「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain an apparatus and a method for adjusting temperature of a processing solution in an automatic developing system by which energy saving can be attained and deterioration of a prescribed processing solution such as a liquid developer can be suppressed.例文帳に追加

省エネルギー化を図り、現像液等の所定の処理液の劣化を抑えることのできる自動現像システムの処理液温度調整装置及び処理液温度調整方法を得ることを目的とする。 - 特許庁

The image forming apparatus is configured to change the target fixing temperature based on the type and the gray scale value of gray scale processing used for the image on the recording medium for every one each of the recording media subjected to fixing processing.例文帳に追加

定着処理が行われる記録媒体１枚ごとに、記録媒体上の画像に使用されている階調処理の種類と階調値とに基づいて、前記定着目標温度を変更するように構成した。 - 特許庁

To provide a liquid heating unit capable of monitoring the temperature of a liquid storage tank or pipe in which liquid is heated by permeation of radiated light, to provide a liquid processing apparatus including the same, and to provide a liquid processing method.例文帳に追加

放射光の透過により内部の液体が加熱される液体貯留槽または導管の温度を監視することができる液体加熱ユニット、これを備える液処理装置、および液体処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an automatic processing machine in which the proper time for replacement or cleaning of a filter of a processing tank can easily be judged without requiring a sensing means such as a flow meter or work following a work procedure in abnormality of temperature.例文帳に追加

流量計の様な検出手段や、温度異常時の作業手順に添った作業を必要とせずに、処理層フィルタの交換や清掃時期の判断が容易にできる自動現像機を提供する。 - 特許庁

The temperature of the processing solution is ≤18°C during the ultrasonic washing, so particles sticking on the substrate are removed with a physical force resulting from a cavitation phenomenon of the gas dissolved in the processing solution.例文帳に追加

前述の超音波洗浄においては、処理溶液の温度が１８℃以下であるため、処理溶液中の溶存ガスのキャビテーション現象に起因する物理力によって、基板に付着したパーティクルが除去される。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus, capable of improving the uniformity of substrate processing by enhancing the uniformity of the temperature distribution of a substrate mount member, and to provide a manufacturing method of a semiconductor device employing the same.例文帳に追加

基板載置部材の温度分布の均一性を向上させ、基板の処理の均一性を向上をさせることができる基板処理装置およびそれを使用した半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus capable of making a footprint small, eliminating the necessity of providing a special mechanism for separating an exhausted gas from and drainage, and hardly causing breakage due to thermal expansion even if a high-temperature processing liquid is used.例文帳に追加

フットプリントを小さくすることができ、排気と排液との分離機構を特別に設ける必要がなく、高温の処理液を用いた場合でも熱膨張による破損が生じ難い液処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a semiconductor device in which hydrogen can be supplied sufficiently to the interface of the gate insulating film and the semiconductor substrate of a transistor, without having to elevate the processing temperature, while shortening the processing time.例文帳に追加

処理時間が短く、かつ処理温度を高温にしなくてもトランジスタのゲート絶縁膜と半導体基板の界面に水素を十分に供給することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method further includes the step of, after that, in the same processing chamber, or after disposing the base material on which the Co film is deposited in another processing chamber, annealing this base material in a mixture gas atmosphere containing ammonia gas and hydrogen gas at another predetermined temperature.例文帳に追加

その後、同一の処理室内で、またはＣｏ膜が成膜された基材を他の処理室内に配置し、この基材をアンモニアガスと水素ガスとを含む混合ガス雰囲気中にて他の所定温度でアニールする。 - 特許庁

To provide a water-containing substance drying processing device capable of efficiently and continuously drying water-containing wastes in a uniform state without temperature difference in a tank, though a vertical type drying processing device is applied, and the wastes can be easily discharged from the tank.例文帳に追加

縦型の乾燥処理装置であり、槽内からの廃棄物の排出が容易でありながら、含水した廃棄物を槽内の温度差をなくし均一な状態で効率良く連続的に乾燥処理する。 - 特許庁

To provide a ceramic heater for a semiconductor manufacturing apparatus in which flatness of a wafer placing surface is improved in a high temperature zone for processing a wafer in a semiconductor manufacturing step and the soaking performance on the surface of a wafer during thermal processing is improved.例文帳に追加

半導体製造工程でウエハを処理する高温域においてウエハ載置面の平面度を高め、加熱処理時におけるウエハ表面の均熱性を高めた半導体製造装置用セラミックスヒーターを提供する。 - 特許庁

The printing suspension means waits until the number of printed sheets or the printing time at a time point when it is determined that the end-part temperature is raised reaches the threshold, and executes the printing suspension processing simultaneously with the image quality adjusting processing.例文帳に追加

印刷中断手段は、端部温度が上昇していると判断した時点での印刷枚数または印刷時間が閾値に達するまで待機し、画質調整処理と同時に印刷中断処理を実行する。 - 特許庁

To provide technology capable of preventing poor fixation by suppressing the temperature drop to the utmost in a fixing device that may arise when image forming processing is started.例文帳に追加

