「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

Even if the volume of the waste processing liquid L decreases, the high temperature side of the Peltier element 42 comes into contact via the heat transfer surface with the waste processing liquid L in the evaporation tray 24 and the heat transfer area does not decrease.例文帳に追加

処理廃液Ｌの体積が減少しても、ペルチェ素子４２の高温側は蒸発皿２４内の処理廃液Ｌに伝熱面を介して接触し、伝熱面積が減少しない。 - 特許庁

The temperature of the processing liquid is calculated by correcting the detection value of the radiation thermometer 6 by means of the corresponding formula of the radiation-detecting value and the thermocouple-detecting value in accordance with the processing liquid.例文帳に追加

放射温度計６の検出値を、当該処理液に対応する放射検出値−熱電対検出値対応式で補正することにより、当該処理液の温度が算出される。 - 特許庁

The titanium allow with low-temperature workability forming the support member withstands a small-radius bending processing and a large-angle bending processing to be processed in a band-like shape required as a clamp for an aircraft.例文帳に追加

支持部材となる低温加工性チタン合金は、小半径曲げ加工および大角度曲げ加工に耐え、航空機用クランプとして必要とされるバンド形状に加工される。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing method, a substrate processing method and a substrate processing apparatus, which can improve a deposition rate and productivity even at a lower temperature.例文帳に追加

低温下においても成膜速度を向上させ、生産性を向上させることができる半導体装置の製造方法、基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To narrow a clearance between the body of a container and a cover during temperature rise of a processing container, when heating the square-piped processing container comprising the body and the cover.例文帳に追加

容器本体と蓋体とによりなる角筒形状の処理容器を加熱するにあたり、処理容器の昇温時に前記容器本体と蓋体との間に形成される隙間を狭めること。 - 特許庁

To provide a method for processing a workpiece by a processing apparatus which can perform a setup operation of fixedly holding a cutting edge of a tip in a predetermined position free from an influence from a temperature variation.例文帳に追加

温度変化の影響を受けずに、チップの刃先を設定された位置に固定保持する段取り作業を実施可能な、加工装置による被加工物の加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a granular solid processing agent which maintains quality characteristics of photographs even when put in a low temperature and low humidity environment and which is hardly damaged by rocking during transport, and to provide a method for manufacturing the processing agent.例文帳に追加

低温低湿度環境に置かれても写真品質特性が維持され、かつ輸送時の揺れにも破損しにくい顆粒型固体処理剤及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the processing, the ECU 100 acquires the influx exhaust gas temperature, the DPF upstream exhaust gas temperature, and DPF downstream exhaust gas temperature sensed by various sensors, the sucked air amount sensed by an air flow meter 218, the sucked air temperature sensed by a first sucked air temperature sensor 205, and the exhaust gas absolute pressure sensed by an absolute pressure sensor 232, and thereupon presumes the catalyst bed temperature Tdpf.例文帳に追加

当該処理においてＥＣＵ１００は、各種センサにより検出される流入排気温、ＤＰＦ上流排気温及びＤＰＦ下流排気温、エアフローメータ２１８により検出される吸入空気量、第１吸気温センサ２０５により検出される吸気温、並びに絶対圧センサ２３２により検出される排気絶対圧を取得し、触媒床温Ｔｄｐｆを推定する。 - 特許庁

The heat treating device comprises a processing air generating part to mix together a high temperature gas from a heat storage furnace and a cooling gas fed from a cooling passage to feed processing air having a desired temperature and a blowing part not to blow processing air, fed from the processing air generating part, directly on a substance to be processed but to blow the air through a plurality of nozzles.例文帳に追加

熱処理装置の構成を、蓄熱炉から供給された高温気体と、冷却路から供給された冷却気体とを混合して所望の温度の処理風を供給する処理風発生部と、前記処理風発生部から供給された処理風を、直接被処理物に吹き付けずに、複数のノズルから噴出させて吹き付ける吹付部とを含む構成とした。 - 特許庁

