「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

A single sintering processing can be finished within three minutes, so that this sintering method can be more enhanced in throughput than a conventional diffusion oven treatment, and a wafer can be more improved in temperature responsibility and temperature uniformity.例文帳に追加

１回のシンター時間は３分以内で可能になるので従来の拡散炉処理に比べてスループットが上昇し、ウエハーの温度応答、温度均一性もよくなる。 - 特許庁

An injection molding machine has a cylinder member, the injection nozzle 12 provided with a main body part 15 and a heating member and being selectively brought into contact with the mold apparatus 20, a temperature detecting part, and a temperature controlling and processing means for controlling temperature of the injection nozzle 12 based on a deviation between a detected temperature and a set temperature.例文帳に追加

シリンダ部材と、本体部１５及び加熱部材を備え、金型装置２０に選択的に接触させられる射出ノズル１２と、温度検出部と、検出された温度と設定温度との偏差に基づいて、前記射出ノズル１２の温度を制御する温度制御処理手段とを有する。 - 特許庁

The temperature of a region, into which the substrate W is transferred is detected by a temperature/humidity detector 3, and the temperature of the wafer W cooled down by the cooling plate 41, is regulated on the basis of detected value so that the temperature of the wafer W transferred to the application unit C gets equal to the application temperature of a processing liquid.例文帳に追加

ウエハＷが搬送される領域の温度を温湿度検出部３により検出し、この検出値に基づいて、塗布ユニットＣに搬送されたときのウエハＷの温度が処理液の塗布温度となるように、前記冷却プレート４１で冷却されるウエハＷの温度を調整する。 - 特許庁

Failure diagnosis for the vaporized fuel processing device 40 after the engine has stopped is prohibited when the difference (TGT-TAT) between the outer air temperature TAT sensed by an outer air temperature sensor 41 and the gas layer temperature TGT sensed by a gas layer temperature sensor 39 installed on a fuel tank 9 is smaller than the specified temperature difference ΔT1.例文帳に追加

外気温センサ４１により検出される外気温ＴＡＴと、燃料タンク９に設けられた気層温度センサ３９により検出される気層温度ＴＧＴとの差（ＴＧＴ−ＴＡＴ）が所定温度差ΔＴ１より小さいときは、機関停止後の蒸発燃料処理装置４０の故障診断が禁止される。 - 特許庁

To provide a temperature estimation method of estimating internal temperature of a display device or ambient temperature of an electronic component without using a temperature sensor, a correction method of correcting clocking processing using a crystal oscillation element or driving process for a fan etc., according to information based upon the temperature estimation, and a display device.例文帳に追加

温度センサを用いることなく表示装置の内部温度又は電気部品の周囲温度を推定する温度推定方法、並びにこの温度推定に基づく情報に応じて水晶発振素子を用いた計時処理又はファンの駆動処理等の補正を行う補正方法及び表示装置を提供する。 - 特許庁

The ethyl alcohol processing solvent is adjusted in its ethyl alcohol concentration in the solvent according to elution of the salt and the liquid temperature by measuring the content of salt eluted from Kjellmaniella crassifolia into the ethyl alcohol processing solvent, the ethyl alcohol concentration, and the liquid temperature of the ethyl alcohol processing solvent.例文帳に追加

このエチルアルコール処理液は、ガゴメ昆布からエチルアルコール処理液に溶出した塩分およびエチルアルコールの濃度と、エチルアルコール処理液の液温とを測定し、塩分の溶出および液温に応じて前記エチルアルコール処理液におけるエチルアルコールの濃度を調整する。 - 特許庁

To provide a biaxially oriented polyamide resin film which is excellent in sliding properties even under a high humidity operating environment, has excellent gas barrier properties even after being stored under high temperature and high humidity conditions for a long time, and can be stably used in applications subjected to high temperature hot water processing such as a boiling processing and a retort processing.例文帳に追加

