第一ステージ２１の圧縮比は、第二ステージの圧縮比よりも大きくなっている。例文帳に追加

The compression ratio of the first stage 21 is larger than that of the second stage 22. - 特許庁

ステージ装置１０のステージ部材２２は、下向きに内凹部２２ｂを有する箱状体である。例文帳に追加

A stage member 22 of the stage equipment 10 is shaped into a box, having an inward-directed inner recess 22b. - 特許庁

ステージ２０を、ステージ本体２１とその上側の表面板２２とに分割する。例文帳に追加

A stage 20 is divided into a stage body 21 and a surface plate 22 above the stage body 21. - 特許庁

反射鏡２２は、基板ステージ８に搭載される。例文帳に追加

The reflecting mirror 22 is mounted on the substrate stage 8. - 特許庁

小さい被処理物を処理する際は、継ぎ足しステージ２２を主ステージ２１から離間させ、主ステージ２１に被処理物を配置する。例文帳に追加

In processing a small workpiece, the additional stage 22 is spaced from the main stage 21, and a workpiece is placed on the main stage 21. - 特許庁

セッション管理手段22は，各ステージごとにセッションを生成する。例文帳に追加

A session managing means 22 generates a session for each stage. - 特許庁

二つの基板ステージ２２，２４と一つのマスクステージ３４とを有し、かつ基板ステージ２２，２４がマスクステージ３４の前後方向または左右方向に移動可能な露光装置１０を用いて基板に露光パターンを転写する。例文帳に追加

An exposure pattern is transferred onto a substrate using an exposure apparatus 10 having two substrate stages 22, 24 and one mask stage 34, in which the substrate stages 22, 24 can be moved in a cross direction or a longitudinal direction of the mask stage 34. - 特許庁

マスクステージを取り付けるには、ガイド２２を上昇させてガイド２２上にマスクステージを載置し、脚２１を下降させて、マスクステージＭＳをマスクステージ吸着固定部３１により吸着固定する。例文帳に追加

At the time of mounting the mask stage, the guides 22 are moved up, and the mask stage is placed on the guides 22, and the legs 21 are moved down so that a mask stage MS can be absorbed and fixed by the mask stage absorbing and fixing parts 31. - 特許庁

、回動ステージ２４は、直動ステージ２３に上下方向の軸を回転軸として回動可能に支持され、直動ステージ２３は、マルチモーションステージ２２に左右方向に移動可能に支持されている。例文帳に追加

A rotary stage 24 is rotatably supported on a linear motion stage 23 by making a vertical direction axis as a rotation axis, while the linear motion stage 23 is supported on a multi-motion stage 22 to be movable in a right and left direction. - 特許庁

かかる露光中には、ステージの移動に応じて、カウンタステージ（２２等）がステージとは反対方向に移動するため、ステージ駆動による反力がほぼ完全に吸収される。例文帳に追加

During the exposure, a counter stage (22, etc.), moves in the opposite direction from the stage according to the movement of the stage, so reaction force caused by the driving of the stage is almost completely absorbed. - 特許庁

ステージ２２内に飛び込んだ遊技球は、このステージ２２上で一旦滞留した後、切欠き部２７から始動入賞口１２に流下する。例文帳に追加

The game ball entering into the stage 22 is stayed on the stage 22 temporarily, and then flows down from a notched part 27 to the start prize hole 12. - 特許庁

ステージ電極２０を電極本体２１と電極板２２とに分割する。例文帳に追加

A stage electrode 20 is divided into an electrode body 21 and an electrode plate 22. - 特許庁

加算部２２は、前ステージから出力された残差電圧Ｖｒｅｓ１Ａ１，Ｖｒｅｓ１Ａ２を加算する。例文帳に追加

The adder 22 adds residual voltages Vres1A1 and Vres1A2 outputted from a previous stage together. - 特許庁

移動機構２６は、ステージ２２を所定方向に移動させる。例文帳に追加

The movement mechanism 26 moves the stage 22 in the predetermined direction. - 特許庁

カム21で直接ステージ20Aを駆動するのではなく、駆動軸22の揺動を介して間接的にステージ20Aを駆動することで高精度にステージをスライドさせる。例文帳に追加

The stage is slid at high accuracy by indirectly driving the stage 20A through the oscillation of the driving shaft 22 without directly driving the stage 20A by the cam 21. - 特許庁

