「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To appropriately perform a correction processing for noise reduction according to temperature fluctuation.例文帳に追加

ノイズ低減を目的とした補正処理を、温度変動に応じて適正に行う。 - 特許庁

The thermal process has the processing temperature lower than the melting point of the phase transformation film.例文帳に追加

熱処理工程は、相変化膜の熔融点より低い工程温度を含む。 - 特許庁

In addition, the film for processing can be drawn at a temperature of 100≤ or lower.例文帳に追加

また、この加工用フィルムは、１００℃以下の温度にて絞り加工が行える。 - 特許庁

To accurately determine whether or not temperature raising processing of a particulate filter must be performed.例文帳に追加

パティキュレートフィルタの昇温処理を行うべきか否かを正確に判断する。 - 特許庁

To provide a solid processing agent which is inexpensive and excellent in suitability to casting particularly at high temperature and high humidity when a solid processing agent is replenished to a processing tank in an automatic processing machine, and to provide a processing method using the same.例文帳に追加

自動現像機における処理槽に固体処理剤を補充するに際し、安価で、特に高温・高湿下での投入性に優れた固体処理剤及びこれを用いた処理方法を提供する。 - 特許庁

The electronic control unit 10 estimates the final arrival temperature (that is, the substantial outside air temperature) of the oil temperature, by executing predetermined arithmetic operation processing, by using the elapsed time and the last time engine cooling water temperature preserved in the memory 23 and the engine cooling water temperature acquired this time from the cooling water temperature sensor 18 in outside air temperature estimating processing the later.例文帳に追加

電子制御ユニット１０は、後述する外気温推定処理においては、メモリ２３に保存されている経過時間および前回のエンジン冷却水温と、今回冷却水温センサ１８から取得したエンジン冷却水温とを用いて、所定の演算処理を実行し、油温の最終到達温度（すなわち、概ね外気温）を推定する。 - 特許庁

The heat generating layer 3 is configured with a metallic thin film to which anneal processing is applied at a temperature higher than the operating temperature.例文帳に追加

発熱体層３は、動作温度よりも高温でのアニール処理が施された金属薄膜により構成されている。 - 特許庁

To satisfactorily execute temperature control of a liquid temperature in plural development processing tanks, without having to increase the capacity of electric power to increase.例文帳に追加

電力の容量を増大させることなく、複数の現像処理槽の液温の温度調節を良好に行う。 - 特許庁

Before the preheat processing, an engine water temperature detected by a water temperature sensor 71 is stored in a backup RAM 54.例文帳に追加

このプレヒート処理に先立ち、水温センサ７１によって検出されるエンジン水温をバックアップＲＡＭ５４に記憶する。 - 特許庁

A central processing unit 15 stores the voltage control value and a temperature detected by a temperature sensor in a memory 20 in a state of pair.例文帳に追加

中央処理装置は、その電圧制御値と温度センサーによって検知される温度を対にしてメモリに記憶する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus that eliminates unnecessary energy during temperature rising of piping and can efficiently raise temperature.例文帳に追加

配管昇温時の無駄なエネルギーを排除し、効率よく昇温させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

Further, the destroy processing is performed in high temperature combustion waste as at 700°C or higher or in low temperature combustion waste gas at 400 to 200 °C.例文帳に追加

前記破壊処理を７００℃以上の高温燃焼排ガス又は４００〜２００℃の低温燃焼排ガスに行う。 - 特許庁

In a second thermal processing process (step S60), the polyimide film is heated up to a temperature equal to or higher than the curing temperature of the polyimide film.例文帳に追加

第２熱処理工程（ステップＳ６０）では、ポリイミド膜を、ポリイミド膜の硬化温度以上の温度まで加熱する。 - 特許庁

Calibrating method is performed by heating the interior of the processing vessel 11, measuring the temperature of the wafer W in the processing vessel 11 by means of the sensor, predicting the temperature of the wafer W using the heat model, comparing an actually measured temperature with the predicted temperature, and then calibrating the reference heat model such that the predicted temperature substantially matches the actually measured temperature.例文帳に追加

