「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

The removal device 11 has a pre-cooling processing part 24 for pre-cooling the slurry to a temperature exceeding 15°C and a post-cooling processing part 25 for further post-cooling the slurry pre-cooled to 15°C or less.例文帳に追加

スラリーを、１５℃を超える温度にまで前冷却する前冷却処理部２４と、前冷却されたスラリーをさらに１５℃以下にまで後冷却する後冷却処理部２５とを有してなる。 - 特許庁

To provide method and system for vapor processing in which optimal vapor processing can be carried out using vapor produced by regulating the vapor temperature depending on the quantity of liquid to be evaporated.例文帳に追加

被蒸気液の量に応じて蒸気の温度を調整して生成される蒸気を用いて最適な蒸気処理を行えるようにした蒸気処理装置及び蒸気処理方法を提供すること。 - 特許庁

To reduce temperature rise of a substrate due to heat transmission from a tray after plasma processing is ended, in a plasma processing apparatus for arranging, on a substrate susceptor, the tray with the substrate housed in a substrate housing hole.例文帳に追加

基板収容孔に基板を収容したトレイを基板サセプタ上に配置するプラズマ処理装置において、プラズマ処理終了後のトレイからの伝熱による基板の温度上昇を低減する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which continues printing processing without stopping the printing processing by incorrectly judging that paper jamming occurs even if conveying speed of recording paper gets low under low-temperature environment.例文帳に追加

低温環境下において記録用紙の搬送速度が低下した場合でも、紙詰まりが発生したと誤判断して印刷処理を停止せず、印刷処理を継続する画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

After that, this evaporated insulating film 2 is processed by at least one type selected from the group of hydrogen plasma processing and oxygen plasma processing by setting the temperature of the substrate 1 at 300 to 500°C.例文帳に追加

そして、この蒸着絶縁膜２に対して、基板１の温度を３００乃至５００℃にして、水素プラズマ処理及び酸素プラズマ処理からなる群から選択された少なくとも１種の処理を施す。 - 特許庁

To execute alignment measurement processing and exposure processing respectively in an accurately temperature-controlled environment in an exposure device having two stages replaceable between an alignment station and an exposure station.例文帳に追加

アライメントステーションと露光ステーションとの間で入れ替え可能な２つのステージを有する露光装置において、アライメント用の計測処理と露光処理とをそれぞれ正確に温度制御された環境で実施する。 - 特許庁

To provide an apparatus and programs for image processing which can adjust to the changes in the color temperature of a photographed object and perform appropriate contour enhancing processing by using white balance coefficients.例文帳に追加

ホワイトバランスの係数を用いて、被写体の色温度の変化に適応し、適切な輪郭強調処理を行うことができる画像処理装置、および画像処理プログラムを提供することを目的とする。 - 特許庁

The electrostatic attraction mechanism for processing a substrate, which holds a substrate 9 by electrostatic attraction in a processing chamber 1, comprises an electrostatic attraction stage 2 comprising a temperature control means and an attraction power source 23.例文帳に追加

処理チャンバー１内で基板９を静電吸着して保持する基板処理用静電吸着機構は、温度制御手段を有する静電吸着ステージ２と吸着電源２３とから成る。 - 特許庁

Inside the housing 11, a signal processing circuit 17 for processing a signal from the temperature detecting element 16 is provided and it is connected electrically by a wiring member 19 passed through the inside of the probe part 12.例文帳に追加

ハウジング１１内に、温度検出素子１６からの信号を処理するための信号処理回路１７を設け、プローブ部１２内を通される配線部材１９により電気的に接続する。 - 特許庁

To provide an exhaust emission control device of an internal combustion engine capable of promoting sulfur poisoning recovery processing of an exhaust emission control catalyst while restraining an excessive temperature rise in the exhaust emission control catalyst temperature when performing the sulfur poisoning recovery processing in the exhaust emission control device having the exhaust emission control catalyst requiring the sulfur poisoning recovery processing.例文帳に追加

