「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

A great amount of free carbon included in the residue is subjected to low temperature ashing processing to remove the most of them.例文帳に追加

残渣中に含まれる大量の遊離カーボンを低温灰化処理することで大部分を除去する。 - 特許庁

Further, the temperature control of a dispenser and a cooler is conducted on the basis of the result by the arithmetic processing of the optical spectrum data.例文帳に追加

更に、分光スペクトルデータの演算処理結果に基づいて、分注機、クーラーの温度制御を行う。 - 特許庁

To improve in-plane temperature distribution of a processed object, in a processor equipped with a plurality of processing parts.例文帳に追加

複数個の処理部を備える処理装置において、被処理物の面内温度分布を改善する。 - 特許庁

There is no temperature gradient in the processing chamber, so refractive indexes and etching rates can be made uniform among the wafers.例文帳に追加

処理室内に温度勾配がないので、ウエハ相互間の屈折率やエッチングレートを均一化できる。 - 特許庁

An n-type defect layer being a lattice defect is formed by the proton irradiation and the low-temperature annealing processing.例文帳に追加

プロトン照射とその低温アニール処理により格子欠陥であるｎ型欠陥層を形成できる。 - 特許庁

The electrode for an electric double layer capacitor is composed of carbon subjected to high temperature processing in a high magnetic field.例文帳に追加

高磁場中で高温処理したカーボンを用いて、電気二重層キャパシタ用電極を構成する。 - 特許庁

To perform self-calibration by a probe for measuring the temperature of a substrate inside a substrate processing chamber.例文帳に追加

基板処理チャンバ中の基板の温度を測定するためのプローブで、自己較正ができるようにする。 - 特許庁

To easily obtain temperature uniformity on a susceptor that is simple in structure, in a substrate processing apparatus.例文帳に追加

基板処理装置に於いて、簡単な構造で而も温度均一性が容易に得られるサセプタを提供する。 - 特許庁

This torque detector 10 is provided with a torque sensor 12, a temperature sensor 14, a signal processing part 16 and the like.例文帳に追加

トルク検出装置１０は、トルクセンサ１２、温度センサ１４、信号処理部１６等を備えている。 - 特許庁

Then, a press processing is perfromed in some cases (S6), and a carbonization treatment is conducted under specific temperature conditions (S7).例文帳に追加

その後、場合によってはプレス加工を行ない（Ｓ６）、所定の温度条件で炭化処理を行なう（Ｓ７）。 - 特許庁

When the correction control signals are inputted, the thermal-infrared camera 20 performs the temperature drift correction processing.例文帳に追加

熱赤外線カメラ２０は、その補正制御信号が入力されると、温度ドリフト補正処理を行う。 - 特許庁

To provide an electrostatic attraction device capable of stably controlling the processing surface temperature of a target to be processed.例文帳に追加

被処理体の処理面温度を安定的に制御可能な静電吸着装置を提供すること。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR CONTROLLING TEMPERATURE OF SUBSTRATE TO BE PROCESSED, AND PLASMA PROCESSING EQUIPMENT EQUIPPED WITH THIS例文帳に追加

被処理基板の温度調節装置及び温度調節方法、並びにこれを備えたプラズマ処理装置 - 特許庁

To make highly accurate temperature control on a substrate mounting board and to uniformize processing in the surface of a wafer.例文帳に追加

基板載置台による温度制御を高精度なものとし、ウエハ面内での処理の均一化を図る。 - 特許庁

In the case that the detected temperature T exceeds 160°C (S6), it is proceeded to a warped pot decision processing.例文帳に追加

検出温度Ｔが１６０℃以上になったと判断すると（Ｓ６）、反り鍋判定処理に移行する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device with improved accuracy or reliability of a temperature of a sample to be processed.例文帳に追加

処理される試料の温度の精度あるいは信頼性を向上させたプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

The ion implantation apparatus is provided with an infrared camera 36 for measuring a temperature distribution of a region including a slit 26 of an analytic slit plate 24 to output temperature data D representing the temperature distribution and a data processing unit 38 for processing the temperature data D from the infrared camera 36 to measure the size of the slit 26 of the analytic slit plate 24.例文帳に追加