A heat exchanger 11-A is provided between an exit of the fuel processing device 1 and an anode entrance of the fuel cell 9 to have anode gas (high-temperature side) supplied from the fuel processing device (1) to the fuel cell 9 exchange heat with a cooling medium (low-temperature side).例文帳に追加

熱交換器１１−Ａは、燃料処理装置１の出口と燃料電池９のアノード入口との間に設けられ、燃料処理装置１から燃料電池９に供給されるアノードガス（高温側）と冷却媒体（低温側）を熱交換させる。 - 特許庁

To allow a board processing for constant film thickness and high- quality film by improving controllability in temperature of a board in process, without being thermally affected from an adjoining reactive furnace ambient temperature around it, relating to a board processing device comprising a plurality of reactive furnaces.例文帳に追加

複数の反応炉を具備する基板処理装置に於いて、近隣の反応炉からの熱影響、反応炉の周囲温度の影響を受けることなく、処理中の基板の温度の制御性を向上し、膜厚の均一性、膜質の良好な基板処理を可能とする。 - 特許庁

To provide a paper container which is suitable for a retort sterilization processing performed under a high temperature and a high pressure and for cooking, heating or the like by a microwave oven, in particular, a heat-resistant paper container capable of cooking in the microwave oven even for a content rich in oil content required for processing at a high temperature.例文帳に追加

高温高圧で行うレトルト殺菌加工や電子レンジでの調理加熱等に適した、とくに高温での処理が必要な油分に富んだ内容物であっても電子レンジ調理可能な耐熱性のある紙容器を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus using a heating mechanism for stably heating a cleaning gas in the apparatus which uses a quartz member in a substrate processing member and the cleaning gas having a higher speed for etching the quartz member at a low temperature than at a high temperature.例文帳に追加

基板処理室内に石英部材を用い、高温時よりも低温時の方が石英部材のエッチング速度が大きいクリーニングガスを使用する基板処理装置において、クリーニングガスの加熱を安定して行う加熱機構を用いた基板処理装置を提供する。 - 特許庁

Further, the bill processing apparatus for processing the bills also includes a control part 90 for getting control so as to execute the other processes except the accumulating process and the binding process when the temperature detection part 67 detects the heater 66 not reaching the predetermined temperature yet.例文帳に追加

紙幣を処理する紙幣処理装置は、温度検出部６７によって加熱部６６が所定温度に達していないことが検出されると、集積処理および結束処理以外のその他の処理を行うよう制御する制御部９０も、備えている。 - 特許庁

A warm air unit 125 is connected to a dielectric window 103 of the plasma processing apparatus and on the basis of a temperature signal generated by measuring the temperature of the dielectric window 103 or a shower plate 102 by a temperature sensor 128, the warm air unit 125 is controlled to perform temperature control over the dielectric window 103 or shower plate 102.例文帳に追加

プラズマ処理装置の誘電体窓１０３に温風ユニット１２５を接続し、誘電体窓１０３あるいはシャワープレート１０２の温度を温度センサー１２８により計測した温度信号を元に、温風ユニット１２５を制御して誘電体窓１０３あるいはシャワープレート１０２の温度制御を行う。 - 特許庁

A temperature signal processing circuit 26 calculates a temperature on the basis of a signal output from the detection circuit of the display panel 25; and an operational circuit 28 corrects the drive current supplied to the light emitting circuit of the display panel 25 on the basis of the temperature calculated by the temperature signal process circuit 26.例文帳に追加

そして、温度信号処理回路２６は、表示パネル２５の検出回路から出力される信号に基づいて、温度を算出し、演算回路２８は、温度信号処理回路２６により算出された温度に基づいて、表示パネル２５の発光回路に供給される駆動電流を補正する。 - 特許庁

The set pressure P1 is determined to be pressure higher than initial temperature reduced pressure P2 in which a saturated steam temperature in the processing tank becomes equal to a temperature of the cooled object by allowance pressure 3, and the allowance pressure P3 is determined so that the lower the initial temperature reduced pressure P2 is the smaller the allowance pressure is.例文帳に追加

