「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

In a hydrogen sintering processing, hydrogen is introduced into the thermal treatment device, the wafer is raised in temperature and kept at a constant temperature (step ST1), and when the wafer gets higher than a certain temperature, it is subjected to a hydrogen sintering processing (step ST2), and then the wafer is decreased to a prescribed temperature in the thermal treatment device (step ST3).例文帳に追加

水素シンター処理においては、水素を装置内に導入してウエハー温度を一定温度に上昇させ（ステップＳＴ１）、ウエハー温度が一定以上になったら水素シンター処理を行ない（ステップＳＴ２）、その後熱処理装置内で一定温度以下に温度を下げる（ステップＳＴ３）。 - 特許庁

When a service client side (more specifically a worker) makes a first information processing unit recognize a temperature-measuring recorder, which gained the temperature data, extraction of temperature data is automatically initiated by that trigger, and the extracted temperature data are automatically transmitted to a second information processing unit.例文帳に追加

サービス依頼者側（具体的には作業者）が温度データを取得した温度測定記録装置を第１情報処理装置に認識させると、それを契機として自動的に温度データの抽出が開始され、抽出された温度データが自動的に第２情報処理装置へと送信される。 - 特許庁

The controller may be coupled to the temperature sensor to determine an operating setting value of the data processing system based on a prediction of a temperature of the data processing system which is a function of the plurality of actual temperatures and the operating setting value of the data processing system.例文帳に追加

一例では、コントローラは、複数の実温度とデータ処理システムの作動設定値との関数であるデータ処理システムの温度の予測に基づいてデータ処理システムの作動設定値を判断するために温度センサに結合される。 - 特許庁

To improve process quality and yield by suppressing heat radiation from a furnace port in the processing furnace, and improving uniformity of temperature distribution within the substrate surface simultaneously with increase of uniform temperature length in the processing chamber in the substrate processing apparatus.例文帳に追加

基板処理装置に於いて、処理炉に於ける炉口部からの放熱を抑制し、処理室の均熱長を増大させると共に基板面内の温度分布の均一性を向上して、処理品質、歩留りの向上を図る。 - 特許庁

The substrate processing device changes processing liquid stored in the processing tank 10 from pure water to sulfuric acid, adjusts the liquid temperature of the changed sulfuric acid at a prescribed temperature.例文帳に追加

処理槽１０に貯留される処理液を、純水から硫酸に交換するとともに、交換後の硫酸の液温を所定温度に温調する液交換処理において、まず、処理槽１０および外槽２０から純水を排出する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which has small variation in CD (Critical Dimension) precision by stabilizing the temperature of an in-apparatus member of the plasma processing apparatus.例文帳に追加

プラズマ処理装置の装置内部材の温度を安定化し、ＣＤ（Critical Dimension）精度の変動の少ないプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of continuously feeding a processing liquid having reduced variation in temperature to a substrate to be processed.例文帳に追加

温度ばらつきが低減された処理液を被処理基板へ連続的に供給することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an information processing apparatus and program capable of detecting the occurrence of abnormal conditions because of a high temperature while suppressing a processing load.例文帳に追加

処理負荷を抑えつつ高温による異常発生の検出を行うことができる情報処理装置及びプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a control device of a substrate processing device for determining an execution of a dummy process for adjusting the state in a processing vessel on the basis of conditions about temperature.例文帳に追加

温度に関する条件に基づき処理容器内の状態を整えるためにダミー処理を実行するか否かを判定する。 - 特許庁

Then, the insulating film is formed and the magnetic substance formed body is obtained through the heating and pressure application processing (molding processing) at prescribed temperature.例文帳に追加

そして、その後に絶縁皮膜を形成し、さらに所定温度での加熱加圧処理（成形処理）を経て、磁性体成形体を得る。 - 特許庁

To provide a processing method and a processing device capable of performing TEC (Thermally diffused Expanded Core) heating at a high temperature to obtain an end part of an optical fiber with low loss.例文帳に追加

高温でのＴＥＣ加熱を可能とし、低損失な光ファイバ端部が得られる加工方法および加工装置を提供する。 - 特許庁

When the detected temperature by a temperature sensor 46 is equal to or under set temperature (th) in the midst of processing the paper 40 being cardboard, the interruption of the thin paper printing job in the queue is performed.例文帳に追加

厚紙の記録用紙４０の処理中に温度センサ４６の検出温度が設定温度ｔｈ以下になった場合、待ち行列の薄紙の印刷ジョブを割り込み処理させる。 - 特許庁

Then, a temperature information value is obtained from the temperature sensor 2, and an estimation value obtained by adding a specific correction value to the temperature information value by information-processing device 3 is displayed on a display device 4.例文帳に追加