高湿度使用環境下でも滑り性に優れると共に、高温高湿度下に長期保存されても優れたガスバリア性を有し、しかもボイル処理やレトルト処理などの高温熱水処理を受ける用途に安定に供することができる二軸延伸ポリアミド樹脂フィルムを提供する。 - 特許庁

The data processing system includes: a first sensor that determines an ambient temperature of an environment in which the data processing system exists; and a controller (e.g., a microcontroller or a microprocessor) coupled to the sensor to control operations of the data processing system according to the ambient temperature.例文帳に追加

一態様では、データ処理システムは、データ処理システムシステムが存在する環境の周囲温度を判断する第１のセンサ、及び周囲温度に従ってデータ処理システムの作動を制御するためにセンサに結合されたコントローラ（例えば、マイクロコントローラ又はマイクロプロセッサ）を含む。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus, a CPU for the image processing apparatus, a program for the image processing apparatus, and a computer-readable memory medium which can simply acquire reliable temperature data by carrying out the measurement of the CPU junction temperature under MFP operation, whenever one Job is completed.例文帳に追加

ＭＦＰ動作中のＣＰＵジャンクション温度の測定を一つのＪｏｂが終了する毎に行い、信頼性のある温度データを簡易的に取得することが出来る画像処理装置、画像処理装置用ＣＰＵ、画像処理装置用プログラム、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体を提案する。 - 特許庁

The semiconductor substrate is provided with: a plurality of temperature detection elements 250; a signal processing circuit 262 which converts analog signals from the plurality of temperature detection elements into digital signals and performs processing using the digital signals; output terminals 300 that are terminals for outputting the signals from the signal processing circuit and have a smaller number than the number of the plurality of temperature detection elements.例文帳に追加

半導体基板に、複数の温度検出素子２５０と、該複数の温度検出素子からのアナログ信号をデジタル信号に変換し、該デジタル信号を用いた処理を行う信号処理回路２６２と、該信号処理回路からの信号を出力する端子であって複数の温度検出素子の数よりも少ない数の出力端子３００とを設ける。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method with which even when a wafer is processed in a low-pressure state, a temperature of the wafer can be efficiently adjusted while preventing attachment of particles to the wafer and an occurrence of damage to the wafer; and also provide a recording medium used for the substrate processing apparatus and the substrate processing method.例文帳に追加

ウェハを低圧状態で処理する場合であっても，ウェハに対するパーティクルの付着や損傷の発生を防止しながら，ウェハの温度を効率的に調節できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an information processing device which suppresses increase in cost and reduces temperature rise in a computation processing device while balancing between the reduction of operational noise of a cooling device and the securement of a computation processing capability of the computation processing device.例文帳に追加

コストの増大を抑制すると共に、冷却装置の作動音の低減と演算処理装置における演算処理能力の確保とのバランスを取りつつ演算処理装置の温度上昇を低減することができる情報処理装置を提供する。 - 特許庁

A temperature variation amount-calculating part 33 sets the time process data at the time point which is at least one point before, for example, as a reference temperature for calculating a difference relative to the reference temperature for each time process data, as a prescribed processing for calculating a time variation amount of temperature, with the time process data outputted from the time direction data-processing part 32.例文帳に追加

温度変化量算出部３３は、時間方向データ処理部３２から出力される時間処理データに対して、温度の時間変化量を算出する所定の処理として、例えば１ポイント以前の時間のポイントでの時間処理データを基準温度に設定し、基準温度に対する差を各時間処理データ毎に算出する。 - 特許庁

A part 40 for counting the number of print processing sheets in an edge temperature control part 28 counts the number of processed sheets in one continuous print processing, the edge side fixing control temperature changing part 41 has a table in which control temperature is set corresponding to the number of processed sheets and selects the edge side fixing control temperature based on measurement results by the count part 41.例文帳に追加

端部温度制御部２８における印字処理枚数カウント部４０は、１つの連続印字処理における処理済枚数をカウントし、端部側定着制御温度変更部４１は、処理済枚数に対応して制御温度が設定されているテーブルを備え、カウント部４１による計測結果に基づいて、端部側定着制御温度を選択する。 - 特許庁

