TERMINAL BLOCK COVER FOR GAS METER, AND THE GAS METER例文帳に追加

ガスメータ用端子台カバーおよびガスメータ - 特許庁

To prevent the formation of step difference between a cover block 4 and a ditch block 1 and the looseness of the cover block 4 by preventing the separation of the cover block 4 from a cover support part 2 of the ditch block 1 even if a slight step difference is formed between the joined front and rear ditch blocks 1.例文帳に追加

継ぎ合わせた前後の溝ブロック１に僅かな段差ができた場合でも、蓋ブロック４が溝ブロック１の蓋支持部２から浮き上がらず、従って蓋ブロック４と溝ブロック１との段差が生じたり、蓋ブロック４のガタつきが生じないようにする。 - 特許庁

The substrate processor 500 includes an indexer block 9, antireflective film processing block 10, resist film processing block 11, developing processing block 12, resist cover film processing block 13, resist cover film removing block 14, cleaning/drying processing block 15, and interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を含む。 - 特許庁

The substrate processor 500 is provided with an indexer block 9, a reflection preventing film processing block 10, a resist film processing block 11, a resist cover film processing block 12, an inspection block 13, a development processing block 14, a resist cover film removing block 15, and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、レジストカバー膜用処理ブロック１２、検査ブロック１３、現像処理ブロック１４、レジストカバー膜除去ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

A resist cover film (the protecting film) is formed in the processing block for the resist cover film.例文帳に追加

レジストカバー膜用処理ブロックにおいて、レジストカバー膜（保護膜）が形成される。 - 特許庁

The outer cover is constituted of a material containing a styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer and the material constituting the outer cover further contains a polyolefin.例文帳に追加

外皮を構成する材料は、さらにポリオレフィンを含むものである。 - 特許庁

The substrate treatment equipment 500 comprises an indexer block 9, a treatment block 10 for antireflection film, a processing block 11 for a resist film, a developing block 12, a treatment block 13 for a resist cover film, a block 14 for removing the resist cover film and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を備える。 - 特許庁

In that case, after merging of the cover (2) with the book block (1), a measuring step of detecting the actual position of the cover (2) relative to the book block (1) is set.例文帳に追加

その際表紙（２）と中本（１）の結合の後に中本（１）に対する表紙（２）の実際位置を検出するための計測工程が設定される。 - 特許庁

In the resist cover film processing block 12, a resist cover film is formed on the resist film.例文帳に追加

レジストカバー膜用処理ブロック１２において、レジスト膜上にレジストカバー膜が形成される。 - 特許庁

In order to block the charnel house hole 34a, a small cover (stone plate) 40 is mounted on the cover stone.例文帳に追加

納骨穴３４ａを塞ぐために、蓋石の上に小蓋（石板）４０を載せる。 - 特許庁

The substrate treating device 500 includes an indexer block 9, a treatment block 10 for reflection prevention films, a treatment block 11 for resist films, a development treatment block 12, a treatment block 13 for resist cover films, a resist cover film removal block 14, and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を備える。 - 特許庁

The substrate-treating device 500 comprises: an indexer block 9; a treatment block 10 for reflection prevention films; a treatment block 11 for resist films; a development treatment block 12; a treatment block 13 for resist cover films; a removal block 14 of resist cover films; and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を含む。 - 特許庁

The substrate processing equipment 300 comprises an indexer block 9, an antireflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a resist cover film processing block 13, a resist cover film removing block 14, and a first interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置３００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４および第１のインターフェースブロック１５を備える。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 comprises an indexer block 9, a processing block 10 for antireflection film, a processing block 11 for resist film, a developing block 12, a processing block 13 for resist cover film, a block 14 for removing resist cover film and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を備える。 - 特許庁

The substrate processing apparatus includes an indexer block, a processing block for a reflection preventing film, a processing block for a resist film, a developing processing block, a processing block for a resist cover film, a resist cover film removing block, and an interface block.例文帳に追加

基板処理装置は、インデクサブロック、反射防止膜用処理ブロック、レジスト膜用処理ブロック、現像処理ブロック、レジストカバー膜用処理ブロック、レジストカバー膜除去ブロックおよびインターフェースブロックを含む。 - 特許庁

The substrate processor 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development block 12, a resist cover film processing block 13, a resist cover film removing block 14, and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を備える。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 includes: an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a resist cover film processing block 13, a resist cover film removal block 14 and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を含む。 - 特許庁

The cover 7 regulates an opening of the drain valve 62 of the drain block 6.例文帳に追加

