小窓モード


プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 日英固有名詞辞典 > せがさき2ちょうめの解説 

せがさき2ちょうめの英語

ピン留め

追加できません

(登録数上限)

単語を追加

日英固有名詞辞典での「せがさき2ちょうめ」の英訳

せがさき2ちょうめ

地名

英語 Segasaki 2-chome

丁目


「せがさき2ちょうめ」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 309



例文

[1]又は[2]の規定に基づき優先権を主張する者は,出願日から2月以内に先の出願の日付及び国を示さなければならない。例文帳に追加

Any person who claims priority, pursuant to subsection (1) or (2), shall, within a period of two months after the date of filing of the application, indicate the date and State of the earlier application.発音を聞く  - 特許庁

正室との間には先立たれた娘2人のみで、家督は庶出の長男・菅沼定昭が継いだ。例文帳に追加

Between his lawful wife, there were only two daughters who died before him, so the eldest son, Sadaakira SUGANUMA succeeded as head of the family.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

平成19年3月31日までの出願についての本審査基準(第Ⅸ部 審査の進め方)の適用に当たっては、「第1節 概論」の2. (6)、「第2節 各論」の4.2 (3)、4.3.3.1 (1)e、6.2.1 (2)、6.2.2 (2)及び(3)のうち、「発明の特別な技術的特徴を変更する補正」(第17条の2第4項)に関する記載は適用しない。例文帳に追加

With regard to applications filed on or before March 31, 2007, among the provisions of this Examination Guidelines (Part IX Procedure of Examination), the provisions in 2 (6) ofSection 1 Introduction” and the provisions in 4.2 (3), 4.3.3.1 (1)e, 6.2.1 (2), 6.2.2 (2) and (3) ofSection 2 Details,” which relate toAmendment that changes a Special Technical Feature of an Invention” (Article 17bis (4)) shall not apply.発音を聞く  - 特許庁

優先権主張の対象は「先の出願の願書に最初に添付した明細書等に記載された発明」(第 41条第 2項)である。例文帳に追加

The subject of priority claim is the “invention that is disclosed in the description etc. originally attached to the request of an earlier application” (Article 41(2)).発音を聞く  - 特許庁

GaAs基板1上に半導体層を成長させ、半導体層を耐熱性紫外光剥離テープ5を介して透明支持体4に貼り付ける。例文帳に追加

A semiconductor layer 2 is grown on a GaAs substrate 1 and the semiconductor layer 2 is stuck to a transparent support 4 by means of a heat-resisting ultraviolet-light peeling tape 5. - 特許庁

(2)特許登録局は,同局に対してなされた国際出願以外の特許出願を,第78L条(1)に定める国際調査機関による国際調査に服せしめることができるものとする。例文帳に追加

(2) The Patent Registration Office may subject an application, other than an international application, for the grant of a patent filed with it to an international search to be carried out by the International Searching Authority which is specified under subsection 78L(1). - 特許庁

例文

(3) 優先権を行使する結果として,第6条(2)及び(3),第10条(3),第109条及び第145条(1)及び(2)の規定を適用するため,特許出願日は,有効に優先権が主張されている先願の出願日とみなされる。例文帳に追加

(3) As a result of the exercise of the right of priority, for the purposes of the provisions set out in Articles 6(2) and (3), 10(3), 109, and 145(1) and (2), the date of filing the patent application shall be deemed to be the date of filing of the earlier application whose priority has been rightfully claimed. - 特許庁

>>例文の一覧を見る


調べた例文を記録して、 効率よく覚えましょう
Weblio会員登録無料で登録できます!
  • 履歴機能
    履歴機能
    過去に調べた
    単語を確認!
  • 語彙力診断
    語彙力診断
    診断回数が
    増える!
  • マイ単語帳
    マイ単語帳
    便利な
    学習機能付き!
  • マイ例文帳
    マイ例文帳
    文章で
    単語を理解!
  • その他にも便利な機能が満載!
Weblio会員登録(無料)はこちらから

「せがさき2ちょうめ」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 309



例文

調整部4は、針管の周囲に設けられ、針管の針先が突出する針突出面4bを有している。例文帳に追加

The adjustment part 4 is provided on a periphery of the needle tube 2, and has a needle projecting surface 4b on which the needlepoint of the needle tube 2 projects. - 特許庁

発光素子()の周囲に反射面(4)が形成された半導体発光装置において、その発光素子()を封止する透明な樹脂(1)の最表面が、発光素子()の上面の高さ近傍に設定されていることを特徴としている。例文帳に追加

In the semiconductor light-emitting apparatus with a reflecting surface (4) formed around a light-emitting device (2), a top surface of transparent resin (1) sealing the light-emitting device (2) is arranged near the height of upper surface of the light-emitting device (2). - 特許庁