回転モータ２２が回転すると、ステージ部２１は防液部材３０と共に回転し、ステージ２１上に載置された被照射物Ｗが回転する。例文帳に追加

When the rotary motor 22 is rotated, the stage 21 is rotated together with the liquid-proof member 30, and the irradiation object W on the stage 21 is rotated. - 特許庁

ステージコントロール部２２は、観察光軸Ｌに対して垂直な平面内でのステージ１の位置を検出する。例文帳に追加

A stage control part 22 detects the position of the stage 1, on a plane perpendicular to an observation optical axis L. - 特許庁

研磨終了後、第２の研磨ステージ２０から離れたステージ２２にて、研磨終了したガラス基板Ｇを膜枠１４から取り外す。例文帳に追加

In a stage 22 separated from a second polishing stage 20 after finishing the polishing, the glass substrate G finished with the polishing is removed from the film frame 14. - 特許庁

好ましくは、第１ステージ部２１と第２ステージ部２２との対向面どうし間に間隙を形成し、これを通気孔２９とする。例文帳に追加

It is desirable to form a gap between countering faces of a first stage part 21 and a second stage part 22, to be used as the vent hole 29. - 特許庁

可動ステージ２１および可動ステージ２２の位置が、常に垂直軸３１に対して互いに点対称となるように制御される。例文帳に追加

The positions of movable stages 21 and 22 are controlled so as to always be symmetrical about a point to each other to a vertical axis 31. - 特許庁

表示台枠２２にはステージ３３が形成されており、ステージ３３の前方には保護カバー６２が固定されている。例文帳に追加

A stage 33 is formed on a display base frame 22 and a protective cover 62 is fixed in front of the stage 33. - 特許庁

ステージ装置１の各Ｙスライダ２１、２２の側面、ならびに、ステージ３３の両側面には、制振用アクチュエータ４１が設けられている。例文帳に追加

A vibration suppression actuator 41 is provided on the side of each of the stage device 1's Y sliders 21 and 22, and on both sides of a stage 33. - 特許庁

大きい被処理物Ｗ_Ｌを処理する際は、主ステージ２１の側部に継ぎ足しステージ２２を継ぎ足す。例文帳に追加

In processing a large workpiece W_L, an additional stage 22 is added to the side of a main stage 21. - 特許庁

この照射の際に、ステージコントローラ２２により制御されたステージ２１の移動に伴い反射光２３も移動する。例文帳に追加

In this irradiation, the reflected light 23 also moves with the movement of a stage 21 controlled by a stage controller 22. - 特許庁

また、可動ステージ２１および可動ステージ２２の姿勢（向き）も、常に垂直軸３１に対して互いに点対称となるように制御される。例文帳に追加

In addition, the attitudes (directions) of the movable stages 21 and 22 are also controlled so as to always be symmetrical about a point to each other to the vertical axis 31. - 特許庁

可動ステージ２１および可動ステージ２２から固定台１に与えられる反力は垂直軸３１周りのモーメントのみとなるため、回転体３に角加速度を与えて可動ステージ２１および可動ステージ２２から固定台１に与えられるモーメントを打ち消す。例文帳に追加

Since the reaction force given from the movable stages 21 and 22 to a fixing base 1 becomes only the moment around the vertical axis 31, the angular acceleration is given to a rotation body 3 to cancel the moment given from the movable stages 21 and 22 to the fixing base 1. - 特許庁

ワープ通路２４の出口２４ｂに分岐ステージ２２を設け、分岐ステージ２２を仕切り壁２７によって第１領域と第２領域に区画すると共に、第１領域を上側ステージ２０に連通し、第２領域を下側ステージ２１に連通する。例文帳に追加

A branch stage 22 is provided at an outlet 24b of the warp passage 24, the branch stage 22 is divided into a first area and a second area by a partition wall 27, the first area is communicated with an upper stage 20 and the second area is communicated with a lower stage 21. - 特許庁