前記設定圧力Ｐ１は、処理槽内の飽和蒸気温度が被冷却物の温度と等しくなる品温換算圧力Ｐ２よりも余裕圧力Ｐ３だけ高い圧力に設定され、前記余裕圧力Ｐ３は、品温換算圧力Ｐ２が低くなる程、小さくなるよう設定される。 - 特許庁

The temperature states of the clinical thermometer main body 10 and the environment are estimated on the basis of temperatures T2 and T3 measured by the first temperature sensor 2 integrally provided along with the infrared sensor 1 provided to the leading end of a probe and the second temperature sensor 3 arranged on the bottom surface of a probe holder 12 to perform the processing fitted to the respective temperature states.例文帳に追加

プローブ先端の赤外線センサ１と一体に設けられた第１温度センサ２とプローブホルダ１２の底面側に配置された第２温度センサ３によって、測定された温度Ｔ２及びＴ３により、体温計本体１０及び環境の温度状態を推定し、それぞれの温度状態に適した処理を行う。 - 特許庁

A central processing unit 106 determines a correction value of the first temperature from the first and second temperatures, stores the correction value in a storage means 111, corrects the first temperature based on the stored correction value to determine the inner temperature of the recording head and controls driving of the recording head depending on the inner temperature of the recording head thus determined.例文帳に追加

中央処理装置１０６は、第１の温度と第２の温度とから第１の温度の補正値を求め、補正値を記憶手段１１１に記憶し、記憶された補正値に基づいて、第１の温度を補正して記録ヘッド内部の温度を求め、求められた記録ヘッド内部の温度に応じて、記録ヘッドの駆動を制御する。 - 特許庁

To provide a purification treating agent for a high temperature exhaust gas capable of simultaneously reducing an acid gas, an alkaline compound, and a heavy metal and its compound in a high temperature gas, and to provide a purification processing method.例文帳に追加

高温排ガス中の酸性ガス、アルカリ化合物及び重金属又はその化合物を同時に低減させることができる高温排ガス用の浄化処理剤及び浄化処理方法を提供する。 - 特許庁

As the result, the hot air 8 of high temperature necessary for heating processing can be jetted even when the temperature of air inside the heating chamber 2 is low, on condition that the amount of heating of the heaters 4 is made sufficiently large.例文帳に追加

この結果、加熱器４の加熱量を充分に大きくしてやれば、加熱室２内部の空気温度が低くても加熱処理に必要な高温の熱風８を噴出することが可能である。 - 特許庁

When the floor temperature Tca rises up to a HC poisoning recovery temperature Thcr, the enriching processing is restarted by switching the exhaust gas air-fuel ratio AF to the rich time target air-fuel ratio AFrich (t2 and so on).例文帳に追加

そして、床温ＴｃａがＨＣ被毒回復温度Ｔｈｃｒまで上昇した場合に排気空燃比ＡＦをリッチ時目標空燃比ＡＦｒｉｃｈに切り替えてリッチ化処理を再開する（ｔ２〜）。 - 特許庁

Thus, since the temperature of the sensor 21 or a semiconductor substrate 16 can be maintained at a substantially constant value, and the sensor circuit 10 y corrects the temperature characteristics of the sensor output due to the signal processing circuit 23 to a constant value.例文帳に追加

このため、当該センサ２１または半導体基板１６の温度をほぼ一定値に維持できるので、信号処理回路２３によるセンサ出力の温度特性の補正を一定にすることができる。 - 特許庁

To precisely and easily control the temperature of water discharged into a waste liquid processing tank, by automatically controlling the temperature of water discharged from dump pipes of a reactor-cooling water purifying system during pressure tightness leakage testing and the like.例文帳に追加

耐圧漏洩検査等の際に原子炉冷却水浄化系ダンプ配管から排出される水温を自動的に制御し、廃液処理タンク内への排水温度管理を的確かつ容易に行うこと。 - 特許庁

Concerning a thermal displacement conversion factor for converting the temperature change to the thermal displacement amount, the proportion of an immediate value to a temperature rise value to primary delay response processing value is determined based on the time constant.例文帳に追加

