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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 日英固有名詞辞典 > しょうえいちょう3ちょうめの解説 

しょうえいちょう3ちょうめの英語

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日英固有名詞辞典での「しょうえいちょう3ちょうめ」の英訳

しょうえいちょう3ちょうめ

地名

英語 Shoeicho 3-chome

栄町丁目


「しょうえいちょう3ちょうめ」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 280



例文

GaN層2とGaN成長層の格子定数が一致し、GaN成長層はGaN層2の高い結晶性を引き継いで成長するため、結晶性の高いGaN成長層が得られる。例文帳に追加

The grid constant of the GaN layer 2 coincides with that of the GaN growth layer 3, and the GaN growth layer 3 is grown while succeeding the high crystallinity of the GaN layer 2 whereby the GaN growth layer 3, high in the crystallinity, is obtained. - 特許庁

六角形のパターン5の間に露出したGaN層の表面からラテラル成長法により再成長GaN層6を結晶成長させる。例文帳に追加

A regrowth GaN layer 6 is epitaxially grown according to lateral growing method from the surface of the GaN layer 3 exposed between the hexagon patterns 5. - 特許庁

11系統(木津南循環バス):木津駅東口→州見台4丁目→州見橋東→州見台8丁目→州見橋東→木津南ソレイユ→梅見台小学校→梅見台5丁目→梅見台3丁目→梅見台2丁目→木津駅東口例文帳に追加

Route 11 (Kizuminami loop bus): East entrance of Kizu Station - Kunimidai 4-chome - Kunimibashi-Higashi - Kunimidai 8-chome - Kunimibashi-Higashi - Kizu-minami Soleil -Umemidai Elementary School - Umemidai 5-chome - Umemidai 3-chome - Umemidai 2 -chome - East entrance of Kizu Station発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

常圧気相成長および減圧気相成長が可能な気相成長装置10の反応容器1内に配置したシリコン単結晶基板の主表面上にシリコンエピタキシャル層を減圧気相成長する。例文帳に追加

The substrate 3 is arranged in a reaction vessel 1 of vapor growth equipment 10 capable of ordinary pressure vapor growth and low pressure vapor growth. - 特許庁

半導体結晶2は所謂ドーム型の断面形状を有するELOマスクがマスキングされた結晶成長基板1の結晶成長面1a上に成長したものであり、転位4はELOマスクの上面略中央から半導体結晶2の結晶成長面2aまで伸びている。例文帳に追加

The semiconductor crystal 2 is a crystal grown on the crystal growth surface 1a of a crystal growth substrate 1 masked with an ELO mask 3 having so-called dome shaped cross section, and transition 4 extends from about the center of the top of the ELO mask 3 to a crystal growth surface 2a of the semiconductor crystal 2. - 特許庁

また、結晶成長方法では、石英坩堝1に、予め溶かした溶融原料を充填する。例文帳に追加

In the method for growing a crystal, the quartz crucible 1 is filled up with the melted precursor 3 which was melted beforehand. - 特許庁

例文

成長容器4内にSiC種結晶を配置し、その成長面5上にバルク状のSiC単結晶を成長させて、SiC単結晶を製造する方法である。例文帳に追加

The method for producing a SiC single crystal is carried out by disposing a SiC seed crystal 3 in a growing chamber 4 and growing a bulk SiC single crystal on the growing surface 35. - 特許庁

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「しょうえいちょう3ちょうめ」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 280



例文

これは、半導体結晶2の成長に伴って半導体結晶2の結晶成長面2aが結晶成長基板1の結晶成長面1a付近から上方に移動する間にも、半導体結晶2はELOマスクの傾斜面付近でこの傾斜面に沿って横方向にも成長できるためである。例文帳に追加

This is because the semiconductor crystal 2 also can grow laterally along the tilted surface of the ELO mask 3 near the surface, while, as the semiconductor crystal 2 increases, the crystal growth surface 2a of the semiconductor crystal 2 moves upward from the vicinity of the crystal growth surface 1a of the crystal growth substrate 1. - 特許庁