エネルギービームの射出装置１２と、ステンシルマスク６を保持するマスクステージ２２と、半導体ウェーハ４を保持する試料ステージ２と、マスクステージ２２と試料ステージ２を相対的に振動させる振動発生機構２３を備えている。例文帳に追加

The energy beam irradiator is provided with an energy beam emitting device 12, a mask stage 22 for holding the stencil mask 6, a specimen stage 2 for holding the semiconductor wafer 4 and a vibration generating mechanism 23 which causes the mask stage 22 and the specimen stage 2 to relatively vibrate. - 特許庁

計測光Ｌを被検体22に入射させ、Ｘ−Ｙステージ23により走査させる。例文帳に追加

Measurement light L is made incident on a subject 22 and scanned by an X-Y stage 23. - 特許庁

計測光を被検体22に入射させ、Ｘ−Ｙステージ23により走査させる。例文帳に追加

The measurement light L is made incident on a subject 22 and scanned by an X-Y stage 23. - 特許庁

また、ウェーハ２８を保持するチャック４０は、ウェーハ２８を保持したまま、粗研削ステージ１８、精研削ステージ２０、及びエッチングステージ２２に順次移動される。例文帳に追加

A chuck 40 holding the wafer 28 is successively moved to the rough grinding stage 18, the fine grinding stage 20 and the etching stage 22 while holding the wafer 28. - 特許庁

真空チャンバ１０内のステージ２２の上方に、ＩＣＰ電極２４（第１の電極）が設けられている。例文帳に追加

An ICP electrode 24 (first electrode) is arranged above the stage 22 in the vacuum chamber 10. - 特許庁

ウェハステージ２４の寸法は半導体基板２２よりも小さくなっている。例文帳に追加

The dimensions of the wafer stage 4 are smaller than those of the semiconductor substrate 22. - 特許庁

次に、ステージ２２を下降させて偏光子６と接着剤層８１を接触させる。例文帳に追加

Then, the stage 22 is lowered to bring the polarizer 6 and the adhesive layer 81 into contact. - 特許庁

基板用ステージ２１は、ガラス基板２２を保持する主表面２１ａを有する。例文帳に追加

A substrate stage 21 includes a main surface 21a which holds a glass substrate 22. - 特許庁

ステージ１２の加圧面とヘッド２２の加圧面との間には両被加圧物９１，９２が介装される。例文帳に追加

Both objects to be pressurized 91 and 92 are set intervening between a pressurizing surface of stage 12 and a pressurizing surface of head 22. - 特許庁

ベース２に立てられた支柱４にはＺステージ２０を介してアーム２２が固定されている。例文帳に追加

The arm 22 is fixed through the Z-stage 20 to the support 4 that is made stand on the base 2. - 特許庁

ステージ２２は水平方向に移動可能であり、押圧ヘッド２５は垂直方向に移動可能である。例文帳に追加

The stage 22 can be moved in the horizontal direction, and the pressing head 25 can be moved in the vertical direction. - 特許庁

ステージ部材２２の開口端面２２ａには、気体吹出口と気体吸引口とが形成されている。例文帳に追加

A gas blowing port and a air sucking port are made in the opening end face 22a of the stage member 22. - 特許庁

グリース供給装置２０は、転写ステージ２１とグリース面ならしユニット２２を備えている。例文帳に追加

A grease supplying device 20 is provided with a transfer stage 21 and a grease surface smoothing unit 22. - 特許庁

印刷装置１は、基板Ｗを載置するとともに搬送するステージ２２を有している。例文帳に追加

The printer 1 mounts the substrate W thereon and has a stage 22 which conveys the substrate W. - 特許庁

この後遊技球は、所定の確率で遊技球導入口２５ａ，ｂを介してステージ２２内に飛び込む。例文帳に追加

Thereafter, the game ball enters into a stage 22 in a specified probability through game ball introducing holes 25a and 25b. - 特許庁

支持機構２０は、ステージ２１、軸部材２２および支持ピン２３，２４を備える。例文帳に追加

A support mechanism 20 is equipped with a stage 21, a shaft member 22, and support pins 23 and 24. - 特許庁

真空チャンバ１０内に、被処理物２０を載置するステージ２２が設けられている。例文帳に追加

A stage 22 for mounting a processing object 20 thereon is arranged in a vacuum chamber 10. - 特許庁