分析スリット板２４のスリット２６を含む領域の温度分布を測定して当該温度分布を表す温度データＤを出力する赤外線カメラ３６と、この赤外線カメラ３６からの温度データＤを処理して、分析スリット板２４のスリット２６の寸法を測定するデータ処理装置３８とを設けた。 - 特許庁

This thermometer is provided with a temperature detecting part 3 for detecting the body temperature, a control part 11 for processing the body temperature value data output from the temperature detecting part 3 by a prescribed processing, and for outputting a control signal to each part, a liquid crystal display 6, a USB module 15, and a series A plug 16 of USB standards.例文帳に追加

体温を検温する検温部３と、この検温部３から出力された体温値データに所定の処理を施すとともに各部に対して制御信号を出力する制御部１１と、液晶表示器６と、ＵＳＢモジュール１５及びＵＳＢ規格仕様のシリーズＡプラグ１６とを備える。 - 特許庁

A performance determination part 413 continuously executes processing for monitoring the temperature difference between the temperature of the heating device 21 and the internal temperature of the casing 11 for a predetermined period after the temperature difference exceeds a certain specific threshold TH, and determines whether the performance of the radiation module 21 is deteriorated based on the result of the monitoring processing.例文帳に追加

性能判定部４１３は、温度差がある特定のしきい値ＴＨを超えた時点から所定期間中、発熱デバイス２１の温度と筐体１１内の温度との間の温度差を監視する処理を継続して実行し、この監視処理の結果に基づいて、放熱モジュール２１の性能が低下したか否かを判定する。 - 特許庁

When the off-time count finish flag is not stored (S12:NO), the device executes only steady temperature energization processing without executing rapid temperature rise energization processing to the glow plug (S17) while storing a rapid temperature rise energization finish flag in a rapid temperature rise energization finish flag storage area of a RAM in the microcomputer (S14).例文帳に追加

オフ時間カウント終了フラグが記憶されていなかった場合には（Ｓ１２：ＮＯ）、急速昇温通電終了フラグをマイクロコンピュータ内のＲＡＭの急速昇温通電終了フラグ記憶エリアに記憶して（Ｓ１４）、グロープラグへの急速昇温通電処理を行わず、定常温度通電処理（Ｓ１７）のみを行う。 - 特許庁

Since the service life of the information processing equipment becomes shorter in substantially proportion to a temperature or a rising temperature (calorific value) when conducting electricity to the equipment, an integrated value of temperature in the equipment or calorific value is used as the information for grasping a degree of consumption of the information processing equipment 1.例文帳に追加

情報処理装置１の消耗度を寿命は装置への通電時の温度又は上昇温度（発熱量）に略比例して短くなることから、装置内温度又は発熱量の積算値を消耗度を把握する情報として使用する。 - 特許庁

The grain thermometer for measuring a storage temperature of grains stored in a pile under predetermined conditions in the warehouse has a plurality of temperature sensors provided at predetermined locations in the grains, a temperature data processing part for measuring a distribution of the grain temperature in the warehouse by means of the temperature data obtained from the respective temperature sensors, and a wireless communication means for connecting the sensors with the processing part.例文帳に追加

倉庫内で所定の状態で山積み保管された穀物の保管温度を測定する穀物用温度計において、前記穀物における所定の位置に配置された複数の温度センサと、それぞれの温度センサから得られる温度データを利用して倉庫内における穀物温度の分布を測定する温度データ処理部と、前記温度センサと前記処理部を接続する無線通信手段と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

A heater shut-off temperature te1 when a motor M is driven is set higher than a control target temperature t2 in fixation processing and a heater shut-off temperature te2 when the motor is not driven is set lower than a heater shut-off temperature te2 when driven.例文帳に追加

モータＭを駆動している時のヒータシャットオフ温度ｔｅ１が定着処理中の制御目標温度ｔ２より高く、モータＭを駆動停止している時のヒータシャットオフ温度ｔｅ２が駆動時のヒータシャットオフ温度ｔｅ２より低く設定されている。 - 特許庁

Furthermore, the amplitude of power is restrained by maintaining the power stage in the temperature areas thl and tlh unless processing is returned to the temperature areas again after getting out to an area other than the temperature area discriminated this time and the target temperature area.例文帳に追加