硫黄被毒回復処理を必要とする排気浄化触媒を備えた排気浄化装置において、硫黄被毒回復処理実行中における排気浄化触媒温度の過昇温を抑制しつつ、排気浄化触媒の硫黄被毒回復処理を促進することができる内燃機関の排気浄化装置を提供すること。 - 特許庁

Individual controllers 22 are provided on the respective processing units 2, each of which controllers adjusts an opening of the flow rate adjusting valve 20 based on the temperature of cooling water discharged from the processing unit detected by the temperature sensor 21 to alter a supply flow rate of the cooling water to the processing units 2.例文帳に追加

各処理ユニット２にはそれぞれ、個別コントローラー２２が備えられ、各個別コントローラー２２が、温度センサ２１で検知されている処理ユニット２から排出される冷却水の温度を基に、流量調節弁２０の弁の開度を調節制御して、処理ユニット２への冷却水の供給流量を変更するように構成している。 - 特許庁

To provide an ink tank which can realize optimum processing according to an ink temperature in a recorder by providing information related to a physical properties change according to the ink temperature, and to provide an inkjet recorder which can carry out optimum recovery processing of an inkjet recording head by using the information, and to provide a recovery processing method of an inkjet recording head.例文帳に追加

インクの温度に応じた物性変化に関する情報を提供して、インクの温度に応じた最適な処理を記録装置において実現することができるインクタンク、その情報を用いてインクジェット記録ヘッドの最適な回復処理を実施することができるインクジェット記録装置、およびインクジェット記録ヘッドの回復処理方法を提供すること。 - 特許庁

The temperature control method for the catalyst 11 in the detoxification processing device 1 of the spent sterilization gas after a sterilization process is characterized by that a feed amount of dilution air for diluting the spent sterilization gas to be sent to a processing part 3 of the detoxification processing device 1 is controlled on the basis of a temperature of the catalyst 11.例文帳に追加

滅菌工程後の使用済滅菌ガスの無害化処理装置１における触媒１１の温度制御方法において、前記触媒１１の温度に基づいて、前記無害化処理装置１の処理部３へ送出する前記使用済滅菌ガスを希釈する希釈用空気の供給量を制御することを特徴としている。 - 特許庁

This positioning controller is provided with: a temperature signal processing part for processing a detection signal as the temperature change of a positioning stage; a position detection means; and a position correction processing part for calculating position deviation accompanied with the thermal expansion or thermal contraction of the positioning object as position correction quantity, and configured to perform the positioning control of a motor based on the position correction quantity.例文帳に追加

前記位置決めステージの温度変化である検出信号を処理する温度信号処理部と、前記位置検出手段および前記位置決め対象物の熱膨張または熱収縮に伴う位置ずれを、位置補正量として算出する位置補正処理部とを備え、前記位置補正量に基づいて、前記モータを位置決め制御する。 - 特許庁

The microfabrication processing method is characterized by storing and using the microfabrication processing agent of aqueous solution containing at least one kind of hydrofluoric acid or ammonium fluoride in a range of a chemical temperature of 5 to 15°C for a predetermined period, and by carrying out a microfabrication of a workpiece in the range of the chemical temperature in case of using the microfabrication processing agent.例文帳に追加

微細加工処理方法は、フッ化水素酸、又はフッ化アンモニウムの少なくとも何れか一種を含む水溶液の微細加工処理剤を薬液温度５〜１５℃の範囲で所定期間保管しつつ使用し、かつ、前記微細加工処理剤の使用の際には、前記薬液温度の範囲内で被加工物を微細加工することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a decorative plate for a low-temperature room having easy processing, excellent mass productivity at low cost by suppressing a manufacturing cost and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

加工が容易で、量産性に優れ、製造コストを抑え安価な低温室用化粧板及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

This space temperature measuring device 100 includes a light source device 50, a light receiving device 60, a measured information acquisition part, and a measured information processing part.例文帳に追加

空間温度計測装置１００は、光源装置５０と、受光装置６０と、計測情報取得部と、計測情報処理部とを備える。 - 特許庁

To lower the processing temperature in a heat treatment while uniform treatment is secured by preheating a process gas in a heating section provided outside a treatment chamber.例文帳に追加

