「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

Since temperature of the processing vessel drops quickly, plasma processing is carried out in a stabilized temperature atmosphere.例文帳に追加

このため速やかに処理容器の温度が降温し、安定した温度雰囲気でプラズマ処理することができる。 - 特許庁

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, TEMPERATURE CONTROL METHOD OF SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND HEATING METHOD OF SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

基板処理装置、基板処理装置の温度制御方法、及び基板処理装置の加熱方法 - 特許庁

STRUCTURAL MEMBER IN PROCESSING CHAMBER OF SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND TEMPERATURE MEASURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

基板処理装置の処理室内構成部材及びその温度測定方法 - 特許庁

To perform temperature control of a temperature control object at a CVD processing section such that temperature spots are reduced.例文帳に追加

ＣＶＤ処理部の温度調節対象に対して温度斑を低減した温度調節を行う。 - 特許庁

TEMPERATURE CONTROL MECHANISM, AND PROCESSING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

温度制御機構およびそれを用いた処理装置 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR PROCESSING TEMPERATURE SENSITIVE MATERIAL例文帳に追加

感温性の材料を処理する方法および装置 - 特許庁

TEMPERATURE CONTROL OF SHEET-FED SEMICONDUCTOR-SUBSTRATE PROCESSING REACTOR例文帳に追加

枚葉式半導体基板処理リアクタの温度制御 - 特許庁

TEMPERATURE-MEASURING APPARATUS, CHUCK MONITOR, AND PLASMA PROCESSING DEVICE例文帳に追加

温度測定装置、チャックモニター及びプラズマ処理装置 - 特許庁

APPARATUS FOR CONTROLLING TEMPERATURE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

半導体処理システム内の温度を制御する装置 - 特許庁

DETOXICATING PROCESSING METHOD (LOW TEMPERATURE) OF INCINERATION FLY ASH OR THE LIKE例文帳に追加

焼却飛灰等の無害化処理方法（低温） - 特許庁

TEMPERATURE SENSOR AND THERMOCOUPLE FOR PROCESSING UNIT OF SEMICONDUCTOR例文帳に追加

半導体処理装置用温度センサー及び熱電対 - 特許庁

A temperature processing part 12 compares the temperature with a background temperature and, when a temperature difference is over a specified value, starts a measurement sensor 11.例文帳に追加

温度処理部12で、この温度と背景温度とを比較して温度差が規定値以上の場合、計測センサ11を起動する。 - 特許庁

The temperature of the distal end is inputted to the step S41, and the temperature comparison processing is repeated until the temperature difference between the temperature inside the body and the temperature of the distal end becomes fixed.例文帳に追加

先端部の温度はステップＳ４１に入力されて、体内温度と先端部温度が一定の温度差となるまで、この温度比較処理を繰り返す。 - 特許庁

To provide a method and a device for elevating the temperature of a substrate quickly to a predetermined processing temperature and for sustaining the predetermined processing temperature in processing of a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の処理において、基板を所定の処理温度まで迅速に昇温して該所定の処理温度に保つ方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

TEMPERATURE MEASURING APPARATUS, PLACEMENT TABLE STRUCTURE AND THERMAL PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

温度測定装置、載置台構造及び熱処理装置 - 特許庁

ACRYLIC RESIN COMPOSITION EXCELLENT IN PROCESSING CHARACTERISTIC AT LOW TEMPERATURE例文帳に追加

低温加工特性に優れるアクリル系樹脂組成物 - 特許庁

PROCESSING METHOD OF NATURAL MICA USING HIGH-TEMPERATURE AND HIGH-PRESSURE WATER例文帳に追加

高温高圧水を用いた天然雲母の処理法 - 特許庁

CONTROL DEVICE, TEMPERATURE CONTROLLER AND TARGET VALUE PROCESSING DEVICE例文帳に追加

制御装置、温度調節器および目標値加工装置 - 特許庁

RESIN FOR SHEET AND FILM EXCELLENT IN LOW TEMPERATURE PROCESSING PROPERTY例文帳に追加

低温加工性に優れるシートおよびフィルム用樹脂 - 特許庁

METHOD FOR CONTROLLING TEMPERATURE OF THERMAL HEAD AND THERMAL PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

サーマルヘッドの温度制御方法およびサーマル処理装置 - 特許庁

BOARD PLACING TABLE, BOARD PROCESSING APPARATUS AND TEMPERATURE CONTROLLING METHOD例文帳に追加

基板載置台、基板処理装置、及び温度制御方法 - 特許庁

DEVICE FOR HEATING AND PROCESSING SEMICONDUCTOR FILM AT LOW TEMPERATURE例文帳に追加

低温下における半導体フィルムの加熱処理装置 - 特許庁

METHOD FOR CONTROLLING TEMPERATURE OF THERMAL HEAD AND THERMAL PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

サ—マルヘッドの温度制御方法およびサ—マル処理装置 - 特許庁

SUBSTRATE MOUNTING TABLE, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND TEMPERATURE CONTROL METHOD例文帳に追加

基板載置台、基板処理装置、および温度制御方法 - 特許庁

INFORMATION PROCESSOR, INFORMATION PROCESSING SYSTEM, TEMPERATURE CONTROL METHOD, AND TEMPERATURE CONTROL PROGRAM例文帳に追加

情報処理装置、情報処理システム、温度制御方法および温度制御プログラム - 特許庁

The liquid temperature of the processing liquid is lowered down to the determined energy-saving liquid temperature.例文帳に追加