さらに、温度領域ｔｈｌ、ｔｌｈでは、今回判別された温度領域と前記目標温度領域以外の領域に出てから再度この温度領域に戻らない限り、電力段階を維持することで、電力の振幅を抑える。 - 特許庁

The processing device 13 performs PLS regression analysis by using body temperature data measured together with a temperature data group Dg1-Dg3 formed by aligning the temperature detection data D1-D3 in time series, and organizes a reverse operation model B for estimating the body temperature.例文帳に追加

そして、処理装置１３は、温度検出データＤ1〜Ｄ3を時系列に並べた温度データ群Ｄg1〜Ｄg3と共に、一緒に測定した体温データＤ4を用いて、ＰＬＳ回帰分析を行い、体温を推定する逆演算モデルＢを構築する。 - 特許庁

A temperature processing part 140 of this RFID tag reader/writer 100 measures the temperature at prescribed time intervals by use of a temperature sensor 150, and writes the measured temperature into the RFID tag 200 in real time by use of a writing part 130.例文帳に追加

ＲＦＩＤタグリーダライタ１００の温度処理部１４０が温度センサ１５０を用いて一定時間間隔で温度を測定し、測定した温度を書込部１３０を用いてリアルタイムでＲＦＩＤタグ２００に書き込むよう構成する。 - 特許庁

At time T1 when a print mode wherein processing liquid is held at an optimum liquid temperature of 38°C is switched to an energy-saving mode, a control section calculates and determines an energy-saving liquid temperature of 33°C based upon outside a fresh air temperature of 20°C that an outside air temperature detecting sensor detects.例文帳に追加

最適液温度３８℃に処理液を保持したプリントモードから省エネモードに切り替えられた時刻Ｔ１に、制御部は、外気温度検出センサによって検出した外気温度２０℃に基づいて、省エネ液温度３３℃を算出・決定する。 - 特許庁

The central processing unit 40 determines whether or not a temperature detected at any of sub stations 30 is lower than a snowing temperature, and if the detected temperature is lower than the snowing temperature, it starts operation of the snow melting pump facility 60 of the child station 30 concerned.例文帳に追加

中央処理装置４０は、子局３０のいずれかで検出された気温が降雪温度より低いか否かを判定し、検出した気温が降雪温度より低い場合、その子局３０の消雪ポンプ設備６０の運転を開始する。 - 特許庁

The wafer processing apparatus is composed of a temperature measuring means 60 for measuring the temperature of a wafer 50, and a biasing means 62 for biasing the temperature measuring means 60 to the wafer 50 so that the temperature measuring means 60 contacts the surface of the wafer 50.例文帳に追加

ウエハ処理装置は、ウエハ５０の温度を測定する温度測定手段６０と、温度測定手段６０がウエハ５０表面に接触するように、温度測定手段６０をウエハ５０に向かって付勢する付勢手段６２から成る。 - 特許庁

When a temperature TMP is a temperature exceeding a target temperature TGT+ΔT at a starting time t0 of water temperature control processing, an opening control signal CNT is controlled to be a value CNTmax by which the opening of a valve 5 is fully opened.例文帳に追加

水温制御処理を開始した時間ｔ０において、温度ＴＭＰが、目標温度ＴＧＴ+ΔＴを超える温度であった場合には、開度制御信号ＣＮＴを、バルブ５の開度を全開とする値ＣＮＴｍａｘに制御する。 - 特許庁

Temperature difference is produced because the heat values produced on the sample side and the reference side are different from each other while the voltage corresponding to the temperature difference is produced in the thermocouple 35 of a temperature detection part 5 and the temperature difference based on a voltage value is calculated by a data processing part 42.例文帳に追加

試料側および基準側で発生する熱量が異なるため温度差が生じ、温度差に応じた電圧が温度検出部５の熱電対３５に発生し、データ処理部４２により電圧値に基づく温度差が算出される。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material which ensures a small sensitivity change independently of processing time and processing temperature and also ensures improved unevenness in development and improved linearity.例文帳に追加

処理時間及び処理温度による感度変動が小さく、更に、現像ムラやリニアリティが改良された熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁

