余樹安の英語

画像が形成された記録媒体から画像形成材料を除去し、記録媒体を再生する画像形成材料除去装置において、画像剥離ベルト上に堆積した余分な熱溶融性樹脂を回収するとともに、画像剥離ベルト上にほぼ一定の層厚の画像剥離層を安定して形成する。例文帳に追加

To recover excess hot-melt resin deposited on an image peeling belt and to stably form an image peeling layer having almost fixed layer thickness on the image peeling belt in an image forming material removing device for removing the image forming material from a recording medium on which an image is formed and recycling the recording medium. - 特許庁

高感度、高解像性、十分な露光余裕度、良好なラインウィズスラフネス、真空引き置き安定性（ＰＥＤ）を同時に満足するパターンを形成することが可能な感活性光線または感放射線樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法の提供。例文帳に追加

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, satisfactory exposure latitude, good line width roughness and post-exposure delay stability (PED), and to provide a pattern forming method using the composition. - 特許庁

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(ＬＷＲ)、フォーカス余裕度(ＤＯＦ)およびパターン形状に優れる感活性光線または感放射線性樹脂組成物組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an actinic-ray- or radiation sensitive resin composition superior in line width roughness (LWR), depth of focus (DOP) and pattern profile, so as to more stably form a high-precision minute pattern for manufacturing a highly integrated high-precision electronic device, and to provide a method of forming a pattern using the same. - 特許庁

感度および解像度に優れ、かつ光近接効果が小さく、孤立ラインパターンおいても微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、しかも孤立ラインパターンに対して十分なフォーカス余裕度を確保しうる、ポジ型あるいはネガ型の化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a radiation-sensitive resin composition excellent in sensitivity and resolution, having a small light proximity effect, capable of accurately and stably forming a fine pattern even in an isolated line pattern, capable of ensuring a sufficient focus margin for the isolated line pattern and useful as a positive type or negative type chemical amplification type resist. - 特許庁

感度および解像度に優れ、かつ光近接効果が小さく、孤立ラインパターンおいても微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、しかも孤立ラインパターンに対して十分なフォーカス余裕度を確保しうる、化学増幅型レジストとして有用なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a negative radiation-sensitive resin composition superior in sensitivity and resolution, showing small optical proximity effect, capable of accurately and stably forming a fine pattern, even in the case of an isolated line pattern, capable of ensuring sufficient focus margin for an isolated line pattern, and useful as a chemically amplified resist. - 特許庁

本発明の目的は、余分なスペースを要することなく、また材料費や製造工程も増加させることなく、なおかつ硬質合成樹脂層に割れや剥離の生じる恐れを低減し、長期に渡って安定した状態で種々のエンジンにおける燃焼室周りの均一なシールが可能な金属ガスケットを提供することである。例文帳に追加

To provide a metal gasket capable of uniform sealing to the section around a combustion chamber in various engines in a stable state for a long time without requiring excessive space and without increasing in an expense for material and the number of production process and by reducing the possibility of cracks and peeling in a hard synthetic resin layer. - 特許庁

熱溶着用電極の荷重に気を使わなくても熱溶着用電極と抵抗発熱体の受電部との接触が安定する熱融着方法と、この熱融着方法に用いられ、受電部が異常に温度上昇したり、電極に余剰樹脂が付着することを防ぐ構造からなる熱融着用電極を提供する。例文帳に追加

To provide a thermal fusing method stabilizing the contact of a thermal fusing electrode and a resistance heating element with a receiving part even if not caring about the load of the thermal fusing electrode, and the thermal fusing electrode used in the thermal fusing method and comprising a structure for preventing the abnormal temperature rise in the receiving part and adhesion of an excessive resin to the electrode. - 特許庁

酸不安定性基を有しポジ型レジストとして機能する樹脂、酸発生剤および溶剤などからなるレジスト組成物において、解像度に優れ、焦点深度余裕（ＤＯＦ）が広く、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が小さく、さらには感度が高いことから優れたパターン形状を形成できるたレジスト組成物を調製するための光酸発生剤およびそれを調製するための重合性単量体を提供する。例文帳に追加

To provide a photoacid generator for preparing a resist composition forming an excellent pattern shape because of excellent resolution, a wide margin of depth of focus (DOF), a small line edge roughness (LER) and further high sensitivity, and to provide a polymerizable monomer for preparing the photoacid generator in the resist composition composed of a resin having an acid unstable group and functioning as a positive resist, the acid generator and a solvent, etc. - 特許庁