この駆動回路は更に、発光部をレーザパルスの発光前それぞれにのみ準備状態に移すように構成されている。例文帳に追加

Further, the driving circuits are constituted so as to put the light-emitting part in the standby state only before the light emission of the laser pulse, respectively. - 特許庁

一実施態様では、ＭＲＩシステムにより、準備用パルス・シーケンス及び２次元ＥＰＩ（エコー・プラナ・イメージング）パルス・シーケンスを用いて、運動する冠状動脈（２０８）の心拍ゲート式走査を行なう。例文帳に追加

In one execution mode, the MRI system executes the heart-beat gate type scanning of a moving coronary artery 208 using the preparation pulse sequence and the two-dimensional EPI(echo planner imaging) pulse sequence. - 特許庁

第１のレーザサブシステムは、狭帯域パルスシードビームが増幅されて狭帯域パルス出力ビームを生成する第２のレーザサブシステムを注入シードするのに使用される、超狭帯域パルス出力ビームを準備するように構成される。例文帳に追加

The first laser subsystem is configured to provide a very narrow band pulsed output beam which is used to injection-seed the second laser subsystem where the narrow band pulsed seed beam is amplified to produce a narrow band pulsed output beam. - 特許庁

第１のレーザパルス発射から対象物からの散乱光受光までの時間を測定し、計測系要素の遅延時間を含めて勘案して演算することによりトリガーパルスの最適遅延時間を準備しておき、第２のレーザパルス発射による蛍光画像計測においてこれを適用する。例文帳に追加

A trigger pulse optimum delay time is prepared by measuring the time between the first pulse emission and the reception of light scattered by the object and by calculation with time delays in the measuring system elements taken into consideration, and is applied to the fluorescent image measurement by the 2nd laser pulse emission. - 特許庁

上糸駒２０の上糸端を所定長さ突出させて保持した複数の上糸保治具２を、上糸準備台３上に所定間隔で配置し、第１パルスモータＭ１を介して上糸準備台３を移動させて前記上糸端を所定位置に位置決めする。例文帳に追加

A plurality of needle thread holders 2 each holding a needle thread role 20 extending the end of a needle thread by a specified length are arranged on a needle thread preparation base 3 at specified intervals and the needle thread preparation base 3 is moved to position the needle thread end at a specified point. - 特許庁

別々の二次導体（一方は一方の組のコアを通り、他方は他方の組のコアを通る）は、２つの別々のレーザチャンバの各々の電極に放電パルスを供給する別々の下流側回路にそれぞれ超高電圧パルスを準備する。例文帳に追加

Separate secondary conductors (one passing through one set of cores and the other passing through the other set of cores) provide very high voltage pulses respectively to separate downstream circuits supplying discharge pulses to the electrodes in each of two separate laser chambers. - 特許庁

準備段階において、分子線生成部による分子線生成タイミングに対する第１光源による第１パルス光出力タイミングを各値に設定して、分子線生成部による分子線生成，第１光源による第１パルス光出力および撮像部による蛍光撮像を行う。例文帳に追加

On a preparation stage, the first pulse light output timing of the first light source relative to the molecular beam generation timing of the molecular generation part is set to respective values to perform molecular beam generation by the molecular beam generation part, first pulse light output by the first light source and fluorescent imaging by the imaging part. - 特許庁

垂直同期パルスの発生期間Ｔｖの近傍における水平同期信号ＨＳＹＮＣの水平同期パルスの周期が変化するおそれのある制御期間について、制御期間の始期と終期とをそれぞれ任意に設定できる２つのパラメータを準備する。例文帳に追加

Two parameters are prepared to arbitrarily set the beginning and the ending of the control interval in which the period of horizontal synchronization pulses of a horizontal synchronization signal HSYNC may be changed in the vicinity of a generation interval Tv of vertical synchronization pulses. - 特許庁

少なくとも一つの第２レーザービームは、パルス状であり、かつ、少なくとも一つの第１レーザービームによって準備された非溶融温度から溶融温度までパターン付き表面を加熱する。例文帳に追加

The at least one second laser beam is a pulsed form and heats the patterned surface up to the melting temperature from the non-melting temperature prepared by the at least one first laser beam. - 特許庁

Ｓ１０２で準備された位相の異なる吐出パルスを、Ｓ１０３における設定内容に基づいて各吐出ノズルに対応する個別電極に供給する。例文帳に追加

Ejection pulses having different phases prepared at S102 are then supplied to individual electrodes corresponding to respective ejection nozzles based on a content set at S103. - 特許庁

準備用パルス・シーケンスは、各々の心拍周期中の１つの時間点において冠状動脈を含んでいるスライス（２０４）の周囲の領域のスピン磁化を飽和させる。例文帳に追加

The preparation pulse sequence saturates the spin magnetization of the region around a slice 204 including the coronary artery at one time point in each heart-beat cycle. - 特許庁

駆動トランジスタに供給する電源電圧を電源駆動パルスDSL として使用して閾値補正準備動作（期間Ｃ，Ｄ）と複数回の閾値補正動作（Ｅ，Ｇ，Ｉ）を実行する。例文帳に追加

A source voltage supplied to the driving transistor is used as a power supply driving pulse DSL to perform threshold correcting preparing operation (periods C and D) and a plurality of times of threshold correcting operation (E, G, and I). - 特許庁