そして、その決定した省エネ液温度まで処理液の液温度を低下させる。 - 特許庁

The manufacturing method comprises subjecting the substrate alternately to high-temperature processing at ≥20°C and low-temperature processing at ≥20°C, respectively, a plurality of times at a difference of 40 to 240°C between the high-temperature and low-temperature processing.例文帳に追加

製造方法は、基材に対して２０℃以上の温度の高温処理と２０℃以下の温度の低温処理とを交互に各々複数回行ない高温と低温処理の温度差が４０〜２４０℃。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus that improves reproducibility of plasma processing such as a plasma deposition processing, by maintaining a low process temperature, when carrying out the plasma processing under the process temperature at a low temperature range of about room temperature.例文帳に追加

プロセス温度が室温程度の低い温度帯域でプラズマ処理する際に、そのプロセス温度を低く維持してプラズマ成膜処理等のプラズマ処理の再現性を向上させることが可能なプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

Next, the substrate is subjected to alignment processing of dipoles at above the high- temperature side glass transition temperature of the non-irradiated portions and is then subjected to alignment processing of a reverse direction at a temperature above the low-temperature side glass transition temperature of the irradiated portions and below the high-temperature side glass transition temperature.例文帳に追加

次に非照射部位の高温側ガラス転位温度以上でダイポールの配向処理を行い、その後照射部位の低温側ガラス転位温度以上でかつ高温側ガラス転位温度未満の温度で逆向きの配向処理を行う。 - 特許庁

A temperature data conversion processing part 29 converts the temperature detected by the temperature sensor 6 to the temperature data for controlling the air conditioner.例文帳に追加

温度データ換算処理部２９は、温度センサ６によって検出された温度を、空調機を制御するための温度データに換算する。 - 特許庁

To provide a temperature characteristics correction circuit that applies analog processing to a signal changed, in proportion to an absolute temperature for correcting the temperature without having to use a thermistor.例文帳に追加

絶対温度に比例して変化する信号をアナログ処理にて且つサーミスタを用いずに温度補正する。 - 特許庁

The processing temperature is set to a comparatively low temperature enough to avoid decomposing diethyl sulfur itself.例文帳に追加

プロセス温度は、ジエチル硫黄自体が分解しないような比較的低温に設定する。 - 特許庁

HIGH TEMPERATURE GASIFYING FURNACE STRUCTURE IN WASTE GASIFYING PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

廃棄物ガス化処理装置における高温ガス化炉構造 - 特許庁

To provide a development processing device with which temperature control can stringently be performed by suppressing the temperature rise of a development processing liquid.例文帳に追加

現像処理液の温度上昇を抑制して温度管理を厳しく行える現像処理装置を構成する。 - 特許庁

PROCESSING METHOD AND DEVICE FOR BOIL-OFF GAS OF LOW TEMPERATURE LIQUEFIED GAS例文帳に追加

低温液化ガスのボイルオフガス処理方法及び同装置 - 特許庁

In the dehydrogenating step, the dehydrogenating step is conducted at a second processing chamber temperature T_2 higher than the first processing chamber temperature T_1.例文帳に追加

脱水素工程では、第１処理室温度Ｔ_1よりも高い第２処理室温度Ｔ_2で脱水素処理を行う。 - 特許庁

MATERIAL-TEMPERATURE CONTROL SYSTEM IN CONTINUOUS STRIP-MATERIAL PROCESSING LINE例文帳に追加

連続ストリップ材処理ラインにおける材温制御システム - 特許庁

PLASMA PROCESSING DEVICE, TEMPERATURE CONTROL DEVICE, AND CONTROL METHOD THEREFOR例文帳に追加

プラズマ処理装置、温度制御装置及びその制御方法 - 特許庁

INFORMATION PROCESSING APPARATUS, ABNORMAL TEMPERATURE DETECTION METHOD AND PROGRAM例文帳に追加

情報処理装置、異常温度検出方法及びプログラム - 特許庁

APPARATUS FOR ADJUSTING TEMPERATURE OF DRYING PART FOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL PROCESSING UNIT例文帳に追加

感光材料処理装置用乾燥部温度調整装置 - 特許庁

TEMPERATURE DISPLAY DEVICE, ELECTRIC APPARATUS, AND INFORMATION PROCESSING DEVICE例文帳に追加

温度表示装置及び電気機器、並びに情報処理機器 - 特許庁

When a chip temperature of the CPU 1 is low, a processing speed is increased, and when it becomes a high temperature, the processing speed is automatically lowered.例文帳に追加

ＣＰＵ１のチップ温度が低い時には、処理スピードが上がり、高温になると自動的に処理スピードを下げる。 - 特許庁

To provide a temperature control device capable of reducing costs required for managing temperature of a substrate processing apparatus, and to provide a substrate processing system with the temperature control device.例文帳に追加

基板処理装置の温度管理に要するコストを低減することができる温調装置およびそれを備えた基板処理システムを提供する。 - 特許庁

This electronic clinical thermometer comprises a temperature sensor element for acquiring a temperature signal, and a temperature calculation device for executing processing of the temperature signal.例文帳に追加

本発明の電子体温計は、温度信号を獲得する温度センサー素子、及び、温度信号の処理を実行する温度計算装置、からなる。 - 特許庁

To provide a plasma processing device capable of carrying out plasma processing uniformly at a low temperature.例文帳に追加

低温で均一なプラズマ処理を行なうことができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