「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a substrate processing device that supplies a processing liquid maintained at a temperature that is suitable for processing, to the rear surface of a substrate.例文帳に追加

処理に適した温度の処理液を基板の裏面に供給できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

A processing chamber is heated at a processing temperature or higher beforehand when a substrate is charged, and it is cooled so that the substrate is kept at the processing temperature thereafter.例文帳に追加

基板が装入される前、処理室を処理温度以上に加熱し、基板が装入された後、基板が処理温度となる様に処理室を冷却する。 - 特許庁

To provide a substrate-processing apparatus and method for measuring the temperature of a processing liquid, accurately measuring the temperature of the processing liquid supplied to a substrate.例文帳に追加

基板に供給される処理液の温度を精度良く測定することができる基板処理装置および処理液温度測定方法を提供すること。 - 特許庁

The wafer W is cooled to predetermined temperature in the thermal processing apparatus 101 and then to room temperature in the processing apparatus 100, and carried out from the processing apparatus 100.例文帳に追加

熱処理装置１０１内で所定程度まで冷却させた後、処理装置１００内で室温程度まで冷却し、処理装置１００外に搬出する。 - 特許庁

During the processing state, when the temperature TLNC is lower than a low side determination temperature TRLL (S18), the processing is shifted to the regeneration processing by post injection (S14).例文帳に追加

その状態で、温度ＴＬＮＣが下側判定温度ＴＲＬＬより低くなると（Ｓ１８）、ポスト噴射による再生処理に移行する（Ｓ１４）。 - 特許庁

In processing load W2, set temperature other than the set temperature T1 reaches limit temperature within the standard release time, and Tc=Tc(2) is achieved.例文帳に追加

処理負荷Ｗ２の場合は、設定温度Ｔ１以外は標準復旧時間内に限界温度に達してしまう。 - 特許庁

In its temperature indication processing part 21, the detected temperatures of the temperature sensor 10 are processed, and outputted to the temperature indicator 11.例文帳に追加

その温度表示処理部２１は、温度センサ１０の検出温度を処理して、温度表示器１１に出力する。 - 特許庁

The first temperature is made higher than examination temperature in the examination step and processing temperature in the packaging step.例文帳に追加

また、前記第１温度を、前記検査工程における検査温度およびパッケージ工程における処理温度より高くする。 - 特許庁

During the execution of one of operation menus such as communication processing, music recording/reproducing processing, game processing, and various setting processing (step S1), temperature is measured (step S2) and whether the temperature is more or less than a prescribed temperature is checked (step S3).例文帳に追加

通信処理、音楽録音再生処理、ゲーム処理、各種設定処理等の動作メニューの一つを実行中（ステップＳ１）、温度測定を行い（ステップＳ２）、所定温度以上か以下かをチェックする（ステップＳ３）。 - 特許庁

To prevent occurrence of dew condensation on a processing liquid nozzle, and to uniformly perform processing in a substrate surface, in a processing process using a low-temperature processing liquid.例文帳に追加

低温の処理液を用いた処理処理において、処理液ノズルの結露の発生を防止し、処理を基板面内で均一に行う。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method, capable of executing high-temperature processing and rotation processing for a substrate.例文帳に追加

基板に対して高温処理および回転処理を実施することができる、基板処理装置および基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

In the hydrogen-storing step, the temperature in the processing chamber is heated to at least a first processing-chamber temperature T_1 so that the temperature of the alloy is not lowered from a maximum temperature of T_max by ≤100°C after reaching to the maximum temperature of T_max.例文帳に追加

水素吸蔵工程では、合金の温度が最高温度Ｔ_maxに到達した後、最高温度Ｔ_maxから１００℃以上低下しないように処理室内の温度を第１処理室温度Ｔ_1以上に加熱する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING FUEL CELL COMPONENT BY LOW-TEMPERATURE PROCESSING例文帳に追加

燃料電池構成要素を低温処理で製造する方法 - 特許庁

To improve temperature uniformity of a substrate in a thermal processing apparatus.例文帳に追加