多結晶シリコン膜の成長前処理において,シリコン基板1上の自然酸化膜を除去するために、ヒ素ドープ多結晶シリコン膜はエピタキシャル成長され、ヒ素ドープ単結晶シリコン膜5となる。例文帳に追加

In the pre-treatment of growth of the film 3, in order to eliminate a natural oxide film on the silicon substrate 1, the polycrystal silicon film 3 is epitaxially grown and turned into an arsenic-doped single crystal silicon film 5. - 特許庁

エピタキシャル成長層を転写用基板4に接着し、単結晶基板1の裏面からレーザ光,水銀灯の輝線などの光を照射して、エピタキシャル成長層と単結晶基板1とを互いに分離する。例文帳に追加

The epitaxial growth layer 3 is adhered to a substrate 4 for transfer, and light such as laser light, emission lines of a mercury lamp, or the like is irradiated from the backside of the single crystal substrate 1 to separate the epitaxial growth layer 3 from the single crystal substrate 1. - 特許庁

くびれ部の片側で発生した多数の結晶核のうち、結晶成長しやすい方位の結晶をくびれ部で選択し、かつ、くびれ部を出た後、結晶粒を大きく成長させたい領域で不規則な結晶核が生じるのを、出口側を滑らかなエッジ形状とすることにより抑制する。例文帳に追加

Among many crystal nuclei generated at the neck 3, crystals having an orientation which tends to make the crystal grow are selected at the neck 3, and irregular crystal nuclei are suppressed from growing in the desired region, away from the neck 3 for growing the crystal grains to a large size by making the outlet smooth in edge. - 特許庁

次に、演算装置が、光電変換装置1の温度と光電変換装置1により入力が保証される階調数との関係に基づいて、階調数入力装置6で決定された階調数に応じた階調数保証温度を求める。例文帳に追加

Next, an arithmetic operation device 3 obtains a tone number guarantee temperature corresponding to the tone number decided by the device 6 on the basis of the relation between the temperature of the device 1 and the tone number for which input is guaranteed by the device 1. - 特許庁

このように、財政赤字の更なる拡大は、回復し始めた世界経済の成長を妨げるリスク要因となり得る(コラム3、4参照)。例文帳に追加

In this way the further expansion of fiscal deficits could become a risk factor which could hinder growth of the global economy that has just started to recover (Refer to Column 3 and 4). - 経済産業省

本発明は、透光性材料からなる結晶成長用基板1a,2a,a,4aに気相成長によりシンチレータ1b,2b,b,4bを堆積したパネル1,2,,4を、複数積層したことを特徴とするシンチレータパネルを提供する。例文帳に追加

This scintillator panel is constituted by laminating a plurality of panels 1, 2, 3, 4 where the scintillators 1b, 2b, 3b, 4b are deposited by vapor phase growth on crystal growth substrates 1a, 2a, 3a, 4a comprising a translucent material. - 特許庁

例文

原料溶液1に満たされた成長容器2内で半導体ウェハー上に結晶薄膜を成長させる液相エピタキシャル成長方法において、半導体ウェハー表面に付着してエピタキシャル成長を阻害する大きさの多結晶体が入り込まないように、半導体ウェハーを平行に間隔をおいて配置する。例文帳に追加

In a liquid phase epitaxial growth method for growing the crystal thin film on a semiconductor wafer 3 inside a growth container 2 filled with a raw material solution 1, the semiconductor wafers 3 are arranged in parallel with one another at intervals so as to eliminate the incorporation of polycrystals which have dimensions to adhere to the surface of the semiconductor wafer 3 and inhibit epitaxial growth. - 特許庁

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1
Shoeicho 3-chome 日英固有名詞辞典

2
Soharashoeicho 3-chome 日英固有名詞辞典

3
松栄町3丁目 日英固有名詞辞典

4
蘇原昭栄町3丁目 日英固有名詞辞典

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