かなきぬまぶの英語

光反応型キラル化合物が４９０〜５７０ｎｍ若しくは６３０〜６９０ｎｍに異性化可能な吸収を有し、かつ円偏光若しくは楕円偏光の波長が４９０〜５７０ｎｍ若しくは６３０〜６９０ｎｍである態様が好ましい。例文帳に追加

In a preferable manner, the photo-reactive chiral compound has the isomerizing absorption band in 490-570 nm or 630-690 nm and further the wavelength of the circularly or elliptically polarized light is 490-570 nm or 630-690 nm. - 特許庁

データサイズｎＡのデータブロックは、データサイズＡのデータブロックのｎ個分からなるような記録データフォーマットで記録されている。例文帳に追加

The data block of the data size nA is recorded in recording data format consisting of (n) data blocks of the data size A. - 特許庁

また、各定荷重Ｗｎの作用によるひずみεｎの一階差分値εｍ、又は二階差分値εｏが安定推移から不安定な挙動を示したときに、当該定荷重Ｗｎにおける応力σｎを、その固体材料における降伏点σｙとする。例文帳に追加

Further, when the ground difference value εm or the second difference value εo of the strain εn due to the action of the constant load Wn shows the unstable behavior from the stable transition, the stress σn of the constant load Wn is set to the yield point σy of the solid material. - 特許庁

また、Ｎ型低濃度不純物領域１３７に対するバックライト４からの直接光が光センサ素子４１のＮ型電極１７９によって遮光されるようにＮ型電極１７９の形状を形成する。例文帳に追加

Additionally, the shape of an N-type electrode 179 is formed so that the direct light from the backlight 4 to an N-type lightly-doped impurity region 137 is shielded by the N-type electrode 179 of the optical sensor element 41. - 特許庁

小さな黄色の花と草のような葉をつける2つの草のトウシンソウのような沼地の植物のどちらか例文帳に追加

either of two herbaceous rushlike bog plants having small yellow flowers and grasslike leaves発音を聞く  - 日本語WordNet

提案材料と保存期間内で研磨速度８７〜９３ｎｍ／分でエッチング速度が１．０ｎｍ／分以下に抑制されることを特徴とする。例文帳に追加

When the polishing liquid is within shelf life, etching rate is limited to 1.0 nm/min or lower at a polishing rate 87 to 93 nm/min. - 特許庁

その内部にコウヤマキ製の5メートルの刳り抜き式木棺を納めた大規模な木槨。例文帳に追加

There was a large size mokkaku in which 5 meters hollowed-out coffin made of Japanese umbrella pine was placed inside it.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

不織布と、該不織布を構成するフィラメント表面に硫黄と反応可能な金属または金属化合物を物理的気相成長法（ＰＶＤ）または化学的気相成長法（ＣＶＤ）により形成された被膜と、該被膜と接着し、前記不織布を被覆するゴムとからなる。例文帳に追加

The rubber composite material comprises the nonwoven fabric, a film formed with a metal or a metal compound capable of being reactive with a sulfur on surfaces of filaments for constituting the fabric by a physical vapor deposition method(PVD) or a chemical vapor deposition method(CVD), and the rubber adhered to the film and coating the fabric. - 特許庁