レチクルの熱膨張変形に起因するパターンの投影像の歪みを補正する。例文帳に追加

To correct the distortion of a pattern- projected image due to the thermal expansion deformation of reticle. - 特許庁

レチクルの熱膨張に起因するパターンの投影像の歪みを補正する。例文帳に追加

To correct the distortion of a pattern-projected image due to the thermal expansion of reticles. - 特許庁

ウエハステージ２３の基準板３６上に、前記各レチクルパターンＲＰ１，ＲＰ２の投影光学系１１を介した投影像に各別に受光する第１センサパターン及び第２センサパターンを設ける。例文帳に追加

A first sensor pattern and a second pattern which respectively receive the projected image of each reticle pattern RP1 and RP2 through a projecting optical system 11 are arranged on a reference plate 36 of a wafer stage 23. - 特許庁

マスクパターンの投影像の光強度分布をシミュレーションし、該シミュレーションによって得られた光強度分布に基づいて基板上で所定の光強度を満足する投影像の面積を算出し、該投影像の面積に基づいてパターン形成条件を調整するように構成する。例文帳に追加

A light intensity distribution of a projection image of a mask pattern is simulated, the area of a projection image satisfying specified light intensity on a substrate is calculated according to the light intensity distribution obtained by the simulation, and pattern formation conditions are adjusted according to the area of the projection image. - 特許庁

前記第１レチクルパターンＲＰ１の投影像を前記第１センサパターンを介して検出する位置検出時には、前記第２センサパターンを介して前記第２レチクルパターンＲＰ１の投影像における一定面積の領域内の光量変化を監視し、その監視結果に基づいて前記位置検出の結果を規格化する。例文帳に追加

At the time of position detection for detecting the projected image of the first reticle pattern RP1 through the first sensor pattern, light quantity change within a region whose area is fixed in the projected image of the second reticle pattern RP1 is monitored through the second sensor pattern, and the result of the position detection is specified based on the monitored result. - 特許庁

マスクパターンの投影像の転写位置を高精度化し、スループットを向上させつつより微細な半導体デバイスを製造する。例文帳に追加

To manufacture a finer semiconductor device by transfer position of the projected image of a mask pattern with high degree of accuracy and by improving the throughput. - 特許庁

従来は、直ちにフイルターリング５処理に入る為、人間の手の甲の静脈パターン以外の物体の影像の認識受人が可能となる。例文帳に追加

Conventionally, since filtering 5 is immediate started, images of objects other than the venous patterns of the back of the hand could be recognized and received. - 特許庁

当該投影像の重畳部分が適正露光量となり、この部分がデバイスパターン４１ｂとなる。例文帳に追加

In this case, the superimposed parts of the projected images can have the proper exposure, and the parts can be obtained as the device patterns 41b. - 特許庁

本発明の投影システムでは、結像面に集束した投影像が得られるようにレチクル上のパターン面を照明する。例文帳に追加

In the present projection system, the pattern surface on the reticle is lightened so that a projected image that focuses on an image-forming surface can be obtained. - 特許庁

基板上におけるパターン群の投影像の転写位置は、露光装置のデフォーカス量によって変動する。例文帳に追加

The transfer position of the projected image of the pattern group on a substrate varies by the defocus amount of the exposure apparatus. - 特許庁

そして、影像一致率が所定の閾値を上回っている場合には、静脈認証機能によって、取得された静脈パターンとデータベースに登録されている静脈パターンとの照合処理が実行される。例文帳に追加

When the image coincidence rate exceeds the predetermined threshold, a checking process between an acquired vein pattern and a vein pattern registered in a database is executed by vein authentication function. - 特許庁

第１走査露光と第２走査露光とでは、ウエハ上でマスクのパターン４１ａの投影像の一部が重なるように、前記パターンの転写位置を前記第２方向にずらす。例文帳に追加

At the first scanning exposure and second scanning exposure, the transferring positions of the patterns are shifted to the second direction so that one part of the projected images of patterns 41a of the mask overlaps on the wafer. - 特許庁

露光用光源１１からの露光光をパターンに対して照射するとともに、その照射により得られたパターンの投影像を感光性基板２４上に結像させるようにする。例文帳に追加

A pattern is irradiated with exposure light emitted from an exposure light source 11, and the projected image of the pattern obtained by irradiation with exposure light is formed on a photosensitive substrate 24. - 特許庁

２枚のマスク４，７を照明したときに、投影光学系１５によって像面１８よりも下方に形成される２次元格子パターン群８の投影像の各パターン像の位置関係から、投影光学系１５の収差を求める。例文帳に追加