校正の方法は、まず、処理容器１１内を加熱し、処理容器１１内のウエハＷの温度をセンサで測定し、熱モデルを用いてウエハＷの温度を予想し、実測温度と予想温度とを比較し、実測温度に予想温度が実質的に一致するように基準熱モデルを校正することにより行われる。 - 特許庁

The first set temperature is for dehydrating the processing object, the second set temperature is for drying and carbonizing the dehydrated processing object and the third set temperature is for stabilizing the carbonized processing object and reducing the smell of the processing object.例文帳に追加

第１の設定温度は、処理対象物を脱水させるため温度、第２の設定温度は、脱水させた処理対象物を乾燥し炭化させるための温度、第３の設定温度は、炭化させた処理対象物の安定化と処理対象物の臭気を減少するため温度とする。 - 特許庁

The processing circuit carries out second processing when the second temperature is lower than a second threshold value lower than the first threshold value, and carries out processing different from the second processing when the second temperature is higher than the second threshold value.例文帳に追加

また、処理回路は、第２温度が第１しきい値よりも低い第２しきい値未満である場合には、第２処理を実行し、第２温度が第２しきい値以上である場合には、第２処理とは異なる処理を実行する。 - 特許庁

The processing apparatus a silver halide photosensitive material which stops stirring the processing solution upon detecting a predetermined elapsed time, after processing has ended and stirs the processing solution on detecting the temperature of the processing solution dropping lower than a predetermined temperature.例文帳に追加

処理終了後に所定時間を経過したことを検知すると処理液の撹拌を停止させ、処理液の温度が所定温度よりも低くなったことを検知すると処理液の撹拌を行うように制御したハロゲン化銀写真感光材料の処理装置。 - 特許庁

Provided is a mechanism capable of imparting a predetermined specified in-plane temperature distribution to the processing object being processed, so that an in-plane temperature distribution of the processing object influences a processing result.例文帳に追加

処理対象物の面内温度分布が処理結果に影響を与えるため、処理中の処理対象物に、予め定められた特定の面内温度分布を与える事ができる機構を提案する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of improving the throughput, a temperature control method of the substrate processing apparatus, and a method of manufacturing a device which uses the substrate processing apparatus and the temperature control method.例文帳に追加

スループットを改善することのできる基板処理装置、及び基板処理装置の温調方法、及びこれら基板処理装置や温調方法を用いるデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

The increased temperature C42 of the initial adjustment processing period Tb is calculated on the basis of the initial adjustment processing period Tb and a second increased temperature rate ▵2b in the initial adjustment processing period Tb (S110).例文帳に追加

初期調整処理期間Ｔｂと初期調整処理期間Ｔｂにおける第２温昇率Δ２ｂに基づき、初期調整処理期間Ｔｂの温昇分Ｃ42を計算する（Ｓ１１０）。 - 特許庁

To accurately set a fixing member to the set temperature, when warm-up processing is completed.例文帳に追加

ウォームアップ処理の完了時に定着部材を設定温度に正確に合わせる。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR REGULATING TEMPERATURE OF SUBSTRATE, AND FOR PROCESSING SUBSTRATE例文帳に追加

基板温調装置、基板温調方法、基板処理装置及び基板処理方法 - 特許庁

To enhance the processing speed of a substrate alignment device having a temperature adjustment function.例文帳に追加

温度調節機能を持った基板位置合わせ装置の処理速度を向上する。 - 特許庁

To precisely and quickly estimate the temperature of an estimation object by light computation processing.例文帳に追加

推定対象の温度を精度良く速やかに、かつ軽い演算処理で推定する。 - 特許庁

To securely prevent a workpiece from being lowered in its temperature and shorten processing time.例文帳に追加

処理品の温度降下を確実に防止すると共に、処理時間を短縮する。 - 特許庁

This vacuum processing device 10 is structured to include the temperature control device.例文帳に追加

また真空処理装置１０はこの温度制御装置を備えるように構成される。 - 特許庁

LOW-TEMPERATURE MOCVD PROCESSING FOR MANUFACTURING PrxCa1-xMnO3 THIN FILM例文帳に追加

ＰｒｘＣａ１−ｘＭｎＯ３薄膜製造のための低温ＭＯＣＶＤ処理 - 特許庁

Processing temperature during the electrodeposition and the conversion are chosen not to exceed 500°C.例文帳に追加