温度センサ（２）により温度情報値を得、情報処理装置（３）により温度情報値に所定の補正値を加えることにより得られる推定値を表示装置（４）に表示する。 - 特許庁

To provide a temperature fuse device which can aim at facilitation of loading of a temperature fuse part on an electric circuit board and at simplification of processing of the temperature fuse part and the electric circuit board.例文帳に追加

電気回路基板に対する温度ヒューズ部の装着の容易化を図ると共に温度ヒューズ部および電気回路基板の加工の簡素化を図り得る温度ヒューズ装置を提供する。 - 特許庁

To control the driving temperature of a semiconductor laser element and the driving temperature of an element that performs predetermined processing for laser light emitted from the semiconductor laser element so that they are in an appropriate temperature range.例文帳に追加

半導体レーザ素子の駆動温度と半導体レーザ素子から出射されたレーザ光に対し所定の処理を施す素子の駆動温度とを適切な温度範囲内に制御すること。 - 特許庁

Temperature rise of the sample 6 surface by irradiation of the focused charged particle beams 3 is measured by the scanning thermal microscope, and when it exceeds the prescribed temperature, processing is interrupted and is not performed until temperature drops.例文帳に追加

走査熱顕微鏡で集束荷電粒子ビーム3照射によるサンプル6表面の温度上昇測定し、所定温度を超える場合には加工を中断し、温度が下がるまで待つ。 - 特許庁

To provide a heat treatment apparatus capable of quickly obtaining a temperature and its temperature distribution of a semiconductor wafer for temperature monitoring at the time of heat treatment without opening a processing container to the air.例文帳に追加

温度モニタ用半導体ウエハの熱処理時の温度及びその温度分布を、処理容器内を大気開放することなく迅速に求めることができる熱処理装置を提供する。 - 特許庁

A heater 3 adjusts the temperature of the sidewall 1 while the semiconductor substrate installed in the processing chamber 10 reaches a target temperature based on the acquired temperature of the semiconductor substrate.例文帳に追加

そして、取得された半導体基板の温度に基づいて、処理室１０内に設置された半導体基板が目標温度となる状態に、側壁１の温度がヒータ３により調整される。 - 特許庁

To provide a temperature controller capable of detecting temperature without imparting an excessive load to a control processing system without reducing responsiveness of temperature control more than necessary.例文帳に追加

制御処理系に過剰な負荷を与えることなく、かつ温度制御の応答性を必要以上に低下させずに温度検出を行うことのできる温度制御装置を提供する。 - 特許庁

For instance, the supercritical fluid contains carbon dioxide in a supercritical state, and the high temperature processing is performed at a temperature approximately equal to and exceeding 80°C which is higher than the critical temperature of about 31°C.例文帳に追加

例えば、超臨界流体は超臨界状態で二酸化炭素を含み、高温処理は、約３１℃の臨界温度より高い８０℃とほぼ同じ以上の温度で実施する。 - 特許庁

When the dry room indoor temperature is higher than the dry room indoor preset temperature (step S20: NO), the purge gas quantity, the main processing inlet temperature, and the rotational frequency are controlled in order (step S100-S140).例文帳に追加

ドライルーム室内温度がドライルーム室内設定温度より高い場合は（ステップＳ２０：ＮＯ）、パージ風量、主処理入口温度、回転数の順で制御する（ステップＳ１００〜Ｓ１４０）。 - 特許庁

This calculation processing is executed by using the temperature Tcatin (i-1) of the exhaust gas flowing in at least the catalyst 30, the cylinder inside temperature Tc(i-1) after combustion and the atmospheric temperature Ta(i-1).例文帳に追加

この算出処理は、少なくとも触媒３０に流入する排気ガスの温度Ｔcatin(i-1)と、燃焼後の筒内温度Ｔc(i-1)と、大気温度Ｔa(i-1)とを用いて実行される。 - 特許庁

In this case, the temperature of the belt is detected, and a printing processing is controlled on the basis of the detection temperature, then, the temperature rise inside the image forming apparatus is suppressed.例文帳に追加

この場合、ベルトの温度が検出され、検出温度に基づいて印刷処理の制御が行われるので、画像形成装置の内部の温度が高くなるのを抑制することができる。 - 特許庁

To provide a thermal processing apparatus for generating a correction value of a target temperature in a simple way.例文帳に追加

目標温度の補正値を簡易に生成することができる熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To suitably move a body to be driven in a processing container which has a vacuum and high-temperature inner atmosphere.例文帳に追加

内部雰囲気が真空且つ高温の処理容器内で被駆動体を適切に移動させる。 - 特許庁

To provide a disk storage device for inhibiting alternate processing under a low temperature environment.例文帳に追加