カバー７は、排水ブロック６の排水弁６２の開度を規制する。 - 特許庁

The device block 3 includes a cover surface 3a for covering the installation surface 9a.例文帳に追加

ブロック３は、取付面９ａを覆う被覆面３ａを含む。 - 特許庁

SIDE DITCH COVER HAVING ROAD BOUNDARY BLOCK, SIDE DITCH, AND METHOD OF PRODUCING THE SAME例文帳に追加

道路境界ブロックを装備した側溝蓋と側溝及びその施工方法 - 特許庁

The upper end opening 5 of a side ditch block 2 is covered with a cover slab 7.例文帳に追加

側溝ブロック２の上端開放部５を蓋版７で閉蓋する。 - 特許庁

To provide a U-groove block for not generating a shaking noise by an automobile or the like running on a cover plate block by eliminating an independent distortion between a body block and the cover plate block and a method for molding the same.例文帳に追加

本体ブロックと蓋版ブロック間の独立した歪みをなくし、蓋版ブロック上を走行する自動車などによってガタ付き騒音が発生しないＵ溝ブロックとその成形方法を提供する。 - 特許庁

A block 64 for an attachment is disposed between the main block 65 and a cover block 63, all of which are formed into a laminated structure.例文帳に追加

アタッチメント用ブロック64をメインブロック65とカバーブロック63との間に配して、各ブロックを積層構造とする。 - 特許庁

The substrate-treating apparatus comprises a treatment block for reflection prevention films, a treatment block for resist films, and a treatment block for resist cover films.例文帳に追加

基板処理装置は、反射防止膜用処理ブロック、レジスト膜用処理ブロックおよびレジストカバー膜用処理ブロックを含む。 - 特許庁

A door block is provided on the front-face side of a face-replacement block which mounts the reel device or the like, and a pay-out block is attached to the door block so as to cover the back surface side of the face-replacement block.例文帳に追加

このリール装置等を搭載する面替えブロックの前面側にドアブロックが設けられ、面替えブロックの背面側を覆うようにして払出ブロックがドアブロックに取り付けられている。 - 特許庁

A door block is provided on the front surface side of a face replaceable block which loads the reel device or the like, and the door block is fitted with a putting-out block in a manner to cover the back surface side of the face replaceable block.例文帳に追加

このリール装置等を搭載する面替えブロックの前面側にドアブロックが設けられ、面替えブロックの背面側を覆うようにして払出ブロックがドアブロックに取り付けられている。 - 特許庁

A door block 4 is provided on the front side of a surface replacing block 5 carrying the reel device 503 or the like and a put-out block 6 is mounted on the door block 4 so as to cover the rear side of the surface replacing block 5.例文帳に追加

このリール装置５０３等を搭載する面替えブロック５の前面側にドアブロック４が設けられ、面替えブロック５の背面側を覆うようにして払出ブロック６がドアブロック４に取り付けられている。 - 特許庁

A door block 4 is disposed on the front side of a face-changing block 5 on which the reel device 503, etc. are mounted, and a put-out block 6 is attached to the door block 4 in such a way as to cover the back side of the face-changing block 5.例文帳に追加

このリール装置５０３等を搭載する面替えブロック５の前面側にドアブロック４が設けられ、面替えブロック５の背面側を覆うようにして払出ブロック６がドアブロック４に取り付けられている。 - 特許庁

The substrate processor 500 comprises an indexer block 8, end-face cleaning processing block 9, anti-reflection film processing block 10, resist film processing block 11, developing processing block 12, resist cover film processing block 13, resist cover film removing block 14, cleaning/drying processing block 15, and interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック８、端面洗浄処理ブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

The substrate treating apparatus 500 includes an indexer block 9, a bevel treatment block 10, a treatment block 11 for an antireflection film, a treatment block 12 for a resist film, a development treatment block 13, a treatment block 14 for a resist cover film, and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、ベベル処理ブロック１０、反射防止膜用処理ブロック１１、レジスト膜用処理ブロック１２、現像処理ブロック１３、レジストカバー膜用処理ブロック１４およびインターフェースブロック１５を含む。 - 特許庁

The water purifier 1 includes a sealing cover 12 for covering the whole face of the carbon block filter 11 of carbon block water purification means 10A and the one end in an adhesion, and a water passing cover 13 adhered to the other end of the carbon block filter 11.例文帳に追加