画像形成処理の開始時に生起されうる定着装置の温度の落ち込みを極力抑え、定着不良を防止可能な技術を提供する。 - 特許庁

By performing the primary air-based activation processing at a high temperature of 450-550 °C, coarse meso-holes are produced in the surface of a carbide raw material.例文帳に追加

第１次空気賦活処理を４５０〜５５０℃の高温度で行うことにより、炭素化物原料の表面部分に粗いメソ孔が生成される。 - 特許庁

This method of shape-stabilizing processing for cellulosic fiber comprises carrying out a steam treatment of the cellulosic fiber at a high temperature under a high pressure and then carrying out a liquid ammonia treatment.例文帳に追加

セルロース系繊維に高温高圧水蒸気処理を行い、次いで液体アンモニア処理を行うセルロース系繊維の形態安定加工方法。 - 特許庁

To provide a power introduction terminal which does not break even under a high temperature environment when supplying high electric power, and a plasma processing device equipped with the same.例文帳に追加

高電力供給時の高温環境下でも破損しない電力導入端子およびそれを備えたプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a cross-linked polymer, by which a polymer can well be crosslinked, even when a cross-linking auxiliary agent volatilizing at a temperature for processing the polymer is used.例文帳に追加

ポリマの加工温度で揮発する架橋助剤を用いてもポリマを良好に架橋させることができる架橋ポリマの製造方法を提供する。 - 特許庁

If the material of the endless metal belt 1 is marageing steel, the heat treatment temperature at the heating processing is set at 70 to 300°C.例文帳に追加

（２）無端金属ベルト１の材料がマルエージング鋼の場合、加熱処理に際して加熱処理温度を７０〜３００℃とした無端金属ベルトの製造方法。 - 特許庁

To form a thin film uniformly by making uniform the temperature of a substrate or the gas supply thereto at the time of performing a specified processing of the substrate in a vertical furnace.例文帳に追加

縦型炉内において基板に所定の処理を施す場合に、基板の温度や基板へのガスの供給量を均一にし、均一な薄膜の形成する。 - 特許庁

The signal processing circuit 40 includes amplitude detection and excitation detection means 41, excitation means 42, temperature measuring means 43, and duty ratio correcting means 44.例文帳に追加

信号処理回路４０は、振幅検出・励振検出手段４１と、励振手段４２と、温度測定手段４３と、デューティ比補正手段４４とを有する。 - 特許庁

To provide an aluminum heated substrate support suitable for use in high temperature semiconductor processing systems and method of manufacturing the same.例文帳に追加

高温の半導体プロセスシステムにおける使用に適している加熱型アルミニウム基板支持体と、このような基板支持体を製造する方法とを提供する。 - 特許庁

This radio-controlled timepiece module 1 is equipped with an antenna 2, a receiving part 3, a clocking part 4, a temperature measuring part 5, a storage part 6 and a control processing part 7.例文帳に追加

この電波時計モジュール１は、アンテナ２と、受信部３と、計時部４と、温度測定部５と、格納部６と、制御処理部７とを具備する。 - 特許庁

To provide an information processing device allowing fan control realizing both of compliance with cooling performance and reduction in discontinuous sound during increase of temperature.例文帳に追加

温度上昇時の冷却性能の追従性と非連続音の低減とを両立させたファン制御を可能とした情報処理装置を提供する。 - 特許庁

The object W is rapidly heated in a short period of time in the heating furnace 1 and reaches the predetermined process temperature and can promote increase of heating processing quantity.例文帳に追加

被加熱物Ｗは、加熱炉１内において短時間で急速に加熱され、均一に所定の処理温度に達するので、加熱処理量の増加が図れる。 - 特許庁

The optimal target value setting processing is a process for setting a target operation frequency and a target evaporation temperature so as to minimize power consumption.例文帳に追加

最適目標値設定処理は、消費電力が最小となるように目標運転周波数と目標蒸発温度とを設定する処理である。 - 特許庁

Therefore, heat processing can be carried out at the predetermined temperature from immediately after start of the insertion, and the running loss in the heated substance can be prevented.例文帳に追加

したがつて被加熱体の挿通開始直後から所定の温度で熱加工することができるようになり、被加熱体のランニングロスを防ぐことができる - 特許庁

To provide a liquid lubricant excellent in lubricating properties, having quick-drying properties, hardly causing influences on post-process and usable for processing at temperature below 0°C.例文帳に追加

潤滑性に優れると共に速乾性を有し、後工程への影響が少なく、かつマイナス温度での加工にも使用可能な液体潤滑油を提供する。 - 特許庁

To prevent a semiconductor layer from being distorted or cracked by a void in a trench even if high-temperature processing of 1,000°C or above is impossible.例文帳に追加

１０００℃以上の高温処理ができないものにおいても、トレンチ内のボイドによって半導体層に歪みやクラックが発生してしまわないようにする。 - 特許庁

A substrate 101 is heated hotter than the temperature inside a processing container and the remaining rinsing liquid 103a impregnated inside the pattern 101a is quickly discharged.例文帳に追加