熱処理装置において基板の温度均一性を向上する。 - 特許庁

FURNACE TEMPERATURE CONTROL METHOD FOR HEAT PROCESSING FURNACE EQUIPPED WITH REGENERATIVE BURNER例文帳に追加

リジェネレイティブバーナを備えた熱処理炉の炉温制御方法 - 特許庁

PLACEMENT TABLE DEVICE, PROCESSING APPARATUS, TEMPERATURE CONTROL METHOD, AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加

載置台装置、処理装置、温度制御方法及び記憶媒体 - 特許庁

DEVELOPMENT PROCESSOR AND METHOD FOR CONTROLLING TEMPERATURE OF DEVELOPMENT PROCESSING LIQUID例文帳に追加

現像処理装置及び現像処理液の温度調整方法 - 特許庁

NOISE REJECTION CIRCUIT, AND TEMPERATURE MEASUREMENT PROCESSING APPARATUS HAVING THE SAME例文帳に追加

ノイズ除去回路及びそれを備えた温度測定処理装置 - 特許庁

INTEGRATED LOW APPLICATION TEMPERATURE HOT MELT ADHESIVE PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

一体化された低適用温度ホットメルト接着剤加工システム - 特許庁

PROCESSING TEMPERATURE MEASURING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

処理温度測定方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

When the inside of the IC chip is judged to come within a prescribed temperature (processing S2), a prescribed test program is executed under the high-temperature environment (processing S3).例文帳に追加

所定温度範囲内と判断されれば（処理Ｓ２）、高温環境下による所定のテストプログラムを実行する（処理Ｓ３）。 - 特許庁

TEMPERATURE MEASURING APPARATUS, SIGNAL PROCESSOR AND SIGNAL PROCESSING PROGRAM例文帳に追加

温度計測装置、信号処理装置および信号処理プログラム - 特許庁

TEMPERATURE MEASUREMENT AND CONTROL OF WAFER SUPPORT IN THERMAL PROCESSING CHAMBER例文帳に追加

熱処理チャンバにおけるウエハ支持体の温度測定及び制御 - 特許庁

HEATING PROCESSING APPARATUS AND CONTROLLING METHOD FOR TEMPERATURE THERE OF例文帳に追加

加熱処理装置及び加熱処理装置の温度制御方法 - 特許庁

The temperature regulator 4 regulates temperatures of the processing liquid H.例文帳に追加

温度調節装置４は加工液Ｈの温度を調節する。 - 特許庁

In heating cooking processing, a shelf temperature T0 is detected (S4).例文帳に追加

加熱調理処理において、棚温度Ｔ_0 が検出される（Ｓ４）。 - 特許庁

In an etching processing tank 211, a temperature adjusting roller 230 for controlling a temperature is provided.例文帳に追加

エッチング処理槽２１１内には、温度コントロール用の温度調整ローラ２３０が設けられている。 - 特許庁

PURIFICATION TREATING AGENT FOR HIGH TEMPERATURE EXHAUST GAS AND PURIFICATION PROCESSING METHOD FOR HIGH TEMPERATURE EXHAUST GAS USING THE SAME例文帳に追加

高温排ガス用の浄化処理剤及びそれを用いた高温排ガスの浄化処理方法 - 特許庁

A processing part 13 reads as appropriate a temperature detection signal outputted from a temperature sensor 25.例文帳に追加

演算処理部１３は、温度センサ２５から出力される温度検出信号を適宜読み込む。 - 特許庁

SUBSTRATE TEMPERATURE DETECTING METHOD, SUBSTRATE TEMPERATURE DETECTING DEVICE, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS PROVIDED THEREWITH例文帳に追加

基板温度検知方法および基板温度検知装置ならびにそれを用いた基板処理装置 - 特許庁

SEMICONDUCTOR WAFER PROVIDED WITH PROCESSING TEMPERATURE MEASURING METHOD AND TEMPERATURE MEASURING METHOD OF SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

半導体ウェハの処理温度測定方法及び温度測定手段を備える半導体ウェハ - 特許庁

As the result, a temperature difference between the temperature controlling plates 36 can be reduced, and the temperature of the processing liquid can be precisely controlled by the temperature controlling plates 36.例文帳に追加

