「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

To save energy moire by reducing energy consumed in a supply air processing pre-cooling coil, while maintaining a target dew point temperature in a space to be air-conditioned.例文帳に追加

被空調空間での目標露点温度を維持しながら、給気処理用予冷コイルで消費されるエネルギーを削減して、さらなる省エネルギーを図る。 - 特許庁

(b) Data pertaining to processing by diffusion bonding of super alloys or titanium alloys, and to the surface treatment, deformation rate, temperature or pressure of processed materials 例文帳に追加

ロ　超合金又はチタン合金の拡散接合による加工に係るものであって、加工材料の表面処理、温度又は圧力に係るもの - 日本法令外国語訳データベースシステム

To provide an image processing apparatus and method thereof for adjusting the illuminance of an image observation apparatus to a desired illuminance without causing a change in a color temperature of the image observation apparatus.例文帳に追加

画像観察装置において色温度の変化を生じることなく、所望の照度に調整する画像処理装置およびその方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a polypropylene based resin composition being excellent in the balance of blocking-resistance, rigidity and low temperature impact-resistance and being further excellent in contamination-resistance of a processing machine.例文帳に追加

耐ブロッキング性、剛性、および低温での耐衝撃性とのバランスに優れ、更には加工機の耐汚染性に優れたポリプロピレン系樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

An image processing part 30 detects a pedestrian on the basis of a thermal image generated by a far infrared light image sensor 20 in the state of a substrate temperature Ta.例文帳に追加

画像処理部３０は、基板温度Ｔａの状態で遠赤外線イメージセンサ２０により生成された熱画像に基づいて、歩行者を検出する。 - 特許庁

A temperature controller 3 controls a transmission wavelength of an optical fiber grating 2 depending on an identification number of a subscriber side device 12 that applies the subscription processing.例文帳に追加

温度制御装置３は、加入処理する加入者側装置１２の識別番号に応じて、光ファイバグレーティング２の透過波長を制御する。 - 特許庁

To reduce the detection error resulted from a temperature change in a signal processing unit for generating a DC detection signal from the AC output of each detecting coil.例文帳に追加

各検出用コイルの交流出力から直流検出信号を生成する信号処理装置での温度変化に起因する検出誤差を低減する。 - 特許庁

To actualize stable laser processing by generating a laser beam which always has high quality by keeping a mirror angle constant from right after the start of operation without reference to air temperature.例文帳に追加

外気温によらず運転開始直後よりミラー角度を一定に保つことで、常に高品質のレーザビームを生成し、安定したレーザ加工を実現する。 - 特許庁

On the basis of the input signals, the signal processing circuit 9 creates a code signal corresponding to the bar code 2 and computes the temperature of the product to be measured.例文帳に追加

信号処理回路９は、それらの入力信号に基づいて、バーコード２に応じたコード信号を作成するとともに、対象製品の温度を算出する。 - 特許庁

The composition is substantially free of water and liquids having a normal boiling point (a) optionally below processing temperatures and (b) higher than or equal to the temperature of the low molecular weight drugs.例文帳に追加

本組成物は、水および（a）選択的に処理温度より低く（b）低分子量薬物以上の標準沸点を有する液体を実質的に含まない。 - 特許庁

To provide a method for processing the edge of glass by laser beam irradiation at a room temperature in a simple way without using a large-scale apparatus.例文帳に追加

大掛かりな装置を必要とせずに簡便な手段で、室温でレーザー光照射によるガラス端部の加工方法を提供とすることを課題とする。 - 特許庁

An information processor (1d) has a fast Fourier transformation means for processing the temperature images of the object to be measured obtained from the infrared thermography device.例文帳に追加

情報処理装置（１ｄ）は、赤外線サーモグラフィ装置から得た測定対象物の温度画像を処理する高速フーリエ変換手段を有する。 - 特許庁

To provide a processing method to isolate and recover a siloxane compound or an inorganic powder in a short time, by decomposing a waste silicone hardened matter at ordinary temperature.例文帳に追加

