「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a technology for supplying cold air to each information processing apparatus stored in a rack in just proportion so that the cold air reaches the upper part of the rack at a temperature required for cooling the information processing apparatuses.例文帳に追加

ラックに収容された各情報処理機器へ冷気を過不足なく、かつラックの上部まで情報処理機器の冷却に必要な温度で到達するように供給する技術を提供することを課題とする。 - 特許庁

In the processing apparatus 1, under a condition that the flow rate of the ozone containing gas is constant, an ignition in the chamber 24 is detected based on a differential pressure between a gas supply line 11 and an exhaust line 12 of the high temperature processing chamber 24.例文帳に追加

プロセス装置１においては前記オゾン含有ガスの流量が一定のもとで高温処理チャンバ２４のガス供給ライン１１と排気ライン１２の差圧に基づき当該チャンバ２４における発火が検出される。 - 特許庁

Next, nitrogen is blown at a high speed into the closed processing vessel 12, placed under the low temperature condition to blow out and discharge the ultrapure water or the like remaining in the closed processing vessel 12 (remaining solution removal step S3).例文帳に追加

つぎに、低温状態下にある密閉処理容器１２内に窒素を高速で吹き込んで、密閉処理容器１２内に残存する超純水等を吹き飛ばして排出する（残存液除去工程 Ｓ３）。 - 特許庁

The temperature of the processing solution is ≤18°C during the ultrasonic washing, so particles sticking on the substrate are removed with a physical force resulting from a cavitation phenomenon of the gas dissolved in the processing solution.例文帳に追加

前述の超音波洗浄においては、処理溶液の温度が１８℃以下であるため、処理溶液中の溶存ガスのキャビテーション現象に起因する物理力によって、基板に付着したパーティクルが除去される。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus capable of making a footprint small, eliminating the necessity of providing a special mechanism for separating an exhausted gas from and drainage, and hardly causing breakage due to thermal expansion even if a high-temperature processing liquid is used.例文帳に追加

フットプリントを小さくすることができ、排気と排液との分離機構を特別に設ける必要がなく、高温の処理液を用いた場合でも熱膨張による破損が生じ難い液処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus, capable of improving the uniformity of substrate processing by enhancing the uniformity of the temperature distribution of a substrate mount member, and to provide a manufacturing method of a semiconductor device employing the same.例文帳に追加

基板載置部材の温度分布の均一性を向上させ、基板の処理の均一性を向上をさせることができる基板処理装置およびそれを使用した半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain an apparatus and a method for adjusting temperature of a processing solution in an automatic developing system by which energy saving can be attained and deterioration of a prescribed processing solution such as a liquid developer can be suppressed.例文帳に追加

省エネルギー化を図り、現像液等の所定の処理液の劣化を抑えることのできる自動現像システムの処理液温度調整装置及び処理液温度調整方法を得ることを目的とする。 - 特許庁

The method further includes the step of, after that, in the same processing chamber, or after disposing the base material on which the Co film is deposited in another processing chamber, annealing this base material in a mixture gas atmosphere containing ammonia gas and hydrogen gas at another predetermined temperature.例文帳に追加

その後、同一の処理室内で、またはＣｏ膜が成膜された基材を他の処理室内に配置し、この基材をアンモニアガスと水素ガスとを含む混合ガス雰囲気中にて他の所定温度でアニールする。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a semiconductor device in which hydrogen can be supplied sufficiently to the interface of the gate insulating film and the semiconductor substrate of a transistor, without having to elevate the processing temperature, while shortening the processing time.例文帳に追加

処理時間が短く、かつ処理温度を高温にしなくてもトランジスタのゲート絶縁膜と半導体基板の界面に水素を十分に供給することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a water-containing substance drying processing device capable of efficiently and continuously drying water-containing wastes in a uniform state without temperature difference in a tank, though a vertical type drying processing device is applied, and the wastes can be easily discharged from the tank.例文帳に追加

縦型の乾燥処理装置であり、槽内からの廃棄物の排出が容易でありながら、含水した廃棄物を槽内の温度差をなくし均一な状態で効率良く連続的に乾燥処理する。 - 特許庁

To provide a ceramic heater for a semiconductor manufacturing apparatus in which flatness of a wafer placing surface is improved in a high temperature zone for processing a wafer in a semiconductor manufacturing step and the soaking performance on the surface of a wafer during thermal processing is improved.例文帳に追加

半導体製造工程でウエハを処理する高温域においてウエハ載置面の平面度を高め、加熱処理時におけるウエハ表面の均熱性を高めた半導体製造装置用セラミックスヒーターを提供する。 - 特許庁

The printing suspension means waits until the number of printed sheets or the printing time at a time point when it is determined that the end-part temperature is raised reaches the threshold, and executes the printing suspension processing simultaneously with the image quality adjusting processing.例文帳に追加

印刷中断手段は、端部温度が上昇していると判断した時点での印刷枚数または印刷時間が閾値に達するまで待機し、画質調整処理と同時に印刷中断処理を実行する。 - 特許庁

The first processing is a process for lowering a target operation frequency of a humidity-conditioning compressor, and lowering a target evaporation temperature in a user side heat exchanger.例文帳に追加