When the two masks 4, 7 are illuminated, the aberration of the projection optical system 15 is measured on the basis of the positional relationship between individual pattern images projected from the lattice pattern groups 8, which are formed below the image surface 18 through the projection optical system 15. - 特許庁

光源２からの照明光ＩＬによってレチクルパターンＲＰが投影光学系１を介してセンサパターンＳＰ上に投影された投影像の光量を、照明条件毎の焦点位置を計測する。例文帳に追加

A reticle pattern RP is projected on a sensor pattern SP through a projection optical system 1 by illumination light IL from an optical source 2 to form a projection image. - 特許庁

プロジェクタ１１により複数のストライプパターンを対象物１０に投光し、投光系と主点を異なる位置に配置したカメラ１２にて、対象物１０上のパターン投影像を撮像する。例文帳に追加

A plurality of stripe patterns are projected to the object 10 by a projector 11, and a pattern projection image on the object 10 is imaged by a camera 12 arranged at a position having a main point differing from a projection system. - 特許庁

本発明の光学特性測定具は、照明光に基づき照明されかつフレーム付き眼鏡レンズ１２を介して投影された光学特性測定用パターン１３のパターン投影像１７をデジタルカメラ１９を用いて撮像するために使用され、フレーム付き眼鏡レンズ１２を係止しかつパターン投影像１７が投影されるスクリーン１０が設けられた係止衝立て４、５を有する。例文帳に追加

This optical characteristic measuring jig is used for imaging, by using a digital camera 19, a pattern projection image 17 of an optical characteristic measuring pattern 13 illuminated based on illumination light and projected through the framed spectacle lens 12, and has locking screens 4, 5 having a screen 10 for locking the framed spectacle lens 12, and projecting thereon the pattern projection image 17. - 特許庁

そして、この補正した設定値に基づいて、レチクルパターンＲＰ１，ＲＰ２の投影像をスキャンさせて、その投影像を受光センサ２７により検出する。例文帳に追加

Then, based on the corrected set value, the projection image of the reticle patterns RP1 and RP2 is scanned, and the projection image is detected by a photo reception sensor 27. - 特許庁

抽出部は、投影部により生成される複数の路面投影像において複数のカメラの視野が重複する共通視野領域から、路面投影像間で互いに一致する画像パターンを抽出する。例文帳に追加

The extraction unit extracts image patterns matching each other between road surface projection images from a common visual field area in which visual fields of plural cameras overlap each other in the plural road surface projection images generated by the projection unit. - 特許庁

さらに、上述したレンズのキャリブレーション用パターンを用い、レンズを介したキャリブレーション用パターンの投影像を撮像して画像を生成するとともに、画像に基づいてレンズのキャリブレーションに必要な情報を取得する。例文帳に追加

Moreover, an image is generated by picking up a projection image of the pattern for calibration via the lens while using the pattern for calibration of the lens, and information required for the calibration of the lens is acquired on the basis of the image. - 特許庁

そして、各パターンＲＭｐ１〜ＲＭｐ４、ＲＭｓ１、ＲＭｓ２を露光光により照明し、そのパターンの投影光学系を通過した投影像を、ウエハステージ上に配設された基準板上の開口部を介して受光センサで検出する。例文帳に追加

Then, each of the pattern RMp1-RMp4, RMs1, and RMs2 is illuminated with exposing lights, and projected images passing through the projecting optical system of the patterns are detected through openings on a reference board arranged on a wafer stage by a light-receiving sensor. - 特許庁

露光装置による投影像が解像限界に応じた大きさに形成される透光領域である基本パターン８に、透光領域内の一部を遮光して残りの透光領域を複数の部分透光領域１６に分割する補助パターン１０を合成する。例文帳に追加

A basic pattern 8 being a light-transmitting region where a projection image by an exposure device is formed in the size corresponding to the resolution limit is combined with an auxiliary pattern 10 that shields part of the light-transmitting region against light and divides the residual light-transmitting region into a plurality of partial light-transmitting regions 16. - 特許庁

即ち、縮小投影露光法を用いて半導体基板２１上の転写パターンへレチクル２０上のマスクパターンの投影像を重ね合わせる際に、半導体基板上の転写パターンにおける露光ショット領域の並進シフトの測定値に応じて、露光ショット領域の回転シフトを補正する。例文帳に追加

Specifically, when superposing a projection image of a mask pattern on a reticle 20 on a transfer pattern on a semiconductor substrate 21 using a reduced projection exposure method, the rotational shift in an exposure shot region is corrected in accordance with a measurement value of a transitional shift in the exposure shot region in a transfer pattern on the semiconductor substrate. - 特許庁

