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照射脆化の英語
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英訳・英語 irradiation embrittlement
「照射脆化」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 30件
照射脆化監視試験片の再生方法例文帳に追加
REGENERATING METHOD FOR IRRADIATION EMBRITTLEMENT MONITORING TEST PIECE - 特許庁
燃料集合体からの放射能の照射量が大きい胴部領域に溶接線を無くすことにより、照射誘起型の応力腐食割れの可能性を低減させると共に、溶接部からのデルタフェライトの析出を減らして熱脆化や照射脆化を低減することができる炉心槽を提供する。例文帳に追加
To provide a reactor core barrel capable of reducing the possibility of stress corrosion cracking of the type induced by irradiation by eliminating weld lines from a trunk part area exposed to a large amount of radiation from a fuel assembly and reducing thermal embrittlement and irradiation embrittlement by reducing the separation of delta ferrite from weld parts. - 特許庁
単結晶半導体基板は、加速されたイオンの照射とそれに伴う脆化層の形成、及び熱処理により、単結晶半導体を分離する。例文帳に追加
The single-crystal semiconductor is separated from the single-crystal semiconductor substrate by irradiation with accelerated ions, formation of a fragile layer by the ion irradiation, and heat treatment. - 特許庁
高温染色時及び日光照射や洗濯による脆化問題がなく、ソフトな風合いで、高伸縮性に優れた交編丸編地を提供する。例文帳に追加
To provide an interknitted round fabric which does not cause an embrittlement problem when dyed at high temperature and when irradiated with solar light and washed, and has a soft touch and excellent high elasticity. - 特許庁
高温染色や日光照射や洗濯による脆化に対して問題のない、薄くソフト風合いで高伸縮性に優れた交編経編地を提供する。例文帳に追加
To provide a thin interknitted warp knit having excellent resistances to a high-temperature dyeing, sunlight irradiation and laundry, a soft feeling and excellent in elasticity. - 特許庁
半導体基板と支持基板とを、絶縁層を間に挟んで重ね合わせて接合した後、半導体基板にレーザビームを選択的に照射して脆化層の脆化を進行させる。例文帳に追加
After bonding the semiconductor substrate and a supporting substrate with the insulating layer interposed therebetween, the semiconductor substrate is selectively irradiated with a laser beam; accordingly, embrittlement of the embrittlement layer progresses. - 特許庁
半導体ウェーハの内部に焦点を合わせてレーザー光を照射し、多光子吸収により半導体ウェーハの内部に脆化層を形成する脆化層形成工程と、脆化層を起点として半導体ウェーハを2枚に分離して、半導体ウェーハを薄厚化する薄厚化工程とを含む半導体ウェーハの薄厚化方法である。例文帳に追加
A semiconductor wafer thinning method comprises an embrittlement layer formation step of irradiating a semiconductor wafer with laser beam while focusing on an inside of the semiconductor wafer and forming an embrittlement layer inside the semiconductor wafer by multiphoton absorption and a thinning step of thinning the semiconductor wafer by separating the semiconductor wafer into two using the embrittlement layer as a starting point. - 特許庁
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Weblio英和対訳辞書での「照射脆化」の英訳 |
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照射脆化
Weblio例文辞書での「照射脆化」に類似した例文 |
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「照射脆化」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 30件
脆性材料基板にレーザビームを照射して、互いに交差する2方向に沿って脆性材料基板を割断する方法において、レーザ出力や送り速度を途中で変化させることなく、交点における欠けやソゲの発生を防止する。例文帳に追加
To prevent the occurrence of chipping and splitting at a crossing point without changing a laser output and a feeding speed on the way in a method for dividing a brittle material substrate along two directions crossing each other by irradiating the brittle material substrate with a laser beam. - 特許庁
熱影響部幅が狭小と均一化を図ると共に、接合欠陥のない良質な再生試験片が得られる新規な照射脆化監視試験片の再生方法の提供。例文帳に追加
To provide a new regenerating method for irradiation embrittlement monitoring piece capable of minimizing and uniforming a thermally influenced part width and providing a regeneration test piece of good quality free from connecting defect. - 特許庁
このエネルギー照射により、溶接箇所の脆性層600A、600B中に強化層700を形成することで、クラックの成長による電解液のリーク等の問題を回避する。例文帳に追加
Problems of electrolyte solution leakage or the like due to growth of cracks can be prevented by forming a reinforcing layer 700 in brittle layers 600A, 600B of the welded parts by the energy irradiation. - 特許庁
なお、イオンドーピング装置により水素ガスから生成される、少なくともH_3^+イオンを含む複数種のイオンを照射することにより半導体基板に形成する脆化層を用いて、半導体基板から半導体膜を分離する。例文帳に追加
A semiconductor film is separated from the semiconductor substrate using the embrittlement layer formed on the semiconductor substrate by irradiation with a plurality of kinds of ions produced from a hydrogen gas by an ion doping device and including at least H_3^+ ions. - 特許庁
ボンド基板となる半導体ウエハには、その表面に絶縁層を形成し、加速されたイオンの照射によりその内部に脆化領域を形成する。例文帳に追加
An insulating layer is formed over a surface of a semiconductor wafer to be the bond substrate and irradiation with accelerated ions is performed so that an embrittlement region is formed inside the wafer. - 特許庁
そして、前記脆化領域を形成する工程において、前記イオンとして質量分離されていないイオン種を用いるとともに、前記イオンを照射する際の前記単結晶半導体基板の温度を250℃以上に設定する。例文帳に追加
In the step of forming the embrittled region, ion species which are not mass-separated are used as the ions and a temperature of the single crystal semiconductor substrate is set to 250°C or higher during irradiation with the ions. - 特許庁
次に、ガラス基板の表面に、ガスクラスタイオンを照射することによりガラスを劣化させた脆性層、又は柔軟な物質で表面を被覆した被覆層からなる緩衝層を生成する。例文帳に追加
Next, a buffer layer including a brittle layer in which the glass is deteriorated by irradiating a gas cluster ion or a coating layer whose surface is coated with a soft substance is formed on the surface of the glass substrate. - 特許庁
染色加工時や日光照射による脆化の問題が無く、また、糸切れを心配せず容易に起毛もかけることができ、さらに、伸縮回復性に優れたウォータースポーツウェア用伸縮性編地を提供する。例文帳に追加
To provide an elastic knitted fabric for a water sports wear without having a problem of becoming fragile in dye-processing or on irradiating with sunlight, also easily raising without worrying yarn cutting and further excellent in elastic recovery. - 特許庁
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