 調査委託者その他の利害関係人は、調査機関に対し、その業務時間内は、いつでも、当該調査機関が前項又は次条第二項の規定により保存している調査記録簿等(利害関係がある部分に限る。)について、次に掲げる請求をすることができる。ただし、当該請求をするには、当該調査機関の定めた費用を支払わなければならない。例文帳に追加

(2) An Investigation Entruster or any other interested party may make the following requests to an Investigation Body with regard to the Investigation Record Book, etc. preserved by such Investigation Body pursuant to the provisions of the preceding paragraph or paragraph (2) of the following Article (limited to the portions in which such person has an interest) at any time during the business hours of the Investigation Body; provided, however, that such person shall pay the fee designated by the Investigation Body when making such requests:発音を聞く  - 日本法令外国語訳データベースシステム

まず波長が355nmである紫外光レーザを、TFTアレイ基板の表面側から照射することにより、カットおよびコンタクトさせる箇所の層間絶縁膜15を除去する(図1(a)-2 、図1(b)-2 )。例文帳に追加

In this manufacturing method, first, interlayer insulating films 15 of place where are to be cut or contact is to be performed are removed (Figure 1 (a)-2, Figure 1 (b)-2) by irradiating laser irradiation places for cutting with a ultraviolet laser beam whose wavelength is 355 nm from the surface side of a TFT (thin film transistor) array substrate. - 特許庁

(3)(1)又は(2)に基づいて調査を行う場合,出願における明細書及びクレームは国際調査機関が定める言語で記載され,かつ,出願人は,国際調査機関に対して直接,又は特許登録局を通じて,国際調査機関が定める調査手数料を納付しなければならない。[法律A1264s.2による挿入]例文帳に追加

(3) Where a search is carried out on an application pursuant to subsection (1) or (2), the description and claims contained in the application shall be presented in the languages specified by the International Searching Authority and the search fees as specified by the International Searching Authority shall be paid by the applicant either to the International Searching Authority directly or via the Patent Registration Office.”. [Ins. Act A1264: s.2] PART VII RIGHTS OF OWNER OF PATENT Section 36. Rights of owner of patent. - 特許庁

また、用いる遠紫外域を含む紫外光の波長が00〜365nm、その照射量がレンズ材料の膜厚1μm当たり、波長54nmにおいて50〜100mJ/cm^2であることを特徴とする。例文帳に追加

Moreover, the wavelength of the ultraviolet ray including the far ultraviolet region used is 200 to 365 nm, and the dose is 50 to 100 mJ/cm2 at the wavelength of 254 nm per film thickness of lens material of 1 μm. - 特許庁

特許庁は,出願人の発明が博覧会で先に展示されていた場合は,(2)(i)にいう証明書に出願人によって主張された優先日を注記しなければならない。例文帳に追加

The Patent Office shall annotate on the certificate referred to in paragraph (2)the date of priority claimed by the applicant in case of his invention having been earlier displayed at an exhibition. - 特許庁

例文

切削台9上に置かれた氷塊8を回転させるための回転機構(a、3、7、7a)と、スリット11から刃先を突出する切削刃14と、刃先の高さを調節する切削刃調節手段とが備えられている。例文帳に追加

This ice shaving machine includes rotating mechanisms 2, 2a, 3, 7, 7a for rotating the block of ice 8 placed on the shaving base 9, the cutting blade 14 having a blade edge projecting from a slit 11; and a cutting blade adjustment means adjusting the height of the blade edge. - 特許庁

>>例文の一覧を見る

1
Matsugasaki 2-chome 日英固有名詞辞典

2
Arigasaki 2-chome 日英固有名詞辞典

3
Chigasaki 2-chome 日英固有名詞辞典

4
Chiyogasaki 2-chome 日英固有名詞辞典

5
Dogasaki 2-chome 日英固有名詞辞典

6
Hachigasaki 2-chome 日英固有名詞辞典

7
Hatagasaki 2-chome 日英固有名詞辞典

8
Inamuragasaki 2-chome 日英固有名詞辞典

9
Jogasaki 2-chome 日英固有名詞辞典

10
Kamegasaki 2-chome 日英固有名詞辞典

せがさき2ちょうめのページの著作権
英和・和英辞典 情報提供元は 参加元一覧 にて確認できます。

   
日中韓辭典研究所日中韓辭典研究所
Copyright © 2024 CJKI. All Rights Reserved

ピン留めアイコンをクリックすると単語とその意味を画面の右側に残しておくことができます。

こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

このモジュールを今後表示しない
みんなの検索ランキング
閲覧履歴
無料会員登録をすると、
単語の閲覧履歴を
確認できます。
無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2024 GRAS Group, Inc.RSS