低温の温度環境下では代替処理を禁止するディスク記憶装置を提供することにある。 - 特許庁

The workpiece temperature is maintained at a high value at the end of processing to assisting in dechucking.例文帳に追加

工作物温度は、デチャッキングを援助するために加工の終了時に高い値に維持される。 - 特許庁

It is easy to maintain processing temperature within criteria of a cure profile of a polymer optical layer.例文帳に追加

ポリマ光学層のキュアプロファイルの範疇に処理温度を維持することが容易に達成される。 - 特許庁

A hydrofluoric acid vapor as a processing gas is vaporized and generated from the hydrofluoric acid at room temperature.例文帳に追加

常温のフッ化水素酸からは、処理ガスとしてのフッ酸蒸気が蒸発して生成される。 - 特許庁

At this time, the amount of transferring the processing liquid is controlled in accordance with the detected temperature or the humidity.例文帳に追加

この時、検出された温度または湿度に従って、その処理液の転写量を制御する。 - 特許庁

The conditions of the accumulation processing of the waste mushroom bed is such that a temperature is 15-35°C and a period is 4-6 weeks.例文帳に追加

廃菌床の堆積処理の条件は、温度が１５〜３５℃で期間が４〜６週間である。 - 特許庁

In this case, execution of burnup type temperature up processing is inhibited thereafter (S135, S136, S125).例文帳に追加

この場合には、以後、バーンアップ型昇温処理の実行を禁止している（Ｓ１３５，Ｓ１３６，Ｓ１２５）。 - 特許庁

The battery charger 20 performs first and second temperature estimation processing.例文帳に追加

そして、バッテリ充電器２０は、１回目の温度評価処理、２回目の温度評価処理を実行する。 - 特許庁

The cut-off frequency of the notch filter 36 in the filtering processing is set in accordance with temperature.例文帳に追加

フィルタリング処理にあたってノッチフィルタ３６の遮断周波数は温度に基づき設定される。 - 特許庁

The weather resistance-testing device is provided with a trestle (support body) 2, a processing device 6, a temperature-measuring instrument 4, and a moisture- measuring instrument 5.例文帳に追加

架台（支持体）２と、処理装置６と、温度測定器４と、湿度測定器５とを備える。 - 特許庁

To provide a polyester composition which has excellent processing stability even after storage under an atmosphere of high temperature and high humidity.例文帳に追加

高温多湿下で保存した後の加工安定性に優れたポリエステル組成物の提供。 - 特許庁

The second processing is a process for increasing the target operation frequency, and increasing the target evaporation temperature.例文帳に追加

第２処理は、目標運転周波数を上げ、かつ、目標蒸発温度を上げる処理である。 - 特許庁

The workpiece temperature is maintained at a high value at the final step of the processing in order to assist the dechucking.例文帳に追加

ワークピース温度は、チャック解除を補助するために処理の最後で高い値で維持される。 - 特許庁

Interior of a thermal processing apparatus 101 is set to oxygen atmosphere and raised to predetermined temperature.例文帳に追加

熱処理装置１０１内の雰囲気を酸素雰囲気とし、所定程度まで温度を上昇させる。 - 特許庁

In the correction coefficient calculation processing, a temperature correction coefficient is acquired according to the factor of non-generation.例文帳に追加

その補正係数算出処理では、不発生要因に従って、温度補正係数を取得する。 - 特許庁

In the signal processing part 15, the temperature of the measuring region A is calculated on the basis of the electric signal.例文帳に追加

信号処理部１５では、その電気信号に基づき、測定領域Ａの温度を算出する。 - 特許庁

In performing the RIE, chlorine gas is selected and the processing temperature is set within a range of 50 to 300°C.例文帳に追加

ＲＩＥを行う際には、塩素ガスを選択し、加工温度を５０℃〜３００℃の範囲内とする。 - 特許庁

TEMPERATURE CONTROLLED SUBSTRATE HOLDER HAVING EROSION RESISTANT INSULATING LAYER USED FOR SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

基板処理システムに用いられる耐浸食性絶縁層を有する温度制御された基板ホルダ - 特許庁

In the dew condensation prevention processing chamber 120, temperature of the TAC film 3 is maintained within a predetermined range.例文帳に追加

結露防止処理室１２０では、ＴＡＣフィルム３の温度が所定の範囲内に維持される。 - 特許庁

To provide a method for determining nondestructively a brittle temperature optimum for processing a frozen analyte.例文帳に追加

凍結被検体の加工に最適な脆化温度を非破壊的に決定する方法を提供する。 - 特許庁