When a floor temperature Tca lowers up to a HC poisoning decision temperature Thcp or less when performing the enriching processing (t1), a lean processing to maintain the exhaust gas air-fuel ratio AF to a lean time target air-fuel ratio AFlean is performed (t1 to t2).例文帳に追加

そして、リッチ化処理時に床温ＴｃａがＨＣ被毒判定温度Ｔｈｃｐ以下まで低下した場合（ｔ１）に、排気空燃比ＡＦをリーン時目標空燃比ＡＦｌｅａｎに維持するリーン化処理を行う（ｔ１〜ｔ２）。 - 特許庁

After the temperature of the processing chamber in which a wafer 18 is processed is raised by a heater 17 to a temperature necessary to remove the by-products 7, purging gas is introduced into the processing chamber through a purging gas line 8.例文帳に追加

ウェハー１８の処理を行う処理室内の温度をヒーター１７により反応副生成物７の除去に必要な所定の温度に昇温した後、パージ用ガスをパージ用ガスライン８を介して処理室内に導入する。 - 特許庁

This rubber processing equipment is equipped with a pair of rolls 1 and 2 for processing the rubber composition R, a temperature sensor 4 for detecting the surface temperature of the rubber composition R and a pressure sensor 3 for detecting the rolling force due to the rolls 1 and 2.例文帳に追加

ゴム組成物Ｒを加工するための一対のロール１，２と、ゴム組成物Ｒの表面温度を検出する温度センサ４と、ロール１，２による圧延力を検出する圧力センサ３とを備えたゴム加工設備を用いる。 - 特許庁

When the power of the image forming apparatus is turned on, heating control of a fixing roller is started (S101) after initialization processing, and control for making the temperature (Temp) of the fixing roller rise to temperature Temp2 at which warming-up processing is finished is performed.例文帳に追加

装置の電源がオンされると、初期化処理後、定着ローラの加熱制御を開始し（Ｓ１０１）、定着ローラ温度（Ｔｅｍｐ）を、ウォーミングアップ処理が終了する温度Ｔｅｍｐ２まで温度上昇するための制御が行われる。 - 特許庁

To perform temperature control of a processing object precisely by detecting the temperature precisely even the light penetrated the processing object is incident on a pyrometer in lamp anneal equipment equipped with a pyrometer.例文帳に追加

パイロメーターを備えたランプアニール装置において、パイロメーターに処理対象物を透過した光が入射する場合であっても、精度よく温度検出を行え、もって処理対象物の温度制御を精度よく行えるようにする。 - 特許庁

During conveyance, the photograph film 1 and the developer 3 and the other processing liquid 4 applied thereon are heated via the conveyer belt 22 by a heater 23 provided near the conveyer belt 22, and the temperature is maintained at a prescribed processing temperature.例文帳に追加

その間、搬送ベルト２２の近傍に設けられたヒータ２３により搬送ベルト２２を介して写真フィルム１及びその上に塗布された現像液３及びその他の処理液４を加熱し、所定の処理温度に維持する。 - 特許庁

A silicon substrate 103 with a resin film 102 stuck (transferred) is carried into a processing chamber 111 of an oven (heat treatment device) 110, and the internal temperature of the processing chamber 111 is raised from a room temperature (approximately 20°C) at a rate of 5.5°C/min.例文帳に追加

樹脂膜１０２が被着（転写）されたシリコン基板１０３を、オーブン（加熱処理装置）１１０の処理室１１１内部に搬入し、処理室１１１の内部温度を、室温（約２０℃）から５．５℃／ｍｉｎの速度で昇温する。 - 特許庁

A calculation processing part 104 performs the maximum value extraction of temperature data and numerical value calculation of comparison or the like, an animation processing part 105 performs the creation and storage of an image and plotting, and a memory device 106 stores temperature data during starting of the device.例文帳に追加