基板１０１を処理容器内温度より高くなるように加熱し、パターン１０１ａ内に含浸している残存リンス液１０３ａを迅速に放出させる。 - 特許庁

If the determination result indicates that "It's not standard, " the fixing temperature is raised higher than that of the standard toner and the number of sequential processing is reduced (essential).例文帳に追加

判定結果が「標準ではない」の場合は、標準トナーよりも定着温度を高くし、かつ連続処理枚数の数を減少させる（必須）。 - 特許庁

To always make quantity of heat given to be constant without changing the temperature of a heat roll even when a processing speed is changed in a thermal laminating apparatus.例文帳に追加

サーマルラミネート装置において、加工速度が変化しても、熱ロールの温度を変更することなく付与する熱量を常に一定にすることが出来るようにする。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus for accurately measuring the temperature of a substrate to be processed on real-time basis without complication of apparatus structure.例文帳に追加

装置構成を複雑にすることなく、処理される基板の温度を正確かつリアルタイムに測定することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

Thus, high throughput can be kept by improving cooling efficiency, and a plurality of stages of processing objects can be uniformly cooled without causing a temperature difference between surfaces.例文帳に追加

これにより、冷却効率を高めてスループットを高く維持でき、且つ複数段の被処理体を面間の温度差が生じないように均一に冷却する。 - 特許庁

To provide a capacitor for improving heat-resistant properties where a characteristic change as a capacitor is small even after going through a high-temperature processing process, and to provide a method of manufacturing the capacitor.例文帳に追加

高温度処理プロセスを経てもキャパシタとしての特性変化が少ないような耐熱性を向上させたキャパシタとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a signal processing circuit which, when inputting a signal to a mixer to convert the signal into a desired frequency, can reduce a distortion of the input signal due to temperature.例文帳に追加

信号をミキサに入力して所望の周波数に変換する際に温度による歪みを軽減することのできる信号処理回路を得る。 - 特許庁

To display information showing characteristics of housing such as insulating property, remaining value of the facility and the like by processing the data of power generation, power usage and temperature inside and outside housing of the housing.例文帳に追加

住宅の発電、使用電力、室内外温度データを加工して、住宅の断熱性、設備の残余価値等の性質を示す情報を表示する。 - 特許庁

To provide a water-cooled stoker furnace having a structure adaptable to high temperature reduction processing and also usable as a gasification furnace of a gasification melting furnace.例文帳に追加

高温還元処理に適用可能な構造のストーカ炉とし、ガス化溶融炉のガス化炉としても使用できるようにした水冷式ストーカ炉を提供する。 - 特許庁

To provide an ethylene polymer which is excellent in balance of a mechanical strength and an extrusion load at processing and has a good taking-up property in a high temperature range.例文帳に追加

機械的強度と加工時における押出し負荷のバランスに優れ、高い温度領域での引き取り性が良好なエチレン系重合体を提供すること。 - 特許庁

To provide an information processing device capable of performing appropriate charge control, using temperature change in a power supply circuit of a battery and various parameters.例文帳に追加

バッテリの電源回路の温度変化と各種パラメータとを用いて適切な充電制御を行うことができる情報処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a signal processing circuit for precisely quantizing an input signal even when the amplitude of the input signal changes in accordance with temperature.例文帳に追加

入力信号の大きさが温度に応じて変化する場合であっても、入力信号を精度良く量子化できる信号処理回路を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus that suppresses excess in contrast and chroma without change of the color temperature, chroma, and hue after compression of a dynamic range.例文帳に追加

ダイナミックレンジの圧縮後に色温度や彩度・色相が変わることなく、コントラスト、彩度が過度になるのを抑制した画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To perform sufficient fixing processing by making the fixing temperature appropriate while maintaining the performance of on-demand, miniaturization, and low cost and by preventing breakage of a fixing member.例文帳に追加

オンデマンド，小型化，低コストの性能は維持しつつ、定着温度を適正にし、定着部材の破損を防止して、良好な定着処理を可能にする。 - 特許庁

When the temperature of the driver IC 52 becomes higher than Toff after performing a printing processing to a paper, a stop section 66 stops the drive of the driver IC 52.例文帳に追加

用紙に対して印刷処理を行った後にドライバＩＣ５２の温度がＴｏｆｆ以上となると、停止部６６がドライバＩＣ５２の駆動を停止させる。 - 特許庁

A nuclear reactor start-up monitoring system 22 includes: a computing processing device 33; a moderator temperature reactivity coefficient determining device 23; and an output information presenting device 32.例文帳に追加

原子炉起動監視装置２２は、演算処理装置３３、減速材温度反応度係数判定装置２３及び出力情報作成装置３２を有する。 - 特許庁

According to the above processing, since the actual compression ratio is reduced by delaying the closing of the intake valve 52, the temperature and pressure at about the compression top dead center are reduced.例文帳に追加

上記の処理によれば、吸気弁５２の遅閉じより、実圧縮比が低下するので、圧縮上死点近傍の温度および圧力が低下する。 - 特許庁