第１処理は、調湿用圧縮機の目標運転周波数を下げ、かつ、利用側熱交換器における目標蒸発温度を下げる処理である。 - 特許庁

To provide a method for improving uniformity of a processing speed for cooling a wafer supporter at a uniform temperature in a capacitively coupled plasma reactor.例文帳に追加

容量結合プラズマリアクタにおいて、ウエハ支持体を均一な温度で冷却する加工速度の均一性向上をすることができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus capable of more stably improving image quality of an area including a skin color even when a color temperature of a light source is changed.例文帳に追加

光源の色温度が変化しても肌色を含む領域の画質をより安定的に向上させることが可能となる画像処理装置を提供する。 - 特許庁

A bearing device 1 as the rotator device is equipped with an inner ring 2, an outer ring 3, the rolling body 4, a temperature detection part 5, a reception part 6 and a processing device 7.例文帳に追加

回転体装置としての軸受装置１は内輪２と外輪３と転動体４と温度検出部５と受信部６と処理装置７を備えている。 - 特許庁

When pre-heat processing is started, the Tcave rises to TM, and even if the temperature of a microwave oven tray rises more than it, the Tcave becomes constant.例文帳に追加

予熱処理が開始されると、ＴｃａｖｅはＴＭまで上昇した後、それ以上レンジ焼き皿の温度が上昇しても、Ｔｃａｖｅで一定となる。 - 特許庁

To provide a plasma processing device which is capable of monitoring and controlling the state of plasma with high accuracy even when the external surface of the device varies in temperature.例文帳に追加

装置外表面の温度が変化した場合でも、高精度にプラズマ状態をモニタして管理することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To enable an air flow flowing toward an exhaust vent to be uniformly formed in a processing chamber so as to make a substrate such as a wafer or the like uniform in heating temperature distribution throughout its surface.例文帳に追加

排気口へと流れる気流が処理室内において均等に形成されるように制御し，ウェハ等の基板面内の加熱温度を均一にする。 - 特許庁

If the material of the endless metal belt 1 is marageing steel, the heat treatment temperature at the heating processing is set at 70 to 300°C.例文帳に追加

（２）無端金属ベルト１の材料がマルエージング鋼の場合、加熱処理に際して加熱処理温度を７０〜３００℃とした無端金属ベルトの製造方法。 - 特許庁

To provide technology capable of preventing poor fixation by suppressing the temperature drop to the utmost in a fixing device that may arise when image forming processing is started.例文帳に追加

画像形成処理の開始時に生起されうる定着装置の温度の落ち込みを極力抑え、定着不良を防止可能な技術を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a cross-linked polymer, by which a polymer can well be crosslinked, even when a cross-linking auxiliary agent volatilizing at a temperature for processing the polymer is used.例文帳に追加

ポリマの加工温度で揮発する架橋助剤を用いてもポリマを良好に架橋させることができる架橋ポリマの製造方法を提供する。 - 特許庁

By performing the primary air-based activation processing at a high temperature of 450-550 °C, coarse meso-holes are produced in the surface of a carbide raw material.例文帳に追加

第１次空気賦活処理を４５０〜５５０℃の高温度で行うことにより、炭素化物原料の表面部分に粗いメソ孔が生成される。 - 特許庁

This method of shape-stabilizing processing for cellulosic fiber comprises carrying out a steam treatment of the cellulosic fiber at a high temperature under a high pressure and then carrying out a liquid ammonia treatment.例文帳に追加

セルロース系繊維に高温高圧水蒸気処理を行い、次いで液体アンモニア処理を行うセルロース系繊維の形態安定加工方法。 - 特許庁

To provide a power introduction terminal which does not break even under a high temperature environment when supplying high electric power, and a plasma processing device equipped with the same.例文帳に追加

高電力供給時の高温環境下でも破損しない電力導入端子およびそれを備えたプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

This radio-controlled timepiece module 1 is equipped with an antenna 2, a receiving part 3, a clocking part 4, a temperature measuring part 5, a storage part 6 and a control processing part 7.例文帳に追加

この電波時計モジュール１は、アンテナ２と、受信部３と、計時部４と、温度測定部５と、格納部６と、制御処理部７とを具備する。 - 特許庁

To provide an information processing device allowing fan control realizing both of compliance with cooling performance and reduction in discontinuous sound during increase of temperature.例文帳に追加

温度上昇時の冷却性能の追従性と非連続音の低減とを両立させたファン制御を可能とした情報処理装置を提供する。 - 特許庁

The object W is rapidly heated in a short period of time in the heating furnace 1 and reaches the predetermined process temperature and can promote increase of heating processing quantity.例文帳に追加

被加熱物Ｗは、加熱炉１内において短時間で急速に加熱され、均一に所定の処理温度に達するので、加熱処理量の増加が図れる。 - 特許庁

To form a thin film uniformly by making uniform the temperature of a substrate or the gas supply thereto at the time of performing a specified processing of the substrate in a vertical furnace.例文帳に追加

