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欠測区の英語
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「欠測区」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 17件
V(n)がVth未満のとき、区間nは間欠計測区間と認定され、計測周期は前の周期に拘わらずC(n)=C1に設定される。例文帳に追加
When V(n) is less than Vth, a section (n) is acknowledged as an intermittent measurement section, and a measurement period is set to C(n) = C1 regardless of the previous period. - 特許庁
欠陥部位特定工程では、前工程の欠陥区画特定工程において構造欠陥が存在するとされる区画素子に限って、その長手方向Lに沿って、隣接する区画素子21との間の抵抗値を測定する。例文帳に追加
In a defective part specification step, a resistance value between partition elements 21 adjacent to each other along the longitudinal direction L of the partition element is measured only in the partition element determined as an element with a structural defect in a defect partition specification step being a preceding step. - 特許庁
V(n)≧Vthのときは連続計測区間と認定され、次に直前の計測区間が間欠計測区間であるか否か(すなわち周期C(n−1)=C1か否か)の判定が行われる(ステップS105)。例文帳に追加
In the case of V(n) ≥ Vth, it is acknowledged as a continuous measurement section, thus judging whether a measurement section immediately before is an intermittent measurement section or not (namely, period C(n-1) = C1 or not) (step S105). - 特許庁
測定条件の変化によらず安定して、表面欠陥と内部欠陥を区別して検出することが可能な漏洩磁束探傷方法を提供する。例文帳に追加
To provide a leakage flux flaw detecting method for stably discriminating a surface defect from an internal defect and performing detection regardless of measuring conditions. - 特許庁
制御パラメータを測定し(ステップ415)、この制御パラメータの値に基づいて新たな基地局との接続までの目標欠落時区間を決定し(ステップ420)、欠落時区間を調整する(ステップ425)。例文帳に追加
A control parameter is measured (step 415), a target drop time period until the connection with a new base station is determined based on this control parameter (step 420) and the drop time period is adjusted (step 425). - 特許庁
半導体ウェーハの一面に存在する凸状の欠陥と凹状の欠陥とを区別して、それぞれの欠陥のサイズを正確に測定することが可能な半導体ウェーハの検査方法を提供する。例文帳に追加
To provide an inspection method of a semiconductor wafer capable of distinguishing between the protruded flaw and recessed flaw present on one side of the semiconductor wafer to accurately measure the sizes of the respective flaws. - 特許庁
別の切欠き4の側面10が、4.8mmの測定区間において10μm以下の平均粗さ値を有しているようにした。例文帳に追加
A side surface 10 of another notch 4 has an average roughness valve of not more than 10μm in a measurement section of 4.8 mm. - 特許庁
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「欠測区」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 17件
被検体に存在する周期性欠陥を検出するための信号処理方法であって、前記周期性欠陥を複数周期以上含んだ測定信号を、一定間隔で区切り、前記測定信号のデータ列方向に対して直交する方向に、前記区切った測定信号を並べて2次元データ列を作成し、その2次元データ列をパターン処理して欠陥を認識する。例文帳に追加
This signal processing method for detecting the periodic defects existing in a specimen partitions measured signals including the periodic defects with a plurality of periods, at a fixed interval, arrays the partitioned measured signals along a direction orthogonal to a data sequential direction of the measured signals to prepare a two-dimensional data sequence, and pattern-processes the two-dimensional data sequence to recognize the defects. - 特許庁
半導体ウェーハの一面に存在する突起状欠陥とへこみ状欠陥とを区別して検出し、へこみのサイズを正確に測定することが可能な半導体ウェーハの検査方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method of inspecting a semiconductor wafer in which a projection defect and a hollow defect present on one surface of the semiconductor wafer are discriminatingly detected and the size of a hollow is accurately measured. - 特許庁
鉄道車両の速度測定を行う区域とそうでない区域とを容易にかつ正確に識別できるようにし、また、線路に配置されたRFIDタグからの情報の受信に誤りまたは欠落が生じた場合に鉄道車両の速度測定精度が低下するのを防止する。例文帳に追加
To easily and accurately identify an area where a railroad vehicle speed measurement is carried out and an area where a railroad vehicle speed measurement is not carried out and to prevent a railroad vehicle speed measurement accuracy from being reduced when either error or defect occurs in receiving information from RFID tags arranged at the railroad. - 特許庁
直前の周期C(n−1)が間欠計測区間であるときは(同図においてYES)、計測周期はC(n)=C2に切り替えられ、重み係数はW(n)=Cmに設定される(ステップS106)。例文帳に追加
When the period C(n-1) immediately before is the intermittent measurement section (YES in figure), the measurement period is switched to C(n) = C2, and the weighting factor is set to W(n) = Cm (step S106). - 特許庁
搬送される被測定モジュールの大きさが区々であっても、光漏れすることなく異なる大きさのモジュールに対する測定に不可欠の遮光をする方法と、このための装置を提供すること。例文帳に追加
To provide a light-shielding method which is indispensable to the measurement of modules, will not cause leakage of light having different sizes, even if the sizes of the modules, which are transferred and are measured, are diverse, and to provide a device for this light-shielding method. - 特許庁
半導体ウェーハに形成された結晶欠陥の種類を区別して評価するのに、より簡便で迅速な半導体ウェーハの測定方法を提供する。例文帳に追加
To provide a relatively simple and rapid measurement method for a semiconductor wafer in order to distinguish and evaluate the kind of a crystal defect formed in the semiconductor wafer. - 特許庁
次に、抵抗値の測定によって区画素子内で狭い範囲に絞り込まれた、構造欠陥Rの存在する領域を画像撮像手段によって撮像する。例文帳に追加
Next, an image imaging means images a region that is narrowed into a narrow range inside the partition element by the measurement of the resistance value and has a structural defect R. - 特許庁
ベリファイ付きデータライトと交替処理を行う記録再生システムにおいて、ディスク状記録媒体に生じた傷などに起因した欠陥区間を予測して無駄なデータライト・ベリファイ処理の省略化を図る。例文帳に追加
To achieve elimination of useless data write verification processing by predicting a defective section resulting from a flaw produced in a disk recording medium in a recording and reproducing system which performs data write with verification and alternating processing. - 特許庁
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