演算処理部１０４は温度データの最大値抽出や、比較等の数値計算を行い、動画処理部１０５は画像の生成や格納、描画を行い、メモリ装置１０６は装置の起動中に温度データを格納する。 - 特許庁

To provide a reinforcement processing device for optical fiber and reinforcement processing method in which there is no need for mounting a temperature detection element, such as a thermistor, and even more, heating control with satisfactory accuracy is possible without fluctuation in detection temperature and with low electric power consumption.例文帳に追加

サーミスタ等の温度検出素子を取り付ける必要がなく、しかも、検出温度が変動せず低消費電力で精度のよい加熱制御が可能な光ファイバ補強処理装置と補強処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a power supply control device that can wait for regular power off processing by a sub CPU and can appropriately transfers to the power off processing in the case of temperature abnormality.例文帳に追加

温度異常の場合に、サブＣＰＵによる通常の電源切断処理を待って、適切に電源切断処理に移行できる電源制御装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a heat developing device having a function for preventing the fluctuation of heat developing density from being caused by the change of processing temperature in the case of consecutively processing heat developable photosensitive material.例文帳に追加

熱現像感光材料を連続処理する際の処理温度変化による熱現像濃度変動発生を防止する機能を有する熱現像装置を提供する。 - 特許庁

To protect a sealing member at the circumferential edge of a window for isolating a processing chamber of a processing container from a lamp heater containing chamber against fusion or evaporation due to a high temperature.例文帳に追加

処理容器の処理室とランプヒータ収容室とを隔離するウインドウの周縁部のシール部材の高温による溶融、蒸発等を防止することを目的とする。 - 特許庁

To provide a plasma processing device and a method therefor, which are capable of processing a specimen uniformly by applying a prescribed temperature distribution to the surface of the specimen.例文帳に追加

試料表面をより所定の温度分布を付与することにより試料を均一に処理することのできるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method and processing apparatus of a molded body which can suppress the generation of bubbles, prevent pressure distortion, improve dimensional stability, and easily control temperature.例文帳に追加

気泡発生を抑制するとともに、圧力歪みを防ぎ寸法安定性に優れ、温度調節が簡単な成形体の加工方法及び加工装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus that successively performs plasma processing on glass substrates while transporting many setters by arranging the setters in a row and can surely prevent the temperature drops of the substrates to be treated.例文帳に追加

多数のセッタを一列に並べて搬送しながら順次プラズマ処理する装置であって、被処理物の温度低下を確実に防止できる装置を提供する。 - 特許庁

To provide a single-wafer processing apparatus which is capable of enhancing the uniformity of processing within a wafer surface by keeping the uniformity of the temperature distribution high within a surface of a loading table.例文帳に追加

載置台における温度分布の面内均一性を高く保持して処理の面内均一性を向上させることが可能な枚葉式の処理装置を提供する。 - 特許庁

The polyparaphenyleneterephthalamide has been treated by pressure cooker processing (pressure of about 2,000 hPa; temperature of about 120°C; and processing time of about 20 hr).例文帳に追加

本発明が特徴とするところは、ポリパラフェニレンテレフタラミド繊維がプレッシャークッカー処理（圧力２０００hPa程度、温度１２０℃程度で２０時間程度）されている点にある。 - 特許庁

To provide a heat treatment apparatus that promptly lowers the temperature of a heating plate, while the infiltration of particles into a processing chamber and rise of the internal pressure of the processing chamber are prevented.例文帳に追加

処理室へのパーティクルの侵入および処理室の内圧の上昇を防止しつつ、加熱プレートを迅速に降温することができる加熱処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide plasma processing equipment that changes the temperature of a sample block or sample placed on it in a broad scope, for a short time, to have the efficiency in processing improved.例文帳に追加

試料台またはその上に配置された試料の温度を広い範囲で短時間に変化させ処理の効率を向上させたプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