これはカーボンブロック浄水手段１０Ａのカーボンブロックフィルタ１１とその一端の全面を密着状に塞ぐ密閉蓋１２があり、カーボンブロックフィルタ１１の他端に密着する通水用蓋１３がある。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 comprises: an indexer block 9; a processing block 10 for an antireflection film; a processing block 11 for a resist film; a development processing block 12; a processing block 13 for a resist cover film; a resist cover film removing block 14; a cleaning/drying processing block 15; and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

The substrate-treating device 500 comprises an indexer block 9, a treatment block 10 for antireflection films, a treatment block 11 for resist films, a development processing block 12, a treatment block 13 for resist cover films, a resist cover film removal block 14, a cleaning/drying treatment block 15, and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

The substrate-treating device 500 includes an indexer block 9; a treatment block 10 for reflection prevention films; a treatment block 11 for resist films; a development treatment block 12; a treatment block 13 for resist cover films; a resist cover film removal block 14; a cleaning/drying treatment block 15; and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を含む。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 includes an indexer block 9, a processing block 10 for reflection prevention films, a processing block 11 for resist films, a processing block 12 for resist cover films, a developing block 13, a resist cover film removal block 14, a cleaning/drying block 15, and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、レジストカバー膜用処理ブロック１２、現像処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を含む。 - 特許庁

A lower cover 12 is mounted over the bottom surface of the block section 3 of the body 2, and the lower cover 12 forms a lower heat medium space S2 for retaining the heat medium therein between the lower cover 12 and the bottom surface of the block section 3 of the body 2.例文帳に追加

ボディ2のブロック部3底面に、ボディ2のブロック部3底面との間に熱媒体を保持するための下部熱媒体空間S2を形成する下部カバー12が被せられている。 - 特許庁

To provide a mounting structure of a terminal cover allowing the terminal cover to be simply mounted on a terminal block only by plunging the terminal cover therein, and allowing the terminal cover to be removed by a simple operation on the condition that a tool such as a screw driver is used in removing the terminal cover from the terminal block.例文帳に追加

端子カバーを端子台の上に押し込むだけで簡単に装着でき、端子カバーを端子台から取り外す際には、ドライバーなどの工具を使うことを条件に、簡単な操作で端子カバーを取り外せるようにした端子カバーの取付け構造を提供。 - 特許庁

To provide a cover for a side ditch block that can individually cope with orders of side ditch block covers having upper surfaces with various patterns by preparing one side ditch block cover and shorten the production time for delivery from the order.例文帳に追加

一つの側溝ブロックの蓋で、様々な模様の上表面を持った側溝ブロックの蓋の注文に個別に対応でき、かつ注文からの作製納期も短縮可能な側溝ブロックの蓋を提供すること。 - 特許庁

A method for molding the U-groove block having one set of the body blocks 10 and the cover plate block 20 comprises the steps of previously molding the one block, and curing to harden the block.例文帳に追加

一組の本体ブロック１０と蓋版ブロック２０よりなるＵ溝ブロックを製造するとき、一方のブロックを先に成形して養生硬化させる。 - 特許庁

The surface changing block 5 is held between the door block 4 and the putout block 6, and the reel device 503 is housed inside the protective cover part 612 of the putout block 6.例文帳に追加

面替えブロック５はドアブロック４と払出ブロック６とに挟まれており、リール装置５０３は払出ブロック６の保護カバー部６１２内に収容されている。 - 特許庁

The face-changing block 5 is held between the door block 4 and the put-out block 6, and the reel device 503 is housed within a protection cover 612 of the put-out block 6.例文帳に追加

面替えブロック５はドアブロック４と払出ブロック６とに挟まれており、リール装置５０３は払出ブロック６の保護カバー部６１２内に収容されている。 - 特許庁

The face exchange block 5 is sandwiched by the door block 4 and the pay-out block 6, and the reel device 503 is accommodated in a protection cover 612 of the pay-out block 6.例文帳に追加

面替えブロック５はドアブロック４と払出ブロック６とに挟まれており、リール装置５０３は払出ブロック６の保護カバー部６１２内に収容されている。 - 特許庁

The cover member 21 is projected out from the base block 11, so that the overhanging amount of the base block 11 itself becomes small.例文帳に追加

また、蓋部材２１がベースブロック１１から突出するため、その分ベースブロック１１自体の張り出し量は小さくなる。 - 特許庁

A cover member 2 for the block K for a water valve is fixed so as not project the lower side of the peripheral part from the top of a block body 1.例文帳に追加

給水バルブ用ブロックＫの蓋部材２は、周縁部の下面側がブロック本体１の上面から突出しないように取り付けてある。 - 特許庁