of plasma with high accuracy even when the external surface of the device varies in temperature.例文帳に追加

装置外表面の温度が変化した場合でも、高精度にプラズマ状態をモニタして管理することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To enable an air flow flowing toward an exhaust vent to be uniformly formed in a processing chamber so as to make a substrate such as a wafer or the like uniform in heating temperature distribution throughout its surface.例文帳に追加

排気口へと流れる気流が処理室内において均等に形成されるように制御し，ウェハ等の基板面内の加熱温度を均一にする。 - 特許庁

When the temperature of the driver IC 52 becomes higher than Toff after performing a printing processing to a paper, a stop section 66 stops the drive of the driver IC 52.例文帳に追加

用紙に対して印刷処理を行った後にドライバＩＣ５２の温度がＴｏｆｆ以上となると、停止部６６がドライバＩＣ５２の駆動を停止させる。 - 特許庁

A nuclear reactor start-up monitoring system 22 includes: a computing processing device 33; a moderator temperature reactivity coefficient determining device 23; and an output information presenting device 32.例文帳に追加

原子炉起動監視装置２２は、演算処理装置３３、減速材温度反応度係数判定装置２３及び出力情報作成装置３２を有する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus in which the top surface of a placing pedestal can be processed readily in a smooth shape and lowering of the temperature of the peripheral portion of a substrate can also be prevented.例文帳に追加

載置台の上面を平滑な形状に容易に加工でき、また、基板周縁部の温度低下も防止できるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

According to the above processing, since the actual compression ratio is reduced by delaying the closing of the intake valve 52, the temperature and pressure at about the compression top dead center are reduced.例文帳に追加

上記の処理によれば、吸気弁５２の遅閉じより、実圧縮比が低下するので、圧縮上死点近傍の温度および圧力が低下する。 - 特許庁

To provide, for instance, an application/development apparatus capable of applying resist on the surface of a substrate with the temperature and humidity of the substrate kept very accurately, and improving substrates in processing uniformity.例文帳に追加

例えば塗布、現像装置において、基板の温湿度を高精度に維持した状態で塗布処理を行い、処理の均一性を向上させること。 - 特許庁

To provide technology capable of preventing poor fixation by suppressing the temperature drop to the utmost in a fixing device that may arise when image forming processing is started.例文帳に追加

画像形成処理の開始時に生起されうる定着装置の温度の落ち込みを極力抑え、定着不良を防止可能な技術を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a cross-linked polymer, by which a polymer can well be crosslinked, even when a cross-linking auxiliary agent volatilizing at a temperature for processing the polymer is used.例文帳に追加

ポリマの加工温度で揮発する架橋助剤を用いてもポリマを良好に架橋させることができる架橋ポリマの製造方法を提供する。 - 特許庁

A control unit performs cold storage processing of a cold storage medium by driving a pump (Step S2), when the temperature in a cabin is stable (YES in Step S1).例文帳に追加

コントロールユニットは、車室内の温度が安定している場合には（ステップＳ１でＹＥＳ）、ポンプを駆動して蓄冷用媒体の蓄冷処理を行う（ステップＳ２）。 - 特許庁

By performing the primary air-based activation processing at a high temperature of 450-550 °C, coarse meso-holes are produced in the surface of a carbide raw material.例文帳に追加

第１次空気賦活処理を４５０〜５５０℃の高温度で行うことにより、炭素化物原料の表面部分に粗いメソ孔が生成される。 - 特許庁

To provide a power introduction terminal which does not break even under a high temperature environment when supplying high electric power, and a plasma processing device equipped with the same.例文帳に追加

高電力供給時の高温環境下でも破損しない電力導入端子およびそれを備えたプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

In the second compensation mode with priority on the processing time required for the compensation, the difference between the measured result and an average value in the record for the corresponding temperature range is derived (#7 to #9).例文帳に追加

要処理時間を優先する第２補正モードにおいては，測定結果と，該当する温度帯域の履歴の平均値との差を求める（＃７〜＃９）。 - 特許庁

To provide a high-heat-resistant electronic device in which a junction thermal processing temperature is low and a high melting point can be ensured after solidification, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

接合熱処理温度が低くて済み、凝固後は高い融点を確保し得る高耐熱性の電子デバイス及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