そして、温度変化から熱変位量に変換する熱変位変換係数について、時定数を基に温度上昇値に対する即時値と一次遅れ応答処理演算値の比率を決定する。 - 特許庁

The control part 5 makes the ink ejected from the nozzle array 16 on the basis of image data by the nozzle array driving part 15 to which the temperature correction value is set, thus carrying out recording processing with the temperature correction performed.例文帳に追加

制御部５は、画像データに基づき温度補正値が設定されたノズル列駆動部１５によりノズル列１６からインク吐出させることで、温度補正がなされた記録処理を行う。 - 特許庁

The microcapsule secondary particles for use in the kneading into a matrix resin is such that the microcapsule primary particles cohere with the aid of an easily melt processable resin whose melt-processing temperature is lower than the kneading temperature.例文帳に追加

母材樹脂に練り混んで用いるための、溶融加工温度が練り混み温度以下の樹脂である易溶融加工性樹脂を介してｍｃ一次粒子が凝集したｍｃ二次粒子。 - 特許庁

The device includes a developer cooling means which cools a developer for developing an image recording layer of the lithographic printing plate precursor to a temperature lower than the ambient temperature at the time other than developing processing.例文帳に追加

現像処理時以外のときに、平版印刷版原版の画像記録層を現像処理する現像液を雰囲気の温度より低い温度に冷却する現像液冷却手段を備えている。 - 特許庁

To provide a heat-peelable pressure-sensitive adhesive sheet for cutting laminated ceramic sheet, which exhibits sufficient pressure-sensitive adhesiveness upon cut-processing at room temperature and under a high-temperature atmosphere and is easily peeled by heating upon peeling.例文帳に追加

常温や高温雰囲気下での切断加工時で十分な粘着性を発揮でき、剥離時には加熱によって容易に剥離可能な積層セラミックシート切断用熱剥離型粘着シートを提供する。 - 特許庁

The bias magnetic field to be impressed to the magneto-optical disk 1 in reproducing by a bias magnet 14 is set by a signal processing section 16 according to the temperature detected by the temperature detecting section 21.例文帳に追加

そして、信号処理部１６により、温度検出部２１により検出した温度に応じて、バイアスマグネット１４によって再生時に光磁気ディスク１に対して印加するバイアス磁界を設定する。 - 特許庁

A processing temperature required for this low-temperature solid phase epitaxial growth method is about 450°C-650°C, the thermal diffusion of the impurities into the semiconductor film 9 is suppressed, and an initial steep step profile can be maintained.例文帳に追加

この低温固相エピタキシャル成長法に要する処理温度は４５０℃〜６５０℃程度であり、半導体膜９内への不純物の熱拡散は抑えられ、初期の急峻なステッププロファイルが維持される。 - 特許庁

Fixation processing is carried out by controlling the temperatures of the fixing rollers to a temperature set for single-sided recording when single-sided recording is carried out, and to a temperature set for double-sided recording when double-sided recording is carried out.例文帳に追加

そして、片面記録時は片面記録用に設定された温度、両面記録時は両面記録用に設定された温度に定着ローラの温度を制御して、定着処理を行う。 - 特許庁

The setting temperature in the heating process and the cooling pattern in the painting process are set so that predetermined low temperature annealing processing is performed on the spring in the heating process and the painting process.例文帳に追加

そして、加熱工程における設定温度と塗装工程における冷却パターンが、加熱工程及び塗装工程においてばねに所定の低温焼鈍処理が行われるように設定されている。 - 特許庁

To provide a compact and simple temperature control device capable of directly controlling the temperature of an object in a vacuum chamber, and high in thermal efficiency, and to provide a vacuum processing device including the same.例文帳に追加

真空チャンバ内で対象物を直接に温度制御でき、熱効率が高く、かつ小型で簡易的な温度制御装置、およびこの温度制御装置を備えた真空処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inkjet recording device capable of measuring the temperature of ink in an ink cartridge that is additionally attached by using a temperature sensor of an inkjet (IJ) head without increasing the manufacturing cost of the ink cartridge and capable of performing the optimum recovery processing.例文帳に追加

インクカートリッジの製造コストをアップさせることなく、ＩＪヘッドの温度センサを用いて新たに取り付けられたインクカートリッジのインクの温度を測定し、最適な回復処理を実施すること。 - 特許庁