The heating temperature of a pressure member 71 in warm-up processing is adjusted according to the shift time until shifting to an energy saving mode from the completion of warm-up processing is made.例文帳に追加

ウォームアップ処理の完了から省エネルギモードに移行するまでの移行時間に応じてウォームアップ処理における加圧部材７１の加熱温度を調節する。 - 特許庁

When the sensed temperature is higher than a setting value, the CPU 3 instructs a call processing monitor control section 5 and a signal processing section 7 to limit a transmission rate and the number of users.例文帳に追加

この検出温度が設定値より高い場合、ＣＰＵ３は呼処理監視制御部５と信号処理部７に指示を出し、伝送速度並びにユーザー数を制限する。 - 特許庁

To provide a processing method for a solution layer for, for example, forming a thin film on the base or processing the base surface in a liquid phase at normal temperature under normal pressure.例文帳に追加

液相中で、常温、常圧にて、例えば基体上に薄膜を成膜し、あるいは又、基体表面を処理するための溶液層の処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device and a method of thermally processing a substrate inside a processing chamber with a radiation source for heating the substrate which extracts information through low-temperature measurement by a pyrometer.例文帳に追加

高温計による低温測定によって情報を抽出する基板過熱用放射源付き処理チャンバ内で基板を熱処理する装置と方法を提供する。 - 特許庁

To obtain superior surface roughness, by reducing the thermal processing temperature or shortening the time required for the thermal processing and by suppressing the occurrence of a slip, in a method of manufacturing a silicon wafer and a silicon wafer.例文帳に追加

シリコンウェーハの製造方法及びシリコンウェーハにおいて、熱処理の低温化又は短時間化を図りスリップ発生を抑制し、良好な表面ラフネスを得ること。 - 特許庁

To provide an alignment layer for planar alignment of a polymerizable liquid crystalline or mesogenic material capable of being easily formed, at a low cost without requiring high temperature processing or rubbing processing.例文帳に追加

高温処理やラビング処理の必要がなく、低コストで容易に形成可能な重合性液晶またはメソゲン材料の平面配列のための配列層を提供する。 - 特許庁

To provide an information processing apparatus that has a plurality of processors and can switch a processor for performing information processing in accordance with the temperature of the processor.例文帳に追加

複数のプロセッサを備え、プロセッサの温度に応じて情報処理を行うプロセッサを切り替えることができる情報処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

After an annealing processing process, the vibrating plate 40, diffusion prevention layer 41, lower electrode 42, and piezoelectric layer 43 are naturally cooled down to a temperature before the annealing processing process.例文帳に追加

そして、アニール処理工程後に、振動板４０、拡散防止層４１、下部電極４２及び圧電層４３を自然冷却してアニール処理工程前の温度にする。 - 特許庁

To provide the method of detecting abnormality of a substrate processing apparatus and the substrate processing apparatus, which can detect in real time or beforehand wafer temperature abonormality because of a susceptor failure.例文帳に追加

サセプタ異常によるウエーハ温度異常をリアルタイムまたは事前に検出することができる、基板処理装置の異常検出方法、および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a polysilazane film, which can reduce a change in processing rate of wet processing in a short time even after heat treatment is conducted at a low temperature.例文帳に追加

低温での熱処理を行ってもその後短期間でウエット処理の処理レートの変動を小さくすることができるポリシラザン膜の形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a thermal developing device which controls deterioration in picture quality due to a decrease in the temperature of a heating member caused by continuous processing and shorten the continuous processing time.例文帳に追加

連続処理によって生じる加熱部材の温度低下による画質劣化を制御でき、しかも連続処理時間の短縮につながる熱現像装置を提供する。 - 特許庁

To suppress the increase of the temperature of a process chamber, to stabilize processing quantity, to realize continuous processing on a substrate to be treated in a long time, and to improve through-put.例文帳に追加

プロセスチャンバの温度上昇を抑制し、処理品質の安定、長時間に亘る被処理基板への連続処理を可能とし、スループットの向上を図るものである。 - 特許庁