Meanwhile, when the detected temperature is above the reference value (NO in the step S3), the processing of step S4 is skipped and the processing of step S5 is performed.例文帳に追加

一方、検出温度が上記基準値より大きいとき（ステップＳ３でＮＯ）には、ステップＳ４の処理を飛ばしてステップＳ５の処理が行われる。 - 特許庁

Inside a processing chamber 51 in a heating processing unit (HP), a plate 52 for heating a wafer W at the temperature of 200-800°C, for instance, is arranged.例文帳に追加

加熱処理ユニット（ＨＰ）における処理室５１内には、ウエハＷを例えば２００〜８００℃の温度で加熱処理するためのプレート５２が配置されている。 - 特許庁

To provide a disk device having an alternative processing function by which operation reliability of a disk device in high temperature is improved and a substitution processing method.例文帳に追加

ディスク装置の高温における動作信頼性を向上した代替処理機能を有するディスク装置及び代替処理方法を提供することにある。 - 特許庁

To keep processing temperature constant using a simple structure, and further to supply processing gas equally onto a substrate.例文帳に追加

簡単な構成で処理温度を一定に保つことができ、更に処理気体を基板上に均一に供給することができる基板処理装置の提供。 - 特許庁

To provide a thermal processing device capable of making the temperature of a wafer plane uniform in activation thermal processing, in which a wafer is heated by light irradiation.例文帳に追加

光の照射によってウェーハを加熱する活性化熱処理において、ウェーハ面内の温度の均一化を図ることのできる熱処理装置を提供すること。 - 特許庁

The emission intensity of a processing gas correlated with the surface temperature of inner wall of the vacuum processing chamber is measured to control the intermittent generation of plasma 402.例文帳に追加

また、真空処理室の内壁表面温度と相関のある処理ガスの発光強度を測定して間欠的なプラズマ生成４０２を制御する。 - 特許庁

To provide an improved heated drum for processing media which has processing temperature and uniformity improved by solving conventional problems.例文帳に追加

本発明は、従来の問題を解決し、処理温度及び均一性が改善された処理媒体のための改善された加熱ドラムを提供することを目的とする。 - 特許庁

When the Peltier element 42 is energized, the heat from the high temperature side is transferred to the waste processing liquid L of the evaporation tray 24 and the waste processing liquid L is gradually thickened.例文帳に追加

ペルチェ素子４２が通電されると高温側からの熱が蒸発皿２４の処理廃液Ｌに伝わり、処理廃液Ｌは徐々に濃縮される。 - 特許庁

A flow rate adjusting valve 20 is provided upstream the processing unit 2 while a temperature sensor 21 is provided downstream the processing unit 2.例文帳に追加

各個別供給管１１ごとに、処理ユニット２の上流側に流量調節弁２０を設け、処理ユニット２の下流側に温度センサ２１を設けている。 - 特許庁

When repeating decisions, the processing part repeats the above described processing to a resolution x_k+1 according to the updated temperature T_k+1 and performs a convergence decision.例文帳に追加

繰り返し判定では、処理部は、更新された温度Ｔ_ｋ＋１に従い、解Ｘ_ｋ＋１に対して、上述の処理を繰り返し、収束判定する。 - 特許庁

To improve uniformity of film thickness by keeping the uniformity of temperature distribution within the plane of substrate due to the processing gas introduced in the substrate processing apparatus.例文帳に追加

基板処理装置に於いて、導入された処理ガスにより基板の面内温度分布の均一性が損われない様にして膜厚の均一性を向上させる。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus, etc. which can raise the temperature on the peripheral part of the substrate to be processed in a short time to heighten the efficiency of processing by a chemical solution.例文帳に追加

短時間で被処理基板の周縁部の温度を上げて薬液による処理効率を高めることが可能な液処理装置などを提供する。 - 特許庁

Then, the battery charger 20 performs a first attachment detection processing, and when it is determined that a battery is connected, performs a third temperature evaluation processing.例文帳に追加

次に、バッテリ充電器２０は、第１装着検知処理を実行し、バッテリが接続されていると判定された場合、３回目の温度評価処理を実行する。 - 特許庁