処理室の外部に設けられた加熱部で処理ガスを予備加熱し、処理の均一性を確保しながら、プロセス温度の低温化を図ること。 - 特許庁

If image forming operation is interrupted by image processing, etc., and a sheet P is not supplied to a nip portion N, the temperature of a pressure roll 62 rises.例文帳に追加

画像形成動作が画像処理などにより中断し、ニップ部Ｎに用紙Ｐが供給されない場合、加圧ロール６２の温度が上昇する。 - 特許庁

To inspect flaws of a work by subjecting the temperature distribution of the heat possessed by the work to image processing, without imparting excessive energy to the work.例文帳に追加

ワークに対して余分なエネルギを付与することなく、ワークが保持する熱の温度分布を画像処理して欠陥検査を実施できるようにする。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus capable of maintaining a dynamic range required for image processing when a generation amount of a dark current is different depending on a temperature.例文帳に追加

温度によって暗電流の発生量が異なる場合に画像処理に必要なダイナミックレンジを維持できる撮像装置を提供する。 - 特許庁

The processing lubricant is obtained by freezing a solution at normal temperature and then grinding the frozen solution into a semi-liquid body or liquid body.例文帳に追加

加工用潤滑剤は、常温で溶液を凍らせ、次いで、凍らせた溶液を粉砕し、半液状体または液状体にしたものである。 - 特許庁

To provide a disc-shaped heater and a heating device as well as a wafer processing device which can easily correct changes of temperature distribution die to external environment.例文帳に追加

外部環境による温度分布の変化を容易に補正できる円盤状ヒータおよび加熱装置並びにウエハ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an information processing medium which can prevent the deformation (warpage) accompanying a change in environmental temperature and humidity and can be easily manufactured.例文帳に追加

環境温度・湿度変化に伴う変形（反り）を防止でき、かつ、その製造が容易な情報処理媒体を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a workpiece processing device provided with an injector for uniform injection to the surface of the workpiece without reducing the temperature of pressurized steam.例文帳に追加

加圧蒸気の温度を低下させることなく、ワーク表面に均一に噴射することのできる噴射装置を備えたワーク処理装置の提供。 - 特許庁

To reduce the fluctuation in atmospheric temperature inside a chamber over the entire processing step period, from starting of reduced-pressure drying process to the completion of purging.例文帳に追加

減圧乾燥処理の開始からパージング終了までの全処理工程時間を通してチャンバ内の雰囲気温度の変動を小さくすること。 - 特許庁

To provide a disk reproduction device which drives a fan at a proper rotation speed with a simple processing without depending on a temperature detection element.例文帳に追加

温度検出素子に依存せず、簡単な処理で適した回転速度でファンを駆動させることができるディスク再生装置を提供すること。 - 特許庁

To improve processing cycle time for measurement by suppressing temperature deterioration of an object to be measured due to adiabatic expansion of air generated when decompressing a vacuum chamber.例文帳に追加

真空チャンバーを減圧する際に生じる空気の断熱膨張による被測定物の温度低下を抑制し、測定タクトの向上を図る。 - 特許庁

To provide a substrate processing device of a semiconductor device, which can form a high quality thin film even when the thin film is formed at a low temperature.例文帳に追加

低温で薄膜を形成した場合であっても、高品質な薄膜が形成できる半導体デバイスの基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The complex phase organization stainless steel is a material balanced between processing characteristics and strength, and has excellent spring characteristics excellent in low temperature ageing after formation.例文帳に追加

複相組織ステンレス鋼板は、加工性，強度をバランスさせた材料であり、成形後の低温時効で優れたバネ特性が付与される。 - 特許庁

To correct the processing size to the thermal displacement amount corresponding to the variations of the driving condition and the room temperature, in a simple structure and at a low cost.例文帳に追加

簡単な構成で安価にでき、運転条件及び室温の変化にも対応して熱変位量に対する加工寸法を補正する。 - 特許庁

To provide a method of crystallization for densely forming crystal grains of large grain sizes allowing requirement for low-temperature processing to be met.例文帳に追加