廃棄シリコーン硬化物を常温下で分解し、シロキサン化合物や無機紛体を短時間で単離、回収することができる処理方法を提供する。 - 特許庁

Then when the replacement processing is performed, the high-temperature IPA liquid is supplied to the substrate surface Wf to replace a rinse liquid on the substrate surface Wf.例文帳に追加

そして、置換処理を行う際には、高温ＩＰＡ液を基板表面Ｗｆに供給することで基板表面Ｗｆ上のリンス液を置換している。 - 特許庁

The activated carbon can be obtained by conducting a low-temperature fluorine compound plasma processing to an activated carbon obtained by carbonizing and activating a carbonaceous material.例文帳に追加

かかる活性炭は、炭素質材料を炭化し賦活して得た活性炭を低温フッ素化合物プラズマ処理することによって得ることができる。 - 特許庁

To provide a new reinforced polyamide molding compound based on high-melting point polyamide, which has a high distortion temperature with excellent mechanical properties and processing characteristics.例文帳に追加

高融点ポリアミドをベースにした、撓み温度が高く、機械的性質、および加工特性に優れた新規な補強ポリアミド成形化合物を提供する。 - 特許庁

To provide an exhaust fine particles processing device capable of suppressing temperature fall in a particulate filter when engine accelerating is lasting from the time under exhaust fine particles removing.例文帳に追加

排気微粒子除去中からのエンジン加速時、パティキュレートフィルタの温度低下を抑制可能なエンジンの排気微粒子処理装置を提供することにある。 - 特許庁

In places such as processing plants where dried fish is mass produced, artificial dehydrators are used, and, with namaboshi, cool-temperature dehydrators are sometimes used to retain the water contents of the fish. 例文帳に追加

工場など大量生産などを行う所では人工乾燥機が使われており、生干しでは水分を保つため低温の乾燥機を使うこともある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To obtain an image forming apparatus capable of adjusting the surface temperature of a fixing roll even when a plurality of heaters are partly broken, and capable of continuously performing image forming processing.例文帳に追加

複数のヒータの一部が破損した場合にも定着ローラの表面温度を調整し、画像形成処理を継続できる画像形成装置を得ること。 - 特許庁

The cleaning method is characterised by being provided with a process (step S23) for processing a substrate with the aqueous oxalic acid solution with a concentration of 1 to 10 % at a temperature of 30 to 50 °C.例文帳に追加

基板を濃度が１〜１０％で、温度が３０〜５０℃の蓚酸水溶液によって処理する工程（ステップＳ２３）を具備したことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a substrate processing system in which a temperature can be controlled using water and production of by-products can be prevented while sustaining the performance at the magnetic seal part.例文帳に追加

水を使用して温度制御が可能であり、副生成物の発生を防止でき、かつ磁気シール部の性能を維持できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

Thereby, the amount of the working fluid in the processing liquid tank 46 is stabilized and the temperature of the working fluid can be controlled accurately by a heat exchanger 50.例文帳に追加

これにより、加工液タンク４６内の加工液の量は安定し、熱交換器５０によって加工液の温度を精度良く制御することができる。 - 特許庁

The variation of light emitting brightness of an organic EL element corresponding to temperature change is detected by using two frames during execution of normal image display processing.例文帳に追加

温度変化に応じた有機ＥＬ素子の発光輝度の変動は、通常画像表示処理の実行中における２つのフレームを使って検出される。 - 特許庁

To prevent the generation of thermal runaway by suppressing the temperature rise of a CPU even when the frequency of an interrupt processing request to a CPU is increased in a sleep mode.例文帳に追加

スリープモード中にＣＰＵへの割り込み処理依頼の頻度が高くなっても、ＣＰＵの温度上昇を抑制して熱暴走の発生を回避する。 - 特許庁

The member to be temperature detected is provided between a tip of the temperature detecting means for detecting the temperature in the processing chamber and the substrate holding means, and the temperature controlling means controls the heating means on the basis of the temperature of the member to be temperature measured detected by the temperature detecting means.例文帳に追加