投影光学系は、マスク上の第３の向きと第１部分上の第１の向きとが光学的に対応するようにパターンの第１投影像を第１部分上に形成し、マスク上の第３の向きと第２部分上の第２の向きとが光学的に対応するようにパターンの第２投影像を第２部分上に形成する。例文帳に追加

The projection optical system forms a first projection image of the pattern on the first portion so that the third heading on the mask and the first heading on the first portion may optically correspond, and forms a second projection image of the pattern on the second portion so that the third heading on the mask and the second heading on the second portion may optically correspond. - 特許庁

この処理により登録文字数と同じ数の投影像が得られると、処理部１１は、これら投影像を用いて各ドット文字毎の認識対象領域を設定し、各領域内の画像をＲＯＭ１２内のモデルパターンと照合して、ドット文字列の良否を判定する。例文帳に追加

When the same number of projected images as the registered number of characters are obtained by this processing, the processing part 11 sets areas to be recognized by every dot character by using the projected images and determines quality of the dot character string by collating the images in the respective areas with a model pattern in a ROM 12. - 特許庁

また、撮影により取得された画像に基づいて、試験用基板９１上の枠パターンに対する投影像ＳＰＩの相対位置のずれを計測し、そのずれを補正する。例文帳に追加

Relative positional shifts of the projection images SPI with respect to a frame pattern on the testing substrate 91 are also measured based on the images acquired by the photographing, and the shifts are corrected. - 特許庁

ほぼ真空紫外域のような短波長の露光ビームを使用する場合にも、簡便に、所定のセンサを用いてレチクルパターンの投影像の位置や照度均一性等の露光に必要な情報を正確に計測する。例文帳に追加

To simply and accurately measure the information required for exposure such as a position of a projection image of a reticle pattern or the uniformity of illuminance by using a prescribed sensor, when using an exposure beam of a short wavelength almost like a vacuum ultraviolet region. - 特許庁

これにより、第１レチクルＲ１の熱膨張変形に起因する第１レチクルＲ１のパターンの投影像の歪みを補正することが可能となる。例文帳に追加

As a result, the distortion of a projected image of a pattern of the first reticle R1 due to the thermal expansion deformation of the first reticle R1 can be corrected. - 特許庁

ここで、レチクルＲの熱膨張変形に応じて照明光ＩＬを変調することにより、レチクルの熱膨張に起因するパターンの投影像の歪みを補正することが可能になる。例文帳に追加

Then the distortion of a pattern-projected image due to the thermal expansion of the reticle can be corrected by modulating the illumination light IL according to the thermal expansion deformation of the reticle R. - 特許庁

映像解析部８４は、撮像装置１７からの動作制御用カードの撮影像を取り込んで、映像データと登録パターンとを比較するマッチングを行い、比較結果を主制御部８８に出力する。例文帳に追加

An image analyzing section 84 captures a photographed image in an operation control card from an imaging device 17, performs matching by comparing image data with a registered pattern, and outputs the result of the comparison to a main control section 88. - 特許庁

この投影により、ワークＷ０の表面のうち、画像処理により欠陥として検出された範囲が、領域ＲＰの投影像によるマーキングパターンＭにより明示される。例文帳に追加

A range detected as the defect by image processing is defined by a marking pattern M by the projected image in the area RP among a surface of the workpiece W0 with regard to the projection. - 特許庁

微少ミラーを２次元配列したミラーデバイスを用いたパターン描画装置において、感光剤の塗布された基体上への投影像をイメージセンサで観察・測定する際に、正確かつ精細に画像データを取得する。例文帳に追加

To acquire accurately and precisely image data when observing and measuring an image projected onto a base body with a photosensitive agent applied thereto, by using an image sensor, in a pattern drawing device using a mirror device in which minor mirrors are arranged in two dimensional manner. - 特許庁

半導体装置のリソグラフィー工程において、レジスト膜中に投影されるパターン(投影像)が光線の回折により、ぼやけて大きく変形した像が投影される問題を解決できるマスク及び露光方法を提供する。例文帳に追加

To provide a mask and exposing method which can solve a problem that a pattern (projected image) projected onto a resist film is dim and is significantly deformed due to refraction of light in a lithography process of a semiconductor device. - 特許庁

受光面Ｒに物体を載置すると、ホログラム再生光により線状パターンが投影されるので、その投影像を撮影して物体の三次元形状測定を行う。例文帳に追加

When an object is placed on the light receiving surface R, a linear pattern is projected by hologram reconstructing light to image a projection image to measure a three-dimensional shape of the object. - 特許庁

投影像の線幅のピッチ依存性に関する光学特性を、計測用のパターンの種類を多くすることなく、実質的に広いピッチ範囲で、かつ必要とするピッチの近くで計測できるようにする。例文帳に追加