複数のレーザ光源は、第１のレーザ光源と、励起の開始からパルス光の発生までにかかる準備時間が前記第１のレーザ光源よりも長い第２のレーザ光源とを含んでいる。例文帳に追加

The plurality of laser sources include a first laser source and a second laser source of which preparation time from the start of the excitation to the generation of the pulsed light is longer than that of the first laser source. - 特許庁

ＲＡＭ１に所定の書込みデータＷＤＴが書込まれた時点で、読出し起動部５０から出力クロック信号ＣＫＢの２サイクル以上のパルス幅を持つ準備完了信号ＲＤＹが出力される。例文帳に追加

When prescribed write data WDT are written in the RAM 1, a ready signal RDY having pulse width of two cycles or more of an output clock signal CKB is outputted from a read starting part 50. - 特許庁

この吐出パルスは、液体を吐出させるための準備をすべく、基準容積の前記圧力室を膨張させるための動作を前記素子に行わせる吐出前膨張部分を有している。例文帳に追加

The discharge pulse has an expanding part before ejection which makes the element carry out the action of expanding the pressure chamber of the reference volume to prepare for discharge of the liquid. - 特許庁

マーキング方法は、（ａ）単結晶の炭化ケイ素からなるマーキング対象物Ｗを準備する工程と、（ｂ）準備したマーキング対象物Ｗにパルスレーザ光を入射させることにより、該マーキング対象物Ｗの表面に、可視光に対する光学特性が残余の領域とは異なる改質領域を形成する工程とを有する。例文帳に追加

A marking method comprises: a step (a) where a marking work W made of single crystal silicon carbide is prepared; and a step (b) where pulse laser light is made incident on the prepared marking work W, thus a modified region having optical properties to visible light different from those of the remaining region is formed on the surface of the marking work W. - 特許庁

続く測定段階において、準備段階で撮像部による蛍光撮像により得られた蛍光像に基づいて決定されるタイミングおよび照射位置となるように、分子線生成部による分子線生成タイミングに対する第２光源による第２パルス光出力タイミングを設定するとともに、分子線への第２パルス光の照射位置を設定する。例文帳に追加

On a succeeding measurement stage, the second pulse light output timing of the second light source relative to the molecular beam generation timing of the molecular beam generation part is set and an irradiation position of second pulse light to a molecular beam is set so as to be set to timing and an irradiation position determined based on a fluorescent image obtained by the fluorescent imaging of the imaging part on the preparation stage. - 特許庁

樹脂層３の上に、樹脂層３よりもパルスレーザ光の照射によって除去されにくい銅層４が積層された構造を有し、銅層４には、銅層４を貫通して底部に樹脂層３が露出した窓穴４ａが形成されている多層基板Ｗを準備する。例文帳に追加

A multi-layered substrate W is prepared, which has a structure with a copper layer 4 less liable to be removed by irradiation of pulse laser beams compared with a resin layer 3 laminated on the resin layer 3, and a window aperture 4a formed on the copper layer 4 with the resin layer 3 exposed at a bottom part through the copper layer 4. - 特許庁

加速パルスのみでスキャナモータが起動し始めてから規定回転数に達した後のオーバーシュートを減らし、スキャナモータの回転数が規定回転数に収束するまでの時間を短縮し、印字の準備時間を短縮可能とする。例文帳に追加

To shorten the preparation time of printing by reducing an overshoot after a scanner motor reaches a prescribed rotational speed after the scanner motor starts in only an acceleration pulse, thus shortening the time until the rotational speed of a scanner motor is converted to a specified speed. - 特許庁

位相検出回路は、位相比較を行う２つのクロック信号の論理和信号と論理積信号とに基づき、進相側と遅相側の２つのパルス信号の生成に用いる一方の出力を、前記位相比較を行う準備動作状態と、前記位相比較を行った回路動作状態とに切り替えて保持するラッチ回路を備えている。例文帳に追加

A phase detection circuit includes a latch circuit that selects a preparation operation state before phase comparison or a circuit operation state after the phase comparison, to hold one of outputs used for generation of two pulse signals on an advance phase side and a delay phase side, based on an OR signal and an AND signal of two clock signals to be subjected to phase comparison. - 特許庁

絶縁被膜１３で覆われたワイヤ芯線１１を準備する工程と、ワイヤ芯線１１の絶縁被膜１３に切込４０ａを形成する工程と、切込４０ａの位置に合わせてパルスレーザＬ１を絶縁被膜１３に照射し、絶縁被膜１３により覆われていないワイヤ芯線部分１１ａを形成する工程と、を有するワイヤ被膜剥離方法。例文帳に追加

This wire coating separation method includes processes of: preparing the wire core 11 covered with the insulating coating 13; forming an incision 40a on the insulating coating 13 of the wire core 11; and forming a wire core part 11a not covered with the insulating coating 13 by irradiating the insulating coating 13 with pulse laser L1 in accordance with the position of the incision 40a. - 特許庁

超高速調節された電源が、前記充電用コンデンサを４００マイクロセカンド未満で充電するために準備され、また、プログラムされたプロセッサを含むパルス制御システムが、前記充電用コンデンサの前記充電を、毎秒少なくとも２、０００回の充電速度の状態で約１パーセント未満の精度に制御する。例文帳に追加

An ultra-fast regulated power supply is provided for charging the charging capacitor in less than 400 microseconds and a pulse control system, including a programmed processor controls the charging of the charging capacitor to an accuracy of less than about one percent at a rate of at least 2,000 charges per second. - 特許庁