本発明によれば、処理室内の温度を検出する温度検出手段の先端と基板保持手段との間に被測温部材を設け、前記温度制御手段は前記温度検出手段によって検出された前記被測温部材の温度に基づいて前記加熱手段を制御するとしたので温度斑のある基板保持手段であっても、被測温部材が基板保持手段の温度変化を吸収するので、サセプタの回転作用による温度変化を敏感に検知しないようになり、温度制御性が向上し、短時間でウエハ処理温度までウエハを昇温することができる。 - 特許庁

The cooling control device 40 is composed of a refrigerant temperature sensing processing part 42 to process sensing data of the temperature sensor 32, an operation stop/start sensing processing part 44 to sense the stop and start of the operation of the inverter 26 or a hybrid vehicle 8, and a refrigerant supply amount restriction processing part 46 to restrict the amount of refrigerant to be supplied from the water pump 34 when the predetermined conditions are met.例文帳に追加

冷却制御装置４０は、温度センサ３２の検出データを処理する冷媒温度検出処理部４２と、ハイブリッド車両８またはインバータ２６の作動の停止起動を検出する作動停止起動検出処理部４４と、所定の条件のときに電動ウォータポンプ３４の冷媒供給量を制限する冷媒供給量制限処理部４６を含んで構成される。 - 特許庁

The method of producing a rare earth magnet containing dispersed Nd includes a step for measuring the Nd interval before HD processing of a Nd-Fe-B based rare earth magnet material containing dispersed Nd, a step for setting a temperature at which the HD processing is performed in accordance with the Nd interval, and a step for performing the HD processing of the magnet material at the temperature thus set.例文帳に追加

分散したＮｄを含有するＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系希土類磁石材料のＨＤ処理前のＮｄ間隔を測定する工程、そのＮｄ間隔に応じてＨＤ処理を行う温度を設定する工程、およびこの設定した温度で前記磁石材料のＨＤ処理を行う工程、を含むＮｄを分散させた希土類磁石の製造方法。 - 特許庁

In the plasma processing apparatus capable of generating plasma and controlling the incident energy of ions impinging on a specimen simultaneously, a film is formed on the surface of a part contacting plasma in a plasma processing chamber so as to improve the part in plasma-resistant properties, and the plasma processing device has a temperature adjusting function so as to keep the film at a prescribed temperature of 160°C or below.例文帳に追加

プラズマ生成と試料へのイオンの入射エネルギ制御とを独立におこなうプラズマ処理装置において、プラズマ処理室内のプラズマと接する部品の表面には耐プラズマ性を向上させるために皮膜が形成され、かつ前記皮膜の温度が所定の１６０℃以下に制御出来るように温度調節機能を有したことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 特許庁

The processing liquid cooler 50 sets an offset feed forward value or a cooling ability feed forward value for lowering the target temperature depending on a mode, wherein when the mode indicates a processing period with the oil used, the feed forward value is increased to be larger than a value when the mode indicates a processing period with the water used.例文帳に追加

加工液冷却装置５０は、目標温度を下げるオフセットフィードフォワード値又は冷却能力フィードフォワード値をモードに応じて設定し、モードが油を使用する加工期間を示すときは、モードが水を使用する加工期間を示すときよりもフィードフォワード値を増大する。 - 特許庁

After cleaning of a substrate W is ended in a processing tank 20 and pure water is drained therefrom, high temperature nitrogen gas flow FN62 is delivered from a second supply nozzle 50 toward the opening 20p of the processing tank 20 and fed into the processing tank 20.例文帳に追加

処理槽２０において基板Ｗの洗浄処理が終了し処理槽２０内の純水が排水された後、第２供給バルブ５０から処理槽２０の開口部２０ｐに向けて高温の窒素ガス流ＦＮ６２を吐出し、高温の窒素ガスを処理槽２０内に流入させる。 - 特許庁