電着及び変質の間の処理温度は、５００℃を超えない範囲で選択される。 - 特許庁

A temperature measuring apparatus monitors temperature of a semiconductor substrate, which is housed inside a processing chamber so as to supply gas to the process chamber of a wafer processing system.例文帳に追加

ウエハ処理システムの処理チャンバ内にガスを送出することもできるように、処理チャンバ内に容れられた半導体基板の温度をモニタするための温度測定装置。 - 特許庁

To carry out appropriate processing by effectively measuring temperature of a cell.例文帳に追加

セルの温度を効果的に測定して適切な処理を行うことができるようにする。 - 特許庁

Alternatively, the temperature of the sample 6 is measured, and after the sample has reached a prescribed temperature by heating by a heater or the like, focused charged particle beam etching processing or deposition processing is carried out.例文帳に追加

あるいはサンプル6の温度を測定し、サンプルがヒーター等の加熱により所定の温度になってから集束荷電粒子ビームエッチング加工またはデポジション加工を行う。 - 特許庁

To prevent uneven processing of a substrate by effectively equalizing temperature distribution of the substrate.例文帳に追加

基板の温度分布を効率的に均一化させ，基板の処理むらを防止する。 - 特許庁

Thereby, the end portion of the substrate W rises to the temperature corresponding to the chemical liquid processing.例文帳に追加

これにより、基板Ｗの端部が薬液処理に応じた温度に昇温する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a fuel cell component by low-temperature processing.例文帳に追加

燃料電池構成要素を低温処理で製造する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor element suited for processing under high temperature.例文帳に追加

高温下での処理に適した半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

METHOD FOR CONTROLLING ELECTRONIC TEMPERATURE OF PLASMA, PLASMA PROCESSING METHOD AND PLASMA PROCESSOR例文帳に追加

プラズマの電子温度を制御する方法，プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 - 特許庁

The resin is excellent in heat stability in processing at high temperature, and manifests a negative birefringence.例文帳に追加

この樹脂は、高温加工時の熱安定性に優れ、負の複屈折性を示す。 - 特許庁

The temperature of the Ti substrate is changed diversely, and a plasma nitriding processing is carried out.例文帳に追加

そして、Ｔｉ基板の温度を種々に変更してプラズマ窒化処理を行った。 - 特許庁

After heating of the wafer, the inside of the processing container 2 is kept at a uniform temperature atmosphere.例文帳に追加

ウェハ昇温後，処理容器２の内部を均一な温度雰囲気に維持する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus for maintaining the life of a seal member or the like, and for improving high-temperature processing capability by increasing the heating temperature of a substrate.例文帳に追加

シール部材等の寿命を維持するとともに基板の加熱温度を上げて高温処理能力を向上させることが可能な基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device which is capable of uniformly processing a substrate even when there is a difference in temperature between the substrate and a chemical.例文帳に追加

基板と薬液との温度差がある場合にも均一な基板処理が可能な基板処理装置を提供する。 - 特許庁

Subsequently, temperature regulation processing is started at time t5 earlier than time t6 when out-in circulation processing is started.例文帳に追加

続いて、外−内循環処理が開始される時刻ｔ６より前の時刻ｔ５において温調処理を開始する。 - 特許庁

Liquid exchange processing time for supplying sulfuric acid to the processing tank and regulating the temperature to a predetermined level can thereby be shortened.例文帳に追加

そのため、硫酸を処理槽に供給し、かつ、所定の温度に温調する液交換処理時間を短縮できる。 - 特許庁

The method and the system (100) are provided for processing a substrate (105) with a supercritical fluid by using high temperature processing.例文帳に追加

基板（１０５）を高温処理を用いて超臨界流体によって処理する方法及びシステム（１００）を提供する。 - 特許庁

To provide a processing-liquid supplying unit capable of maintaining processing liquid to be supplied to a nozzle at a constant temperature, and to provide a substrate-processing apparatus and method using the same.例文帳に追加

ノズルへ供給される処理液を一定温度に維持できる処理液供給ユニットと、これを利用する基板処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