大粒径の結晶粒をち密に形成することができ、かつ低温処理の要求を満たすことができる結晶化方法を提供する。 - 特許庁

A delay time Td until an image forming processing starts after the motor 2 starts is decided by the delay time deciding part 103 based on the temperature Te.例文帳に追加

遅延時間決定部１０３は、温度Teに基づいてモータ２の起動時から画像形成処理を開始するまでの遅延時間Tdを決定する。 - 特許庁

The determined parameters provide one or more fractional melting temperature values, which can be returned, for example, displayed or otherwise used for further processing.例文帳に追加

決定したパラメーターは、１以上の分画融解温度値を提供し、その値は戻され、例えば、表示され、又は更なる処理に使用され得る。 - 特許庁

An image heating apparatus is characterized by stopping cooling operation with the end of image heating processing regardless of the detected temperature of an image heating member.例文帳に追加

画像加熱部材の検出温度に関わらず画像加熱処理の終了に伴い冷却動作を停止させることを特徴とする。 - 特許庁

The first layer of a resin layer 103 adheres to the second surface of a wiring layer 102 by the first heating processing at a first temperature.例文帳に追加

第１の温度における第１の加熱処理によって、樹脂層１０３の第１の層が、配線層１０２の第２の面に付着される。 - 特許庁

Consequently, the silicide layer 111 is formed on the drain electrode 11 in the reverse side of the n^+-type substrate 1 without subjecting the n^+-type substrate 1 to high-temperature processing.例文帳に追加

これにより、ｎ^+型基板１に高温処理を行うことなく、ｎ^+型基板１にドレイン電極１１にシリサイド層１１１を生成できる。 - 特許庁

To perform collation processing according to a temperature of a detected living body, regarding a biometric authentication apparatus which performs personal authentication using a living body's blood vessel image.例文帳に追加

生体の血管像を利用して個人認証する生体認証装置に関し、検出する生体の温度に応じて、照合処理する。 - 特許庁

Further, the surface of the resist agent 12 is irradiated with an electron beam to raise the glass transition temperature of an upper-layer part and then baking processing is carried out.例文帳に追加

更に、レジストパターン１２ａの表面に電子ビームを照射し、上層部のガラス転移温度を上昇させたあとベーク処理を行う。 - 特許庁

To provide a method for controlling the wafer temperature such that uniform processing results can be attained by making thermal conduction constant between a wafer and a lower electrode.例文帳に追加

ウェハと下部電極との間の熱伝導を一定にし、均一なプロセス結果が得られるようなウェハ温度の制御方法を提供する。 - 特許庁

A method and system (100, 200) is explained for processing substrates (205, 205, 305) having supercritical fluid using a high temperature process.例文帳に追加

高温プロセスを用いる超臨界流体を有する基板（２０５、２０５、３０５）を処理するための方法およびシステム（１００、２００）が説明される。 - 特許庁

The engineering plastic is superior in heat resistance, and hence can be applied, without problems, at a service temperature in the heat exchanger for food processing.例文帳に追加

エンジニアリングプラスチックであれば、耐熱性に優れるため、食品プロセス用熱交換器としての使用温度に問題なく適用可能である。 - 特許庁

Completely processed air cleaned and adjusted to predetermined temperature and humidity with the aid of a fresh air processing apparatus 4 is supplied to a clean room 21.例文帳に追加

外気処理装置４により、清浄化されて所定の温度及び湿度に調整された完全処理空気をクリーンルーム２１に供給する。 - 特許庁

To provide a thermal storage type gas treatment furnace which suppresses an excessive rise of the temperature of a combustion chamber without lowering a processing amount and hardly causes troubles.例文帳に追加

処理量を低下させず、燃焼室の温度の過度の上昇を抑制でき、故障の少ない蓄熱式ガス処理炉を提供する。 - 特許庁

A temperature elevation process is provided to make an IC chip itself heated by electric connection, to the inside of the IC chip, different from a usual condition (processing S1).例文帳に追加

ＩＣチップ内部への通常とは異なる電気的接続により前記ＩＣチップ自体を発熱させる昇温工程を経る（処理Ｓ１）。 - 特許庁