To suppress aggregation of a nickel film due to heat not only after aggregation suppression processing but also during a processing process (e.g., temperature raising process) when processing (e.g., cap film deposition) for suppressing aggregation of the nickel film on a substrate to be processed is performed.例文帳に追加

被処理基板上のニッケル膜の凝集を抑制するための処理（例えばキャップ膜成膜）を行う際に，その凝集抑制処理後のみならず，その処理過程（例えば昇温工程）においても，ニッケル膜の凝集を抑制するニッケル膜の熱による凝集を抑制する。 - 特許庁

To provide a plastic processing lubricating oil composition which gives a lower friction than conventional plastic processing oils and inhibits seizing by a roll, a tool or an apparatus part, cohesion, abrasion, rough skin or the like in plastic processing of non-ferrous metals such as aluminum at a high temperature under a high load.例文帳に追加

本発明は、アルミニウム等の非鉄金属を高温下かつ高荷重下で塑性加工する場合に、従来の塑性加工油に比べ低摩擦であり、ロール、工具や装置部品への焼付けや凝着、磨耗、肌荒れ等の抑制しえる塑性加工潤滑油組成物を提供することを課題とする。 - 特許庁

For each processing a lot inputted to each semiconductor manufacturing device MC, a recipe for the number of scheduled processes P/H of the semiconductor manufacturing apparatus is provided, corresponding to each detail data (referred to as recipe ID) on processing conditions for each product (processing time and temperature).例文帳に追加

各半導体製造装置ＭＣに投入される処理ロット各々について、その製品毎の処理条件（処理時間や温度）に関する詳細なデータ（レシピＩＤという）各々に対応して、その半導体製造装置ＭＣの予定処理数レシピＰ／Ｈとして設けられる。 - 特許庁

The inner wall of a processing vessel 22 is covered with a quartz liner 100 formed of opaque quartz, so that the inner wall of the processing vessel 22 can be protected against ultraviolet rays emitted from ultraviolet sources 86 and 87, and a temperature rise in the processing chamber 22 by the heat released from the heater unit 24 can be restrained with a heat insulating effect.例文帳に追加

また、処理容器２２の内壁は、不透明石英により形成された石英ライナ１００により覆われており、紫外線光源８６，８７から照射された紫外線から保護されると共に、断熱効果によりヒータ部２４からの熱による温度上昇が抑制される。 - 特許庁

The aluminum foil can be manufactured in such a way that an aluminum original foil is dipped into a sodium hydroxide solution of concentration of 1-8% to execute pre-processing, thermal processing is applied at a temperature of about 400°C after the pre-processing, and constant current etching is executed in a mixed liquid of a hydorchloric acid and a sulfuric acid.例文帳に追加

そのアルミニウム箔の製造方法は、アルミニウム原箔を１〜８％濃度の水酸化ナトリウム溶液に浸漬して前処理し、その前処理後４００℃前後の温度で熱処理し、その熱処理後、塩酸と硫酸の混合液中で、定電流エッチングを行うことで製造できる。 - 特許庁

In this vacuum cooling method for cooling the cooled objects by decompressing the inside of a processing tank 3, a decompression rate in the processing chamber 3 is controlled based on the temperature variation of the cooled objects and/or a pressure variation in the processing chamber 3.例文帳に追加

処理槽３内を減圧して被冷却物２を冷却する真空冷却方法において、前記被冷却物２の温度変化および／または前記処理槽３内の圧力変化に基づいて、前記処理槽３内の減圧速度を制御することを特徴としている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a substrate processing device and a semiconductor device for stably and accurately measuring a temperature of a heated rotating supporter in the substrate processing device having a mechanism rotating the supporter supporting the substrate for uniformity of processing of the substrate such as an Si wafer.例文帳に追加