その結果、各温調板３６間での温度差を低減させることができ、温調板３６によって処理液を精度良く温調することができる。 - 特許庁

Thereafter, on condition that a temperature difference between the reference temperature and measured temperature has reached the set temperature or above, the resist correction processing is executed (S1).例文帳に追加

その後は，その基準温度と測定温度との温度差が前記設定温度以上に達したことを条件に，レジスト補正処理が実行される（Ｓ１）。 - 特許庁

The terminal control part 6 includes a processing control part (termination processing control part 7) which, if the detected temperature has reached the notification temperature, temporarily suspends the predetermined processing till the detected temperature becomes lower than the notification temperature.例文帳に追加

端末制御部６は、前記検出された温度が通知温度に達している場合、この温度が通知温度を下回るまで前記所定の処理を一時的に中断させる処理制御部（終了処理制御部７）を備えている。 - 特許庁

The temperature measuring part of the heat source decision device 320 acquires the temperature of the main processing part 330 measured by a temperature sensor 310.例文帳に追加

熱源判定装置３２０の温度測定部は、温度センサ３１０が測定した主処理部３３０の温度を取得する。 - 特許庁

To provide a body temperature information terminal device which can simply measure a basal body temperature, etc., and to provide a body temperature information processing system.例文帳に追加

簡便に基礎体温等を計測可能な身体温度情報端末装置と身体温度情報処理システムを提供する。 - 特許庁

The increased temperature C42 is deducted from a second temperature C2b at an image formation processing start time point, to obtain a fourth temperature C4a (S120).例文帳に追加

画像形成処理開始時点の第２温度Ｃ２ｂから温昇分Ｃ42を差し引いて第４温度Ｃ４ａとする（Ｓ１２０）。 - 特許庁

To provide a substrate processing device satisfactorily providing a processing using a high-temperature processing solvent to a substrate.例文帳に追加

基板に対して、高温の処理液を用いた処理を良好に施すことができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a temperature measuring method of accurately finding a thermal processing temperature on the basis of a sheet resistance, and also to provide a temperature management method for a simple thermal processing device.例文帳に追加

シート抵抗に基づいて熱処理温度を正確に求めることができる温度測定方法および、簡便な熱処理装置の温度管理方法を提供する。 - 特許庁

A CPU 8 detects temperature by a temperature sensor 7, reads a temperature alternative processing discrimination table 16 from a ROM 19 and decides whether alternative processing is necessary or not from ambient temperature and a recording track position.例文帳に追加

ＣＰＵ８は温度センサ７にて温度を検出し、ＲＯＭ１９から温度代替処理判定テーブル１６を読み出して周囲温度と記録トラック位置から代替処理の要否を判断する。 - 特許庁

To make an appropriate temperature compensation even when the ambient temperature of a thermosensitive element and the ambient temperature of processing means (processing circuit) that performs a process for a temperature compensation of the thermosensitive element change independently of each other.例文帳に追加

感熱素子の周囲温度と、感熱素子の温度補償のための処理を行う処理手段（処理回路）の周囲温度とが互いに無関係に変化しても、適切な温度補償が行えるようにする。 - 特許庁

To improve processing efficiency of heat processing more with respect to a heat processing method of heat-processing a semiconductor silicon substrate at high temperature in a vertical heat processing furnace.例文帳に追加

縦型熱処理炉内で半導体シリコン基板を高温で熱処理する熱処理方法に関し、熱処理の処理効率をより向上させることができるようにする。 - 特許庁

To efficiently and inexpensively perform circulation and temperature control of processing liquid in a photosensitive material processing apparatus.例文帳に追加

感光材料処理装置における処理液の循環や温調を安価に効率よく行う。 - 特許庁

FUEL CELL SYSTEM AND PROCESSING METHOD IN ITS LOW-TEMPERATURE STARTING例文帳に追加

燃料電池システムおよびその低温起動時における処理方法 - 特許庁

To provide a temperature type expansion valve reduced in its processing cost.例文帳に追加

加工コストを低減させた温度式の膨張弁を提供する。 - 特許庁