縦型炉内において基板に所定の処理を施す場合に、基板の温度や基板へのガスの供給量を均一にし、均一な薄膜の形成する。 - 特許庁

The signal processing circuit 40 includes amplitude detection and excitation detection means 41, excitation means 42, temperature measuring means 43, and duty ratio correcting means 44.例文帳に追加

信号処理回路４０は、振幅検出・励振検出手段４１と、励振手段４２と、温度測定手段４３と、デューティ比補正手段４４とを有する。 - 特許庁

The optimal target value setting processing is a process for setting a target operation frequency and a target evaporation temperature so as to minimize power consumption.例文帳に追加

最適目標値設定処理は、消費電力が最小となるように目標運転周波数と目標蒸発温度とを設定する処理である。 - 特許庁

Therefore, heat processing can be carried out at the predetermined temperature from immediately after start of the insertion, and the running loss in the heated substance can be prevented.例文帳に追加

したがつて被加熱体の挿通開始直後から所定の温度で熱加工することができるようになり、被加熱体のランニングロスを防ぐことができる - 特許庁

To provide an aluminum heated substrate support suitable for use in high temperature semiconductor processing systems and method of manufacturing the same.例文帳に追加

高温の半導体プロセスシステムにおける使用に適している加熱型アルミニウム基板支持体と、このような基板支持体を製造する方法とを提供する。 - 特許庁

To provide a liquid lubricant excellent in lubricating properties, having quick-drying properties, hardly causing influences on post-process and usable for processing at temperature below 0°C.例文帳に追加

潤滑性に優れると共に速乾性を有し、後工程への影響が少なく、かつマイナス温度での加工にも使用可能な液体潤滑油を提供する。 - 特許庁

To prevent a semiconductor layer from being distorted or cracked by a void in a trench even if high-temperature processing of 1,000°C or above is impossible.例文帳に追加

１０００℃以上の高温処理ができないものにおいても、トレンチ内のボイドによって半導体層に歪みやクラックが発生してしまわないようにする。 - 特許庁

A substrate 101 is heated hotter than the temperature inside a processing container and the remaining rinsing liquid 103a impregnated inside the pattern 101a is quickly discharged.例文帳に追加

基板１０１を処理容器内温度より高くなるように加熱し、パターン１０１ａ内に含浸している残存リンス液１０３ａを迅速に放出させる。 - 特許庁

If the determination result indicates that "It's not standard, " the fixing temperature is raised higher than that of the standard toner and the number of sequential processing is reduced (essential).例文帳に追加

判定結果が「標準ではない」の場合は、標準トナーよりも定着温度を高くし、かつ連続処理枚数の数を減少させる（必須）。 - 特許庁

To provide a method for processing peanuts with shells tastily taken by anyone irrespective of age and sex, and preservable for a long period of time at normal temperature.例文帳に追加

老若男女を問わず誰でも美味しく食べることでき、かつ、常温で長期間保存することのできる莢付ピーナツの加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radio communication device, capable of keeping an operator informed of a temperature rise and processing that is carried out for reducing the output.例文帳に追加

無線通信機の使用者に温度上昇が判り、出力低下処理がなされたことが判るようにした無線通信機を提供するものである。 - 特許庁

To provide a plasma processor for adjusting the temperature of a specimen or a specimen table with high precision, and for improving the yield or efficiency of the processing of a specimen.例文帳に追加

高い精度で試料または試料台の温度を調節でき試料の処理の歩留まりや効率を向上させたプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus for accurately measuring the temperature of a substrate to be processed on real-time basis without complication of apparatus structure.例文帳に追加

装置構成を複雑にすることなく、処理される基板の温度を正確かつリアルタイムに測定することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To always make quantity of heat given to be constant without changing the temperature of a heat roll even when a processing speed is changed in a thermal laminating apparatus.例文帳に追加

サーマルラミネート装置において、加工速度が変化しても、熱ロールの温度を変更することなく付与する熱量を常に一定にすることが出来るようにする。 - 特許庁

Thus, high throughput can be kept by improving cooling efficiency, and a plurality of stages of processing objects can be uniformly cooled without causing a temperature difference between surfaces.例文帳に追加

これにより、冷却効率を高めてスループットを高く維持でき、且つ複数段の被処理体を面間の温度差が生じないように均一に冷却する。 - 特許庁

To provide a capacitor for improving heat-resistant properties where a characteristic change as a capacitor is small even after going through a high-temperature processing process, and to provide a method of manufacturing the capacitor.例文帳に追加

高温度処理プロセスを経てもキャパシタとしての特性変化が少ないような耐熱性を向上させたキャパシタとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a signal processing circuit which, when inputting a signal to a mixer to convert the signal into a desired frequency, can reduce a distortion of the input signal due to temperature.例文帳に追加

信号をミキサに入力して所望の周波数に変換する際に温度による歪みを軽減することのできる信号処理回路を得る。 - 特許庁