そとぼり３ちょうめの英語

その後、マルチフィラメント糸２を緊張させた状態下で、バインダー溶液３中から外に引き出して、糸通過孔を通して、マルチフィラメント２中に含浸されている過剰のバインダー溶液３を搾り取る。例文帳に追加

Then, the multifilament thread is drawn from the inside of the binder solution 3 to the outside while the multifilament thread 2 is tensed and inserted through a thread passing hole to squeeze out the excess solution 3 impregnated in the multifilament thread 2. - 特許庁

コントローラ３は、切換弁12，２をスプールストローク制御して、それらの各Ｐ−Ｃ可変絞り面積を制御するとともに、バイパス絞り可変調整弁25を制御して、それらのスプールストロークにおけるバイパス可変絞り面積の合成値を、適切なポンプ信号圧Ｐnが得られるように補正する。例文帳に追加

The controller 3 controls the spool strokes of the changeover valves 12 and 2 to control the P-C variable restriction areas thereof and also controls the bypass restriction variable regulating valve 25 to correct the synthetic value of the bypass variable restriction area thereof at a spool stroke so that a proper pump signal pressure Pn can be provided. - 特許庁

旗（１）、幟（１０）、舞台幕（１１）および緞帳（１２）を構成する基材（２）の少なくとも一側面に、単一あるいは多成分系の金属酸化物ガラス膜により形成されるガラス膜層（３）を設けたことを特徴とする。例文帳に追加

The invention is characterized in that a glass film layer (3) composed of a single or multi-component metal oxide glass film is provided at least on one side of the base material (2) constituting a flag (1), banner (10), stage curtain (11) and a thick curtain (12). - 特許庁

ビデオカメラの露光量調整は、撮影光学系１内に設けられた絞り装置２の開口径と物性フィルタ３の光透過率を制御することで、撮像素子４への入射光量を調整し行われる。例文帳に追加

The exposure of a video camera is adjusted by adjusting the quantity of incident light on an imaging device 4 by controlling the aperture diameter of a diaphragm device 2 provided in a photographing optical system 1 and the light transmissivity of a material filter 3. - 特許庁

静電チャックプレート２と基板３との間に潤滑ガスが存在し、潤滑剤として作用するので、基板３が昇温し、熱膨張する際に、基板３裏面と静電チャックプレート２表面との間が摺動しても、ダストが発生しないようになっている。例文帳に追加

Since a lubricating gas exists between the electrostatic chuck plate 2 and substrate 3 and acts as a lubricant, when the temperature of the substrate 3 rises and thermally expands, dust is not generated even if a back surface of the substrate 3 and surface of the electrostatic chuck plate 2 slide. - 特許庁

そして、一定温度に昇温された電気炉内で、上部部材６の融液溜め８に貯溜されている融液を成長室３内に注入した後、電気炉内を降温することによって半導体基板１のエピタキシャル成長面に結晶を成長させる。例文帳に追加

The melt stored in the melt reservoir 8 of the upper member 6 is injected into the growth chambers 3 in an electric furnace heated up to a prescribed temperature and the temperature of the interior of the electric furnace is reduced to thereby grow the crystal on the epitaxial growth surface of the semiconductor substrate 1. - 特許庁

本発明にかかる水撃現象防止装置は、送水管路３の負圧発生箇所に連通された調圧管路１１と、調圧管路１１への水の流入量を調整する絞り１３と、調圧管路１１の内部に配置され、絞り１３から流入した水の圧力に応じて弾性変形する調圧体１２とを備える。例文帳に追加

This water hammer phenomenon preventing device comprises a pressure control duct 11 communicated to a negative pressure generating place of a water supply pipeline 3, a restrictor 13 for adjusting a water flow-in amount into the pressure regulating pipeline 11, and a pressure regulation body 12 that is disposed inside the pressure regulating pipeline 11 and elastically deforms in response to pressure of the water flowing from the restrictor 13. - 特許庁

特定の紡錘状ヘマタイト粒子を３〜１５ｃｍの層高の固定層に形成し、４０〜１５０ｃｍ／ｓの空塔速度の還元性ガス雰囲気下、昇温速度１０〜８０℃／ｍｉｎで４００〜７００℃に昇温して還元することを特徴とする。例文帳に追加

Specified spindle-shaped hematite particles are formed into a fixed layer with a layer thickness of 3 to 15 cm, the temperature thereof is raised to 400 to 700°C at a temperature rising rate of 10 to 80°C/min in the atmosphere of reducing gas at an empty tower velocity of 40 to 150 cm/s, and reduction is performed. - 特許庁