Ｓｉウェハ等の基板の処理の均一性のために、基板を支持する支持体を回転させる機構をもつ基板処理装置において、加熱された回転する支持体の温度を安定的に正確に測定することができる基板処理装置および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate-processing apparatus with a plurality of process gases alternately supplied to the processing chamber for processing substrates, wherein the evacuation pipe clogging by reaction by-products is suppressed, even if the exhaust pipe is prolonged, by preventing the occurrence of a low-temperature region in the evacuation pipe, on the secondary side of a vacuum pump.例文帳に追加

処理室に複数の処理ガスを交互に供給して基板を処理する基板処理装置において、真空ポンプの２次側の排気管から低温部を無くすことによって、排気管の配管長が長くなっても、反応副生成物による排気管の詰まりを抑制できるようにする。 - 特許庁

To provide a wafer support and an electrostatic wafer support in which reproducibility of processing characteristics is sustained while enhancing uniformity in the temperature distribution on the surface of a semiconductor wafer in processing by enhancing the cooling effect thereof and production efficiency is enhanced by reducing the processing time.例文帳に追加

処理中の半導体ウエハの冷却効果を高めることにより、半導体ウエハ表面上の温度分布の均一性を高めて処理特性の再現性を維持し、処理時間が減少して生産効率が高くなるウエハ支持装置及びウエハ静電支持装置を提供する。 - 特許庁

To create a method for surely confirming a processing at a high temperature about a retort processing, especially a processing related to sterilization, and to provide a bottle body made of a polyethylene terephthalate resin easy in process control and particularly, capable of being used without anxiety in food application.例文帳に追加

レトルト処理程度の高温の、特に殺菌に係る処理の確実な確認方法の創出を技術課題とするものであり、もって容易に工程管理が可能であり、特に食品用途で安心して使用可能なポリエチレンテレフタレート系樹脂製壜体を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a temperature heightening/lowering unit and a temperature heightening/lowering test handler, that increase or decrease temperatures of a large amount of semiconductor devices at a time, and achieve a high-speed processing as the whole system.例文帳に追加

高温テスト及び低温テストを実施するハンドラにおいて、一度に大量の半導体装置の高温化又は低温化を可能とし、装置全体としての高速処理を実現した高低温化ユニット及び高低温化テストハンドラを提供する。 - 特許庁

On the basis of these informations, the controller raises the temperature of a processing solution to the upper limit of the specified temperature range at the end of night operation with a heater using cheap midnight power within the time to which midnight power charges are applied.例文帳に追加

制御部は、これらの情報に基づいて、深夜電力料金適用時間内の安価な深夜電力を用いて、夜間運転終了時に処理液の温度を規定温度範囲の上限までヒータにより上昇させる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and a fixing control method which are capable of more appropriately predicting a temperature of a pressure roller in fixing processing after at least extension of a paper interval to achieve proper temperature control of a heating member.例文帳に追加

少なくとも紙間延長後の定着処理でのより適切な加圧ローラの温度の予測、ひいては加熱部材の適正な温度制御を実現することができる画像形成装置および定着制御方法を提供する - 特許庁

A control unit 1 controls touch input processing by a touch input unit 6 so as to interlock with a display speed of a display unit 7 varying according to a temperature measured by a temperature measurement unit 10 (for example, the control unit 1 changes touch sensitivity).例文帳に追加

制御部１は、温度測定部１０により測定された温度に応じて変化する表示部７の表示速度に連動するように、タッチ入力部６によるタッチ入力処理を制御する（例えば、タッチ感度を変更する）。 - 特許庁

To provide a member of a device for processing a semiconductor, which inhibits the crack and exfoliation of a coated DLC (diamond-like carbon) film from occurring under conditions of elevating an environmental temperature and repeating elevating and lowering the temperature, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

環境温度の上昇、また昇温と降温の繰り返しなどの条件下において、被覆されたＤＬＣ膜の亀裂や剥離の発生を抑制する半導体加工装置用部材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