To provide a method of measuring optical characteristic capable of measuring the optical characteristic related to pitch-dependence of the line width of a projected image within a substantially wide pitch range near a required pitch without the need for increasing kinds of a measurement pattern. - 特許庁

半導体素子等の超小型電子素子の作成に使用される投影照明系は、ますます微細化するパターンにより、マスク投影像の空間解像度の改善が求められている。例文帳に追加

To improve spatial resolution of a projected image of a mask so as to respond to increasingly finer patterns, by improving a projection illumination system used for manufacturing microelectronic devices such as semiconductor devices. - 特許庁

結像光束の一部が事実上遮蔽されるような構成の投影光学系を使用する場合に、転写されるパターンの忠実度の低下、又は投影像のコントラストの低下等を抑制する。例文帳に追加

To restrain lowering of fidelity of a transferred pattern, lowering of contrast of a projection image, etc., when a projection optical system which is constituted with a part of imaging luminous flux being actually screened is used. - 特許庁

半導体発光装置の光出射面の外周端（エッジ）を直線状に形成することにより該エッジの投影像で形成される配光パターンのカットオフラインを理想的な直線状とし、よって所望の配光パターンを理想的な形状に形成することが可能な半導体発光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor light-emitting device for making in an ideal linear shape a cut-off line of a light distribution pattern with a projection image of an edge by linearly forming an outer periphery edge of a light-emitting face of the device, and hence, is capable of forming a given light distribution pattern in an ideal shape. - 特許庁

マスク上パターンの異なるｎ個の点の投影像の光強度を測定し、m個（ｍ＜ｎ）の既知の波面収差関数に対するｍ個の重み係数を未知数とするｎ個の連立方程式を解くことにより、投影レンズの収差を正確に求める、これに基づき収差特性を調整したり、又はマスク上パターンの寸法又は位置を補正する。例文帳に追加

Further, the position fluctuation and the like of the pattern on the mask are predicted based on characteristics obtained in this manner and are corrected for forming, thus accurately forming the circuit pattern. - 特許庁

光学式の投影露光装置を用いて、ワーキングレチクルＷＲ１，ＷＲ２から選択された複数の回路パターンユニットの投影像を所定の位置関係で基板上に転写することによって、デバイスを製造するためのワーキングレチクルＷＲ，ＷＲ１を製造する。例文帳に追加

Working reticles WR, WR1 for manufacturing the device are manufactured by transferring projected images of a plurality of the circuit pattern units selected from the working reticles WR1, WR2 on a substrate with a prescribed positional relation by using an optical stepper. - 特許庁

ミラーデバイス１０３で生成された画像パターンを感光剤の塗布された基体１０７上に投影し、この投影像を撮像光学系１０９とハーフミラー１０５と投影光学系１０６によってイメージセンサ１１０に結像させる。例文帳に追加

An image pattern generated by the mirror device 103 is projected onto the base body 107 applied with the photosensitive agent, and imaged to the image sensor 110 by an imaging optical system 109, a half mirror 105 and a projecting optical system 106. - 特許庁

レンダリングエンジン１１は、操作者から操作に従って、前記人体モデルを観察する際の視点位置を三次元空間内に決定し、決定された視点位置から人体モデルを見た場合に視点位置に映じる投影像であって、その表面にテクスチャパターンが貼りつけられたものを表示する。例文帳に追加

A rendering engine 11 decides the viewpoint within the three-dimensional space during the observation of the model of the human body according to the operation from an operator, and the engine displays the projected image, on the surface of which the texture pattern is pasted, to the viewpoint, when the human body model is observed from the decided viewpoint. - 特許庁

液晶表示装置を用いずに、同一の体積ホログラム感光材料中に、立体模型等の立体物の像と平面の文宇・画像等のカラーパターンのホログラム像、及び、その影像とが個別情報として重畳記録されたホログラム記録フィルム。例文帳に追加

To obtain a hologram recording film in which a stereoscopic image such as a three-dimensional model or the like, hologram images of color patterns such as two-dimensional characters, images or the like, and shadow images of the patterns superposed and recorded as individual information in one volume hologram photosensitive material without using a liquid crystal display device. - 特許庁

レチクルステージ１９上に保持されたレチクル１８と、ウエハステージ２６上に保持されたウエハ２５は、ステージ１９，２５によりＹ方向に沿って移動され、レチクル１８のパターンの投影光学系２４による投影像がウエハ２５上に逐次転写される。例文帳に追加

The reticle 18 held on a reticle stage 19 and a wafer 25 held on a wafer stage 26 are moved by the stages 19 and 26 respectively in a Y direction, and the projection image of the pattern on the reticle 18 by a projection optical system 24 is successively transferred on the wafer 25. - 特許庁