An operation processor is constituted so as to perform operation processing of measured values from the two or more positions for determining the temperature of the heat source under the surface.例文帳に追加

演算処理器は、表面下の熱源の温度を決定するため２つ以上の位置からの測定値を演算処理するように構成されている。 - 特許庁

To provide a high-heat-resistant electronic device in which a junction thermal processing temperature is low and a high melting point can be ensured after solidification, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

接合熱処理温度が低くて済み、凝固後は高い融点を確保し得る高耐熱性の電子デバイス及びその製造方法の提供。 - 特許庁

This radio-controlled timepiece module 1 is equipped with an antenna 2, a receiving part 3, a clocking part 4, a temperature measuring part 5, a storage part 6 and a control processing part 7.例文帳に追加

この電波時計モジュール１は、アンテナ２と、受信部３と、計時部４と、温度測定部５と、格納部６と、制御処理部７とを具備する。 - 特許庁

To provide an information processing device allowing fan control realizing both of compliance with cooling performance and reduction in discontinuous sound during increase of temperature.例文帳に追加

温度上昇時の冷却性能の追従性と非連続音の低減とを両立させたファン制御を可能とした情報処理装置を提供する。 - 特許庁

The object W is rapidly heated in a short period of time in the heating furnace 1 and reaches the predetermined process temperature and can promote increase of heating processing quantity.例文帳に追加

被加熱物Ｗは、加熱炉１内において短時間で急速に加熱され、均一に所定の処理温度に達するので、加熱処理量の増加が図れる。 - 特許庁

To form a thin film uniformly by making uniform the temperature of a substrate or the gas supply thereto at the time of performing a specified processing of the substrate in a vertical furnace.例文帳に追加

縦型炉内において基板に所定の処理を施す場合に、基板の温度や基板へのガスの供給量を均一にし、均一な薄膜の形成する。 - 特許庁

The signal processing circuit 40 includes amplitude detection and excitation detection means 41, excitation means 42, temperature measuring means 43, and duty ratio correcting means 44.例文帳に追加

信号処理回路４０は、振幅検出・励振検出手段４１と、励振手段４２と、温度測定手段４３と、デューティ比補正手段４４とを有する。 - 特許庁

The optimal target value setting processing is a process for setting a target operation frequency and a target evaporation temperature so as to minimize power consumption.例文帳に追加

最適目標値設定処理は、消費電力が最小となるように目標運転周波数と目標蒸発温度とを設定する処理である。 - 特許庁

Therefore, heat processing can be carried out at the predetermined temperature from immediately after start of the insertion, and the running loss in the heated substance can be prevented.例文帳に追加

したがつて被加熱体の挿通開始直後から所定の温度で熱加工することができるようになり、被加熱体のランニングロスを防ぐことができる - 特許庁

To provide an aluminum heated substrate support suitable for use in high temperature semiconductor processing systems and method of manufacturing the same.例文帳に追加

高温の半導体プロセスシステムにおける使用に適している加熱型アルミニウム基板支持体と、このような基板支持体を製造する方法とを提供する。 - 特許庁

To provide a liquid lubricant excellent in lubricating properties, having quick-drying properties, hardly causing influences on post-process and usable for processing at temperature below 0°C.例文帳に追加

潤滑性に優れると共に速乾性を有し、後工程への影響が少なく、かつマイナス温度での加工にも使用可能な液体潤滑油を提供する。 - 特許庁

To prevent a semiconductor layer from being distorted or cracked by a void in a trench even if high-temperature processing of 1,000°C or above is impossible.例文帳に追加

１０００℃以上の高温処理ができないものにおいても、トレンチ内のボイドによって半導体層に歪みやクラックが発生してしまわないようにする。 - 特許庁

A substrate 101 is heated hotter than the temperature inside a processing container and the remaining rinsing liquid 103a impregnated inside the pattern 101a is quickly discharged.例文帳に追加

基板１０１を処理容器内温度より高くなるように加熱し、パターン１０１ａ内に含浸している残存リンス液１０３ａを迅速に放出させる。 - 特許庁

If the determination result indicates that "It's not standard, " the fixing temperature is raised higher than that of the standard toner and the number of sequential processing is reduced (essential).例文帳に追加

判定結果が「標準ではない」の場合は、標準トナーよりも定着温度を高くし、かつ連続処理枚数の数を減少させる（必須）。 - 特許庁