Then the preheated semiconductor wafer W is irradiated with flash light and a surface temperature of the semiconductor wafer W momentarily rises up to a processing temperature to activate the impurity.例文帳に追加

次に、予備加熱された半導体ウェハーＷにフラッシュ光を照射することにより、半導体ウェハーＷの表面温度が瞬間的に処理温度にまで昇温して不純物の活性化が行われる。 - 特許庁

At this time, the A water temperature sensor object 110a issues a mask processing request on condition that abnormalities are not detected in both of the B and C water temperature sensor objects 110b, 110c.例文帳に追加

このときＢ及びＣの両方の水温センサオブジェクト１１０ｂ，１１０ｃで異常検出がなされていないことを条件にして、Ａ水温センサオブジェクト１１０ａがマスク処理要求を発行する。 - 特許庁

To prevent malfunctions as much as possible by keeping an optical communication module within the operating temperature range without releasing the heat generated by a signal processing circuit element even in a low- temperature environment.例文帳に追加

低温環境下であっても信号処理回路素子の発する熱を逃すことが無く、その動作温度範囲内に保つことが可能とし、誤動作するのを可及的に防止することを可能にする。 - 特許庁

Further after a lapse of time, if a temperature lower than the snowing temperature is detected at another child station 30, the central processing unit 40 starts operation of the snow melting pump facility 60 of the sub station 30 concerned.例文帳に追加

さらに時間が経過し、別の子局３０で降雪温度より低い気温が検出された場合、中央処理装置４０は、その子局３０の消雪ポンプ設備６０の運転を開始する。 - 特許庁

With heated nitrogen gas introduced into dry pump 13, the internal temperature can increase to about 100°C during a cleaning period, while the internal temperature is as low as about 80°C during a processing period.例文帳に追加

加熱された窒素ガスがドライポンプ１３内に導入されたことで、プロセス処理期間中は内部温度が８０℃程度に低く、一方、クリーニング期間中は内部温度を１００℃程度にまで上昇できる。 - 特許庁

To provide a film superior in a gas barrier property and delamination resistance under high temperature and high humidity, especially in the gas barrier property and durability of delamination strength after processing under high temperature high humidity environment.例文帳に追加

高温高湿度下におけるガスバリア性及び耐層間剥離性、特に、高温高湿雰囲気下における処理後のガスバリア性及び層間剥離強度の耐久性に優れたフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a polyimde resin processable at a low processing temperature by resin transfer molding and resin infusion, to provide a method for producing the resin, and to provide a composite material using the resin and for high temperature use.例文帳に追加

低い加工温度で樹脂トランスファ成形法および樹脂注入法による加工が可能なポリイミド樹脂とその製造方法、ならびにそれを用いた高温用複合材料を提供する。 - 特許庁

A control unit 7 of the sensor device 1 transfers temperature detection data D1-D3 detected during sleep of a person H to be measured by using each temperature detection part 3-5 to an outside processing device 13.例文帳に追加

そして、センサ装置１のコントロールユニット７は、各温度検出部３〜５を用いて被測定者Ｈの就寝中に検出した温度検出データＤ1〜Ｄ3を外部の処理装置１３に転送する。 - 特許庁

Performance control portions 105, 107 are configured to reduce the processing capability of the processor based on the measurement temperature and the threshold temperature so as to allow the processor to process a part of work to be processed by the processor in a subsequent period of time.例文帳に追加

パフォーマンス制御部１０５、１０７は、測定温度と閾値温度に基づいてプロセッサが処理すべき作業の一部をプロセッサの処理能力を低減させて後続の時間帯で処理させる。 - 特許庁

To operate temperature correction without generating any performance deterioration of electronic equipment by preventing influence of operation clock to be used for temperature correction processing from having adverse influence on the operation of the electronic equipment.例文帳に追加

温度補正処理に使用する動作クロックの影響が電子機器の動作に悪影響を及ぼさないようにし、これにより機器の性能劣化を起こさずに温度補正を行えるようにする。 - 特許庁